[發(fā)明專利]浸液曝光裝置用涂布材料組合物、疊層體、疊層體的形成方法以及浸液曝光裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201080038908.1
• 申請日: 2010-09-01
• 公開（公告）號: CN102549714A
• 公開（公告）日: 2012-07-04
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 武部洋子;橫小路修
• 申請（專利權(quán)）人: 旭硝子株式會社
• 主分類號: H01L21/027
• 分類號: H01L21/027;G03F7/20
• 代理公司: 中原信達知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11219
• 代理人: 楊海榮;穆德駿

1.一種浸液曝光裝置用涂布材料組合物，用于在照射曝光光束并經(jīng)由液體將基材曝光的浸液曝光裝置的構(gòu)件表面形成斥液層，

所述組合物含有在主鏈上具有如下重復(fù)單元的含氟聚合物，所述重復(fù)單元具有在環(huán)結(jié)構(gòu)內(nèi)包含彼此不相鄰的2個或3個醚性氧原子的含氟脂肪族環(huán)結(jié)構(gòu)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的浸液曝光裝置用涂布材料組合物，所述含氟聚合物是包含來源于下式(b1)所示的含氟化合物、或下式(b2)所示的含氟化合物的重復(fù)單元的聚合物，

式中，W¹為氟原子、或碳原子數(shù)1～3的全氟烷基或全氟烷氧基；W²和W³各自獨立地為氟原子、或可以包含氧原子的碳原子數(shù)1～6的全氟烷基；可以由W²和W³形成環(huán)狀結(jié)構(gòu)；W⁴和W⁵各自獨立地為氟原子、或可以包含氧原子的碳原子數(shù)1～8的全氟烷基；可以由W⁴和W⁵形成環(huán)狀結(jié)構(gòu)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的浸液曝光裝置用涂布材料組合物，包含溶解所述含氟聚合物的氟基溶劑。

4.根據(jù)權(quán)利要求1～3的任一項所述的浸液曝光裝置用涂布材料組合物，所述液體為水，所述斥液層為斥水層。

5.根據(jù)權(quán)利要求1～4的任一項所述的浸液曝光裝置用涂布材料組合物，所述曝光光束為波長193nm的ArF準(zhǔn)分子激光。

6.一種疊層體，其形成在照射曝光光束并經(jīng)由液體將基材曝光的浸液曝光裝置的構(gòu)件表面，

所述疊層體含有在主鏈上具有如下重復(fù)單元的含氟聚合物，所述重復(fù)單元具有在環(huán)結(jié)構(gòu)內(nèi)包含彼此不相鄰的2個或3個醚性氧原子的含氟脂肪族環(huán)結(jié)構(gòu)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的疊層體，還具有形成在所述構(gòu)件表面的、含有具有一種以上官能團的含氟聚合物的層。

8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的疊層體，所述在主鏈上具有重復(fù)單元、且所述重復(fù)單元具有含氟脂肪族環(huán)結(jié)構(gòu)的含氟聚合物是包含來源于下式(b1)所示的含氟化合物或下式(b2)所示的含氟化合物的重復(fù)單元的聚合物，

式中，W¹為氟原子、或碳原子數(shù)1～3的全氟烷基或全氟烷氧基；W²和W³各自獨立地為氟原子、或可以包含氧原子的碳原子數(shù)1～6的全氟烷基；可以由W²和W³形成環(huán)狀結(jié)構(gòu)；W⁴和W⁵各自獨立地為氟原子、或可以包含氧原子的碳原子數(shù)1～8的全氟烷基；可以由W⁴和W⁵形成環(huán)狀結(jié)構(gòu)。

9.根據(jù)權(quán)利要求6～8的任一項所述的疊層體，所述液體為水。

10.根據(jù)權(quán)利要求6～9的任一項所述的疊層體，所述曝光光束為波長193nm的ArF準(zhǔn)分子激光。

11.一種疊層體的形成方法，在照射曝光光束并經(jīng)由液體將基材曝光的浸液曝光裝置的構(gòu)件表面形成疊層體，

所述方法具有以下工序：

對所述構(gòu)件表面進行預(yù)處理的工序；

在進行了所述預(yù)處理的構(gòu)件表面形成含有具有一種以上官能團的含氟聚合物的第2層的工序；以及

在所述第2層上涂布權(quán)利要求1～3的任一項所述的浸液曝光裝置用涂布材料組合物來形成第1層的工序。

12.一種浸液曝光裝置，其照射曝光光束并經(jīng)由液體將基材曝光，其中在構(gòu)件表面具有權(quán)利要求6～10的任一項所述的疊層體。