[發明專利]分布式X射線源和包括其的X射線成像系統無效
| 申請號: | 201080040935.2 | 申請日: | 2010-09-13 |
| 公開(公告)號: | CN102498540A | 公開(公告)日: | 2012-06-13 |
| 發明(設計)人: | A·萊瓦爾特;R·皮蒂格;W·克羅斯特 | 申請(專利權)人: | 皇家飛利浦電子股份有限公司 |
| 主分類號: | H01J35/06 | 分類號: | H01J35/06;H01J35/28 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人: | 王英;劉炳勝 |
| 地址: | 荷蘭艾*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 分布式 射線 包括 成像 系統 | ||
1.一種分布式X射線源(3),其包括:
電子束源裝置(19);
陽極裝置(17);
其中,所述電子束源裝置(19)適于向所述陽極裝置(17)上的至少兩個局部相異的焦斑(27)發射電子束(24);
其中,所述X射線源(3)適于使所述陽極裝置(17)相對于所述電子束源裝置(19)位移。
2.根據權利要求1所述的分布式X射線源,
其中,所述X射線源(3)適于使所述陽極裝置(17)相對于所述電子束源裝置(19)以某種方式位移,使得在位移運動期間所述焦斑(27)的位置保持固定。
3.根據權利要求1或2所述的分布式X射線源,
其中,所述X射線源(3)適于使所述陽極裝置(17)相對于所述電子束源裝置(19)以沿著線性路徑、拱形路徑和曲線路徑之一的來回運動位移。
4.根據權利要求1到3中的一項所述的分布式X射線源,其中,相鄰焦斑(27)之間的距離為至少5mm。
5.根據權利要求1到4中的一項所述的分布式X射線源,
其中,所述電子束源裝置(19)適于快速打開和關閉所發射的電子束(24)。
6.根據權利要求1到5中的一項所述的分布式X射線源,
其中,所述電子束源裝置(19)包括多個電子束發射器(23),每個發射器適于向所述陽極裝置(17)上的一個關聯的焦斑(27)發射電子束(24)。
7.根據權利要求1到6中的一項所述的分布式X射線源,
其中,所述分布式X射線源(3)適于打開和關閉從不同的焦斑(27)彼此獨立地發射的X射線束(31)。
8.根據權利要求1到7中的一項所述的分布式X射線源,
其中,所述電子束源裝置(19)具備冷場發射陰極、光電陰極和低功函數陰極中的至少一種。
根據權利要求1到8中的一項所述的分布式X射線源,
其中,所述陽極裝置(17)具備片(29),使得從所述電子源裝置(19)發射的電子撞擊到所述片(29)的一個表面上,并且其中,所述陽極裝置(17)具備布置于所述片(29)的相對側上的有源冷卻(37)。
9.一種X射線成像系統(1),其包括:
布置于檢查空間(7)的第一側上的根據權利要求1到9中的一項所述的分布式X射線源(3);
布置于所述檢查空間(7)的與所述第一側相對的第二側上的探測器(5);
其中,所述分布式X射線源(3)適于使得從所述焦斑(27)中的每個發射的X射線(31)以不同角度穿過所述檢查空間(7)。
10.根據權利要求10所述的X射線成像系統,
還包括準直器(35),所述準直器用于將從所述焦斑(27)中的至少一個發射的X射線(31)準直到X射線通道中,以將所述檢查空間(7)中的感興趣區域投影到所述探測器(5)上。
11.根據權利要求10或11所述的X射線成像系統,
其中,所述X射線成像系統(1)適于從所述焦斑(27)相繼發射X射線(31),用于在不同角度下將所述檢查空間(7)中的感興趣區域投影到所述探測器(5)上,并利用所述探測器(5)采集多個相應的投影圖像。
12.根據權利要求11所述的X射線成像系統,
其中,所述X射線成像系統(1)適于基于所采集的投影圖像提供所述感興趣區域的3維圖像。
13.一種醫學成像系統,其包括根據權利要求9到12中的一項所述的X射線成像系統(1),其中,所述醫學成像系統適于合成X射線斷層攝影。
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