[發(fā)明專利]分布式X射線源和包括其的X射線成像系統(tǒng)無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201080040935.2 | 申請(qǐng)日： | 2010-09-13 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN102498540A | 公開（公告）日： | 2012-06-13 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | A·萊瓦爾特;R·皮蒂格;W·克羅斯特 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 皇家飛利浦電子股份有限公司 |
| 主分類號(hào)： | H01J35/06 | 分類號(hào)： | H01J35/06;H01J35/28 |
| 代理公司： | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002 | 代理人： | 王英;劉炳勝 |
| 地址： | 荷蘭艾*** | 國(guó)省代碼： | 荷蘭;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 分布式 射線 包括 成像 系統(tǒng) | ||
1.一種分布式X射線源(3)，其包括：
電子束源裝置(19)；
陽(yáng)極裝置(17)；
其中，所述電子束源裝置(19)適于向所述陽(yáng)極裝置(17)上的至少兩個(gè)局部相異的焦斑(27)發(fā)射電子束(24)；
其中，所述X射線源(3)適于使所述陽(yáng)極裝置(17)相對(duì)于所述電子束源裝置(19)位移。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的分布式X射線源，
其中，所述X射線源(3)適于使所述陽(yáng)極裝置(17)相對(duì)于所述電子束源裝置(19)以某種方式位移，使得在位移運(yùn)動(dòng)期間所述焦斑(27)的位置保持固定。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的分布式X射線源，
其中，所述X射線源(3)適于使所述陽(yáng)極裝置(17)相對(duì)于所述電子束源裝置(19)以沿著線性路徑、拱形路徑和曲線路徑之一的來(lái)回運(yùn)動(dòng)位移。
4.根據(jù)權(quán)利要求1到3中的一項(xiàng)所述的分布式X射線源，其中，相鄰焦斑(27)之間的距離為至少5mm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1到4中的一項(xiàng)所述的分布式X射線源，
其中，所述電子束源裝置(19)適于快速打開和關(guān)閉所發(fā)射的電子束(24)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1到5中的一項(xiàng)所述的分布式X射線源，
其中，所述電子束源裝置(19)包括多個(gè)電子束發(fā)射器(23)，每個(gè)發(fā)射器適于向所述陽(yáng)極裝置(17)上的一個(gè)關(guān)聯(lián)的焦斑(27)發(fā)射電子束(24)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1到6中的一項(xiàng)所述的分布式X射線源，
其中，所述分布式X射線源(3)適于打開和關(guān)閉從不同的焦斑(27)彼此獨(dú)立地發(fā)射的X射線束(31)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1到7中的一項(xiàng)所述的分布式X射線源，
其中，所述電子束源裝置(19)具備冷場(chǎng)發(fā)射陰極、光電陰極和低功函數(shù)陰極中的至少一種。
根據(jù)權(quán)利要求1到8中的一項(xiàng)所述的分布式X射線源，
其中，所述陽(yáng)極裝置(17)具備片(29)，使得從所述電子源裝置(19)發(fā)射的電子撞擊到所述片(29)的一個(gè)表面上，并且其中，所述陽(yáng)極裝置(17)具備布置于所述片(29)的相對(duì)側(cè)上的有源冷卻(37)。
9.一種X射線成像系統(tǒng)(1)，其包括：
布置于檢查空間(7)的第一側(cè)上的根據(jù)權(quán)利要求1到9中的一項(xiàng)所述的分布式X射線源(3)；
布置于所述檢查空間(7)的與所述第一側(cè)相對(duì)的第二側(cè)上的探測(cè)器(5)；
其中，所述分布式X射線源(3)適于使得從所述焦斑(27)中的每個(gè)發(fā)射的X射線(31)以不同角度穿過(guò)所述檢查空間(7)。
10.根據(jù)權(quán)利要求10所述的X射線成像系統(tǒng)，
還包括準(zhǔn)直器(35)，所述準(zhǔn)直器用于將從所述焦斑(27)中的至少一個(gè)發(fā)射的X射線(31)準(zhǔn)直到X射線通道中，以將所述檢查空間(7)中的感興趣區(qū)域投影到所述探測(cè)器(5)上。
11.根據(jù)權(quán)利要求10或11所述的X射線成像系統(tǒng)，
其中，所述X射線成像系統(tǒng)(1)適于從所述焦斑(27)相繼發(fā)射X射線(31)，用于在不同角度下將所述檢查空間(7)中的感興趣區(qū)域投影到所述探測(cè)器(5)上，并利用所述探測(cè)器(5)采集多個(gè)相應(yīng)的投影圖像。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的X射線成像系統(tǒng)，
其中，所述X射線成像系統(tǒng)(1)適于基于所采集的投影圖像提供所述感興趣區(qū)域的3維圖像。
13.一種醫(yī)學(xué)成像系統(tǒng)，其包括根據(jù)權(quán)利要求9到12中的一項(xiàng)所述的X射線成像系統(tǒng)(1)，其中，所述醫(yī)學(xué)成像系統(tǒng)適于合成X射線斷層攝影。
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