[發明專利]顯影輥、處理盒和電子照相成像設備有效
| 申請號: | 201080040959.8 | 申請日: | 2010-09-14 |
| 公開(公告)號: | CN102576203A | 公開(公告)日: | 2012-07-11 |
| 發明(設計)人: | 阿南嚴也;倉地雅大 | 申請(專利權)人: | 佳能株式會社 |
| 主分類號: | G03G15/08 | 分類號: | G03G15/08 |
| 代理公司: | 北京魏啟學律師事務所 11398 | 代理人: | 魏啟學 |
| 地址: | 日本東京都大*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯影 處理 電子 照相 成像 設備 | ||
1.一種顯影輥,其用于承載和輸送調色劑并用所述調色劑使靜電潛像在感光鼓上顯影,所述顯影輥依次包括芯軸、彈性層和表面層,其中
所述表面層包括至少包含化學鍵合至硅原子的碳原子、化學鍵合至硅原子的氧原子以及化學鍵合至硅原子和/或碳原子的氟原子的氧化硅膜,和其中
所述氧化硅膜具有
所述氟原子與所述硅原子的存在比(F/Si)為0.10以上至0.50以下,與所述硅原子形成化學鍵的所述氧原子與所述硅原子的存在比(O/Si)為0.50以上至1.50以下,和與所述硅原子形成化學鍵的所述碳原子與所述硅原子的存在比(C/Si)為0.30以上至1.50以下。
2.根據權利要求1所述的顯影輥,其中所述表面層的厚度為15nm以上至5,000nm以下。
3.根據權利要求2所述的顯影輥,其中所述表面層的厚度為300nm以上至3,000nm以下。
4.根據權利要求1-3任一項所述的顯影輥,其中包括所述表面層的所述彈性層的拉伸彈性模量為1.0MPa以上至100.0MPa以下。
5.根據權利要求1-4任一項所述的顯影輥,其中當將50V電壓施加至旋轉中的所述顯影輥時測量的電流值為5μA以上至5,000μA以下。
6.一種處理盒,其包括感光鼓和配置為接觸所述感光鼓的顯影輥,所述處理盒構造為可拆卸地安裝在電子照相成像設備的主體上,其中所述顯影輥為根據權利要求1-5任一項所述的顯影輥。
7.一種電子照相成像設備,其包括感光鼓和配置為接觸所述感光鼓的顯影輥,其中所述顯影輥為根據權利要求1-5任一項所述的顯影輥。
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