[發(fā)明專利]環(huán)狀化合物、其制造方法、輻射敏感組合物及抗蝕圖案形成方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201080038687.8
• 申請日: 2010-08-27
• 公開（公告）號: CN102597034A
• 公開（公告）日: 2012-07-18
• 發(fā)明（設計）人: 越后雅敏;林宏美
• 申請（專利權）人: 三菱瓦斯化學株式會社
• 主分類號: C08G8/32
• 分類號: C08G8/32;G03F7/004;G03F7/038;H01L21/027
• 代理公司: 北京林達劉知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;李茂家

1.一種下述式(1)所示的環(huán)狀化合物，

式(1)中，各L獨立地為選自由單鍵，碳原子數(shù)1～20的直鏈狀或支鏈狀的亞烷基，碳原子數(shù)3～20的環(huán)亞烷基，碳原子數(shù)6～24的亞芳基，-O-，-OC(＝O)-，-OC(＝O)O-，-N(R⁵)-C(＝O)-、其中R⁵為氫或碳原子數(shù)1～10的烷基，-N(R⁵)-C(＝O)O-、其中R⁵與前述同義，-S-，-SO-，-SO₂-和它們的任意組合組成的組中的二價有機基團；各R¹獨立地為碳原子數(shù)1～20的烷基、碳原子數(shù)3～20的環(huán)烷基、碳原子數(shù)6～20的芳基、碳原子數(shù)1～20的烷氧基、氰基、硝基、羥基、雜環(huán)基、鹵素、羧基、碳原子數(shù)2～20的酰基、碳原子數(shù)1～20的烷基甲硅烷基、或氫原子；其中，至少1個R¹為碳原子數(shù)2～20的酰基，且其他的至少1個R¹為氫原子；各R’獨立地為碳原子數(shù)2～20的烷基或下述式所示的芳基；m為1～4的整數(shù)，

式中，R⁴為碳原子數(shù)1～20的烷基、碳原子數(shù)3～20的環(huán)烷基、碳原子數(shù)6～20的芳基、碳原子數(shù)1～20的烷氧基、氰基、硝基、雜環(huán)基、鹵素、羧基、羥基或碳原子數(shù)1～20的烷基甲硅烷基，p為0～5的整數(shù)。

2.根據(jù)權利要求1所述的環(huán)狀化合物，其為下述式(2)所示的化合物，

式(2)中，R¹、R⁴、p、m與前述同義，X₂為氫或鹵素原子，m₅為0～3的整數(shù)，m+m₅＝4。

3.根據(jù)權利要求1或2所述的環(huán)狀化合物，其分子量為800～5000。

4.一種權利要求1～3中任一項所述的環(huán)狀化合物的制造方法，其包括：使選自由醛性化合物(A1)組成的組中的1種以上化合物與選自由酚性化合物(A2)組成的組中的1種以上的化合物發(fā)生縮合反應而得到環(huán)狀化合物(A)的工序；和，使該環(huán)狀化合物(A)與選自由酰鹵(A3)組成的組中的1種以上化合物發(fā)生脫鹵化氫反應的工序。

5.根據(jù)權利要求4所述的制造方法，其中，所述醛性化合物(A1)為具有1～4個甲酰基的、碳原子數(shù)為2～59的化合物，所述酚性化合物(A2)為具有1～3個酚性羥基的、碳原子數(shù)為6～15的化合物。

6.根據(jù)權利要求4或5所述的制造方法，其中，所述環(huán)狀化合物(A)的分子量為700～5000。

7.根據(jù)權利要求4～6中任一項所述的制造方法，通過所述環(huán)狀化合物(A)與選自由酰鹵(A3)組成的組中的1種以上化合物的脫鹵化氫反應，在不使所述環(huán)狀化合物(A)中的至少1個酚性羥基發(fā)生變化的情況下，將其他的至少1個酚性羥基轉(zhuǎn)化為烷羰基氧基。

8.一種輻射敏感組合物，其含有權利要求1～3中任一項所述的環(huán)狀化合物和溶劑。

9.根據(jù)權利要求8所述的輻射敏感組合物，其由1～80重量％的固體成分和20～99重量％的溶劑組成。

10.根據(jù)權利要求8或9所述的輻射敏感組合物，其中，所述環(huán)狀化合物為固體成分總重量的50～99.999重量％。

11.根據(jù)權利要求8～10中任一項所述的輻射敏感組合物，其還含有產(chǎn)酸劑(C)，所述產(chǎn)酸劑(C)通過選自由可見光線、紫外線、準分子激光、電子束、超紫外線(EUV)、X射線和離子束組成的組中的任意一種輻射線的照射而直接或間接地產(chǎn)酸。

12.根據(jù)權利要求8～11中任一項所述的輻射敏感組合物，其還含有酸交聯(lián)劑(G)。

13.根據(jù)權利要求8～12中任一項所述的輻射敏感組合物，其還含有酸擴散控制劑(E)。