[發明專利]用于調節具有復雜信息的波場的三維光調制裝置

有效

• 申請號: 201080037580.1
• 申請日: 2010-06-18
• 公開（公告）號: CN102483604A
• 公開（公告）日: 2012-05-30
• 發明（設計）人: 杰拉爾德·菲特雷爾;諾伯特·萊斯特;拉爾夫·豪斯勒;格瑞高利·拉扎列夫
• 申請（專利權）人: 視瑞爾技術公司
• 主分類號: G03H1/08
• 分類號: G03H1/08;G02B27/10;G02B27/28;G02B5/32
• 代理公司: 北京連和連知識產權代理有限公司 11278
• 代理人: 賀小明

1.一種具有至少一個調制陣列的光調制器裝置，所述調制陣列包含可不連續編碼的調制器單元(P01、P02)，其組合起來形成調制元件(ME)，其中能夠產生傳播的光波場(LW)干涉的光波由調制器單元(P01、P02)利用全息信息以空間構造的方式調節，其中每個調制元件(ME)的調制器單元(P01、P02)相對于傳播光波場(LW)的傳播方向在調制陣列中并排設置，其中每個調制元件(ME)用可預設置的不連續復雜目標掃描值編碼，以全息重建空間設置的目標光點，其特征在于，光波復用裝置被分配給調制陣列的調制器單元(P01、P02)，其中所述光波復用裝置通過折射或衍射為每個調制元件(ME)在出射側將調制器單元(P01、P02)調節的光波部分組合起來，形成調節的光波復用，由此調節的光波復用實質上通過共同的位置并實質上以共同的傳播方向離開調制元件(ME)。

2.根據權利要求1所述的光調制器裝置，其特征在于，所述光波復用裝置包含至少一個體積全息圖。

3.根據權利要求1或2所述的光調制器裝置，其特征在于，所述光波復用裝置包含雙折射光學部件。

4.根據權利要求1-3中任一項所述的光調制器裝置，其特征在于，所述光波復用裝置包含將各個偏振分配給離開調制元件(ME)的調制器單元(P01、P02)的光波部分的偏振層。

5.根據權利要求1所述的光調制器裝置，其特征在于，所述光波復用裝置包含具有構造的體積全息圖元件的共面光板，其中體積全息圖構造為使得不同的體積全息圖元件被分配給調制元件(ME)的調制器單元(P01、P02)，其中，所述不同的體積全息圖元件使光透射軸在共面光板內朝向彼此傾斜，由此同一調制元件(ME)的調制器單元(P01、P02)的調節的光波部分通過共同的出射位置離開共面光板。

6.根據權利要求1所述的光調制器裝置，其特征在于，每個調制元件(ME)包含至少一個調制器單元(P01、P02)，所述調制器單元不連續地調節光波部分的相位和/或振幅。

7.根據權利要求3所述的光調制器裝置，其特征在于，各個調制元件(ME)的調制器單元(P01、P02)以行或列組合，其中偏振過濾器膜帶設置在調制元件(ME)的調制器單元(P01、P02)上，所述過濾器膜帶給予調制元件(ME)的每個調制器單元(P01、P02)用于光透射的個別偏振。

8.根據權利要求1-7中任一項所述的光調制器裝置，其特征在于，通過不同調制器單元(P01、P02)的光波部分之間的相位差別是可以補償的，通過一個調制器單元(P01、P02)的光波部分加上可預設置的相位位移。

9.根據權利要求1-8中任一項所述的光調制器裝置，其特征在于，離開調制元件(ME)的光波部分存在的橫向偏移利用設置在調制元件(ME)下游的過濾器或遮罩，例如具有確定的的透射特征的切趾過濾器或具有確定的的遮罩幾何結構的多孔遮罩，被補償。

10.根據權利要求1-9中任一項所述的光調制器裝置，其特征在于，所述光波復用裝置至少包含偏振裝置和第一及第二偏轉層(Vg1)和(Vg2)，偏轉裝置使通過第一調制器單元(1)的光加上可預設置的第一偏振，使通過第二調制器單元(2)的光加上可預設置的第二偏振，例如，可預設置的第一偏振是線性的，并垂直于可預設置的第二線偏振，或者可預設置的第一偏振是圓的，并且和可預設置的第二圓偏振相比具有相反的旋轉方向，從光傳播方向看，第一偏轉層(Vg1)設置在偏振裝置的下游，第二偏轉層(Vg2)在光傳播方向上以確定的距離(d)在第一偏轉層(Vg1)之后。

11.根據權利要求10所述的光調制器裝置，其特征在于，指定第一偏轉層(Vg1)的光學性質，以使得通過第一調制器單元(1)的光實質上不被偏轉，而通過第二調制器單元(2)的光以第一確定的角度偏轉。

12.根據權利要求10或11所述的光調制器裝置，其特征在于，指定第二偏轉層(Vg2)的光學性質，以使得通過第一調制器單元(1)的光實質上不被偏轉，而通過第二調制器單元(2)的光以第二確定的角度被偏轉，其中第二確定的角度的絕對值實質上可與第一確定的角度的絕對值相同。