[發(fā)明專利]取代酰胺化合物

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201080042593.8
• 申請日: 2010-09-24
• 公開（公告）號: CN102548965A
• 公開（公告）日: 2012-07-04
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 河南英次;高橋龍久;金山隆俊;福田悠太;貝澤弘行;近藤裕;瀨尾龍志;倉本和幸;岳一彥;坂本一志
• 申請（專利權(quán)）人: 安斯泰來制藥株式會社
• 主分類號: C07D207/34
• 分類號: C07D207/34;A61K31/341;A61K31/381;A61K31/401;A61K31/415;A61K31/42;A61K31/426;A61K31/427;A61K31/433;A61K31/44;A61K31/4439;A61K31/454;A61K
• 代理公司: 中原信達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11219
• 代理人: 王海川;穆德駿

1.一種式(I)的化合物或其鹽，

式中，

A為可以被取代的芳基或可以被取代的芳香族雜環(huán)基，

B為可以被取代的芳香族5元雜環(huán)基，

X為單鍵或-(CR^X1R^X2)_n-，

n為1、2、3或4，

R^X1和R^X2相互相同或不同，為H、鹵素、OH、-O-(可以被取代的低級烷基)或可以被取代的低級烷基、或者

R^X1和R^X2成為一體而為氧代(＝O)、或

R^X1和R^X2成為一體而為可以被取代的C_2-5亞烷基，

在此，n為2、3或4時，R^X1可以與鄰接的R^X1成為一體而形成新鍵，

Y¹、Y²、Y³、Y⁴和Y⁵相互相同或不同，為CR^Y或N，

R^Y相互相同或不同，為H、OH、鹵素、-O-(可以被取代的低級烷基)、-S-(可以被取代的低級烷基)、可以被取代的低級烷基、可以被取代的低級烯基或可以被取代的環(huán)烷基，

R¹和R²相互相同或不同，為H、鹵素、-O-(可以被取代的低級烷基)或可以被取代的低級烷基，

m為1、2或3，

R³為H或可以被取代的低級烷基，

R⁴為可以被取代的低級烷基、可以被取代的低級烯基、可以被取代的環(huán)烷基、可以被取代的芳基、可以被取代的雜環(huán)基或NR¹⁰¹R¹⁰²、或者

R³和R⁴可以成為一體而形成可以被取代的C_2-5亞烷基，

R¹⁰¹和R¹⁰²相互相同或不同，為H、OH、-O-(可以被取代的低級烷基)、-C(＝O)-(可以被取代的低級烷基)、-C(＝O)-O-(可以被取代的低級烷基)、-NH-C(＝O)-(可以被取代的低級烷基)、可以被取代的低級烷基、可以被取代的低級烯基、可以被取代的環(huán)烷基、可以被取代的芳基或可以被取代的雜環(huán)基，或者

R¹⁰¹和R¹⁰²與它們所鍵合的氮原子成為一體而為含氮單環(huán)式飽和雜環(huán)基，

在此，R⁴為NR¹⁰¹R¹⁰²時，R³、R¹⁰¹和R¹⁰²中的一個以上為H。

2.如權(quán)利要求1所述的化合物或其鹽，其中，B為含氮芳香族5元雜環(huán)。

3.如權(quán)利要求1所述的化合物或其鹽，其中，B為

L為O或S，

R^L1為H、鹵素、可以被取代的低級烷基、可以被取代的低級烯基、可以被取代的低級炔基或可以被取代的環(huán)烷基，

R^L2為H、鹵素、可以被取代的低級烷基、可以被取代的低級烯基、可以被取代的低級炔基或可以被取代的環(huán)烷基。

4.如權(quán)利要求1所述的化合物或其鹽，其中，X為單鍵。

5.如權(quán)利要求1所述的化合物或其鹽，其中，X為-(CR^X1R^X2)_n-，n為1，R^X1為H，R^X2為OH。

6.如權(quán)利要求1所述的化合物或其鹽，其中，X為-(CR^X1R^X2)_n-，n為1，R^X1和R^X2成為一體而為亞乙基。