[發明專利]濺射靶用銅材料及其制造方法有效
| 申請號： | 201080038093.7 | 申請日： | 2010-08-26 |
| 公開（公告）號： | CN102482767A | 公開（公告）日： | 2012-05-30 |
| 發明（設計）人： | 高橋功;廣瀨清慈;倉橋和夫;中嶋章文;周偉銘 | 申請（專利權）人： | 古河電氣工業株式會社 |
| 主分類號： | C23C14/34 | 分類號： | C23C14/34;C22F1/08;C22F1/00 |
| 代理公司： | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人： | 丁香蘭;褚瑤楊 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 濺射 靶用銅 材料 及其 制造 方法 | ||
1.一種濺射靶用銅材料，其特征在于，該濺射靶用銅材料由純度為99.99％以上的高純度銅構成，進行濺射的面中的{111}面、{200}面、{220}面和{311}面的各自的X射線衍射的峰強度即I{111}、I{200}、I{220}和I{311}滿足下式(1)，且晶粒的粒徑為100～200μm，
I{200}/(I{111}+I{200}+I{220}+I{311})≥0.4????…(1)
2.如權利要求1所述的濺射靶用銅材料，其特征在于，該濺射靶用銅材料是通過對純度為99.99％以上的高純度銅的鑄塊進行熱擠出，并在該熱擠出后立即將所擠出的材料冷卻而制造的。
3.如權利要求1所述的濺射靶用銅材料，其特征在于，該濺射靶用銅材料是通過對純度為99.99％以上的高純度銅的鑄塊進行熱擠出，并在該熱擠出后立即將所擠出的材料冷卻，然后進行冷軋而制造的。
4.如權利要求1所述的濺射靶用銅材料，其特征在于，該濺射靶用銅材料是通過在700℃～1050℃下對純度為99.99％以上的高純度銅的鑄塊進行熱擠出，并在該熱擠出后立即以50℃/秒以上的冷卻速度將所擠出的材料冷卻而制造的。
5.一種濺射靶用銅材料的制造方法，其特征在于，該制造方法為制造權利要求1所述的濺射靶用銅材料的方法，該制造方法包括以下工序：在700℃～1050℃下對純度為99.99％以上的高純度銅進行熱擠出，并在熱擠出后立即以50℃/秒以上的冷卻速度將所擠出的材料冷卻。
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