[發明專利]光學系統中的、尤其是微光刻投射曝光設備中的光學布置

有效

• 申請號: 201080043766.8
• 申請日: 2010-09-22
• 公開（公告）號: CN102576141A
• 公開（公告）日: 2012-07-11
• 發明（設計）人: T.勞弗;A.索爾霍弗
• 申請（專利權）人: 卡爾蔡司SMT有限責任公司
• 主分類號: G02B7/18
• 分類號: G02B7/18;F16L59/06;F25D19/04;G03F7/20
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 邱軍

1.一種光學系統中的光學布置，尤其是微光刻投射曝光設備中的光學布置，包括：

至少一發熱子系統(110-810)，在所述光學系統操作期間發射熱；

第一熱屏蔽(120-820)，設置成至少部分吸收所述發熱子系統(110-810)所發射的熱；

第一冷卻裝置(130-830)，與所述第一熱屏蔽機械接觸，并被設計為將來自所述第一熱屏蔽的熱散掉；以及

第二熱屏蔽(140-840)，至少部分吸收所述第一熱屏蔽(120-820)所發射的熱，所述第二熱屏蔽(140-840)同樣地與將來自所述第二熱屏蔽(140-840)的熱散掉的冷卻裝置機械接觸。

2.如權利要求1所述的光學布置，其特征在于：所述第二熱屏蔽(140-840)不與所述第一熱屏蔽機械接觸，或僅在所述第一冷卻裝置(130-830)的區域中與所述第一熱屏蔽機械接觸。

3.如權利要求1或2所述的光學布置，其特征在于：與所述第二熱屏蔽熱接觸的冷卻裝置是獨立于所述第一冷卻裝置(130-830)的第二冷卻裝置。

4.如權利要求3所述的光學布置，其特征在于：所述第一冷卻裝置和所述第二冷卻裝置連接到不同的冷卻回路。

5.如權利要求1或2所述的光學布置，其特征在于：與所述第二熱屏蔽熱接觸的冷卻裝置是所述第一冷卻裝置(130-830)。

6.如前述權利要求中的任一項所述的光學布置，其特征在于：其具有至少三個熱屏蔽(220、240-241；320、340-342；420、440-442)，尤其是至少四個熱屏蔽(320、340-342；420、440-442)。

7.如前述權利要求中的任一項所述的光學布置，其特征在于：至少一個所述熱屏蔽、尤其是所有的所述熱屏蔽，至少在一些區域中具有第一涂層(460、660)，所述第一涂層(460、660)具有最多0.5、尤其是最多0.2，更尤其是最多0.05的發射率，其適配于冷卻器溫度或針對所述發熱子系統(110-810)所發射的熱。

8.如權利要求7所述的光學布置，其特征在于：所述第一涂層(460、660)至少設置在相關熱屏蔽的背離所述發熱子系統(410、610)的那一側上。

9.如權利要求7所述的光學布置，其特征在于：所述第一涂層(460、660)至少設置在相關熱屏蔽的面對所述發熱子系統(450、650)的那一側上。

10.如前述權利要求中的任一項所述的光學布置，其特征在于：所述第一熱屏蔽(420、620)至少在一些區域中具有第二涂層(470、670)，其針對所述發熱子系統(110-810)所發射的熱具有至少0.5、尤其是至少0.8、更尤其是至少0.95的發射率。

11.如權利要求10所述的光學布置，其特征在于：所述第二涂層(470、670)至少設置在相關熱屏蔽(420、620)的面對所述發熱子系統(410、610)的那一側。

12.如前述權利要求中的任一項所述的光學布置，其特征在于：所述熱屏蔽(530、540-542、630、640-642)形成至少一個部分殼體，其具有與所述布置的周邊不同的氣體環境。

13.如權利要求12所述的光學布置，其特征在于：所述部分殼體中包含的氣體的導熱性比周邊氣體環境中包含的氣體的導熱性差。

14.如前述權利要求中的任一項所述的光學布置，其特征在于：所述第二熱屏蔽(140-840)具有對應于所述第一熱屏蔽(120-820)的幾何形狀。

15.如前述權利要求中的任一項所述的光學布置，其特征在于：所述第一熱屏蔽(720、820)至少在一些區域中以類似盒子或罩子的方式包圍所述發熱子系統(710、810)。

16.如權利要求1至14中的任一項所述的光學布置，其特征在于：還存在溫度敏感子系統，所述第一熱屏蔽(720、820)至少在一些區域中以類似盒子或罩子的方式包圍所述溫度敏感子系統。

17.如前述權利要求中的任一項所述的光學布置，其特征在于：所述第二熱屏蔽(740、840)至少在一些區域中以類似盒子或罩子的方式包圍所述第一熱屏蔽(720、820)。