[發明專利]烴合成反應裝置、烴合成反應系統以及液體烴的回收方法

有效

• 申請號: 201080038000.0
• 申請日: 2010-08-12
• 公開（公告）號: CN102575173A
• 公開（公告）日: 2012-07-11
• 發明（設計）人: 大西康博
• 申請（專利權）人: 日本石油天然氣·金屬礦物資源機構;國際石油開發帝石株式會社;吉坤日礦日石能源株式會社;石油資源開發株式會社;克斯莫石油株式會社;新日鐵工程技術株式會社
• 主分類號: C10G2/00
• 分類號: C10G2/00
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 周欣

1.一種烴合成反應裝置，其通過基于以一氧化碳氣體和氫氣為主成分的合成氣與使固體的催化劑粒子懸浮在液體中而形成的漿料接觸的費-托合成反應來合成烴，其具備：

反應容器，其通過所述費-托合成反應來合成液體烴和氣體烴；

流路，使所述氣體烴從所述反應容器流向下游；

第1冷卻部，其配設在所述流路中，將流過該流路的氣體烴冷卻；

第2冷卻部，其在所述流路中配設在所述第1冷卻部的下游；

第1分離部，其在所述流路中配設在所述第1冷卻部與所述第2冷卻部之間，將被所述第1冷卻部冷凝的液體烴從氣體烴中分離；

和第2分離部，其將被所述第2冷卻部冷凝的液體烴從氣體烴中分離，

所述第1冷卻部將流過所述流路的氣體烴冷卻到在所述流路內所述氣體烴中的蠟餾分發生冷凝的冷凝點以下且超過在所述流路內所述蠟餾分發生凝固的凝固點的溫度范圍，

所述第2冷卻部將流過所述流路的氣體烴冷卻到低于通過所述第1冷卻部將氣體烴冷卻的溫度且超過在所述流路內所述氣體烴中的中間餾分發生凝固的凝固點的溫度范圍。

2.根據權利要求1所述的烴合成反應裝置，其中，

所述第1冷卻部將流過所述流路的氣體烴冷卻到120℃以下且110℃以上，

所述第2冷卻部將流過所述流路的氣體烴冷卻到低于通過所述第1冷卻部將氣體烴冷卻的溫度且40℃以上。

3.根據權利要求2所述的烴合成反應裝置，其中，所述第2冷卻部將流過所述流路的氣體烴冷卻到75℃以下且40℃以上。

4.一種烴合成反應系統，其包括：

權利要求1～3中任一項所述的烴合成反應裝置；

合成氣生成單元，其對烴原料進行重整而生成所述合成氣，并將該合成氣供給到所述反應容器；

和產品精制單元，其從所述液體烴中精制液體燃料基材。

5.一種液體烴的回收方法，其在烴合成反應裝置中將流過流路的氣體烴作為液體烴而回收，所述烴合成反應裝置具備：

反應容器，其通過基于以一氧化碳氣體和氫氣為主成分的合成氣與使固體的催化劑粒子懸浮在液體中而形成的漿料接觸的費-托合成反應來合成液體烴和氣體烴；

和所述流路，其使所述氣體烴從所述反應容器流向下游，

其中，所述烴合成反應裝置設為以下構成，具備：第1冷卻部，其配設在所述流路中，將流過該流路的氣體烴冷卻；和第2冷卻部，其在所述流路中配設在所述第1冷卻部的下游，

所述回收方法具備下述工序：通過所述第1冷卻部將流過所述流路的氣體烴冷卻到在所述流路內所述氣體烴中的蠟餾分發生冷凝的冷凝點以下且超過在所述流路內所述蠟餾分發生凝固的凝固點的溫度范圍的工序；

在所述流路中在所述第1冷卻部與所述第2冷卻部之間將被所述第1冷卻部冷凝的液體烴從氣體烴中分離的工序；

通過所述第2冷卻部將流過所述流路的氣體烴冷卻到低于通過所述第1冷卻部將氣體烴冷卻的溫度且超過在所述流路內所述烴中的中間餾分發生凝固的凝固點的溫度范圍的工序；

和將被所述第2冷卻部冷凝的液體烴從氣體烴中分離的工序。