[發明專利]在像場中成像物場的成像光學系統和照明物場的照明光學系統

有效

• 申請號: 201080037247.0
• 申請日: 2010-06-08
• 公開（公告）號: CN102483516A
• 公開（公告）日: 2012-05-30
• 發明（設計）人: 漢斯-于爾根.曼;約翰尼斯.澤爾納;奧雷利安.多多克;馬科.普雷托里厄斯;克里斯托夫.門克;威廉.烏爾里克;馬丁.恩德雷斯
• 申請（專利權）人: 卡爾蔡司SMT有限責任公司
• 主分類號: G02B17/06
• 分類號: G02B17/06;G03F7/20;G02B27/09
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 邱軍

1.一種具有多個反射鏡(M1到M6；M1到M8)的成像光學系統(12；32；38；44；69；70)，所述多個反射鏡(M1到M6；M1到M8)將物平面(11)中的物場(9)成像到像平面(14)中的像場(13)中，

-其中至少一個所述反射鏡(M1到M6；M1到M8)的反射面被構造為不能通過旋轉對稱函數描述的自由形狀面，

-其中所述物場(9)的縱橫比(x/y)大于1，并且縱向維度(x)沿著長邊延伸，橫向維度(y)沿著窄邊延伸，

其特征在于：所述物場(9)的最小橫向尺寸YS_min與最大橫向尺寸YS_max的比小于0.9。

2.一種具有多個反射鏡(M1到M6)的成像光學系統(69)，所述多個反射鏡(M1到M6)將物平面(11)中的物場(9)成像到像平面(14)中的像場(13)中，

-其中所述物場(9)和/或所述像場(13)偏離鏡面對稱場形狀。

3.根據權利要求2所述的成像光學系統，其特征在于至少一個所述反射鏡(M1到M6)的反射面被構造為不能通過旋轉對稱函數描述的自由形狀面。

4.根據權利要求2或3所述的成像光學系統，其特征在于所述物場(9)具有縱橫比，

-其中所述物場(9)的縱橫比大于1，并且縱向維度(x)沿著長邊延伸，橫向維度(y)沿著窄邊延伸，

-其中所述反射鏡(M1到M6)的反射面能夠通過面函數描述，所述面函數在所述物場(9)的縱向維度(x)上具有奇數冪的項。

5.一種用于照明物平面(11)中的照明場(9)的照明光學系統(10)，

-引導照明光(3)的所述照明光學系統(10)的組件被構造為使得所述照明場(9)的縱橫比大于1，并且縱向維度(x)沿著長邊延伸，橫向維度(y)沿著窄邊延伸，

其特征在于：所述物場(9)的最小橫向尺寸YS_min與最大橫向尺寸YS_max的比小于0.9。

6.根據權利要求5所述的照明光學系統，其特征在于：引導所述照明光(3)的所述照明光學系統(10)的至少一個所述組件的反射面被構造為不能通過旋轉對稱函數描述的自由形狀面。

7.根據權利要求1至6中的任一項所述的光學系統，其特征在于所述物場或照明場(9)通過以下限制：

-曲線(41；46；63)，

-與所述曲線(41；46；63)相對的縱向線(40；45；64)，

-兩個邊界線(29，30)，所述兩個邊界線(29，30)各自連接所述曲線(41；46；63)和所述縱向線(40；45；64)的兩端。

8.根據權利要求7所述的光學系統，其特征在于所述曲線(41；46；63；27；43；45)具有部分圓形狀。

9.根據權利要求8所述的光學系統，其特征在于所述曲線(27，28；45，46，53，54)具有最多300mm的半徑。

10.根據權利要求7至9中的任一項所述的光學系統，其特征在于與所述曲線(41；43)相對的所述縱向線(40；42)直線延伸。

11.根據權利要求7至9中的任一項所述的光學系統，其特征在于與所述曲線(27；45；53；63)相對的所述縱向線(28；46；54；64)以彎曲方式延伸。

12.根據權利要求11所述的光學系統，其特征在于以彎曲方式延伸的縱向線(28；45；53；63)以拱形方式延伸。

13.根據權利要求12所述的光學系統，其特征在于與所述曲線(46；27)相對的長線(45；28)以部分圓形狀延伸。

14.根據權利要求13所述的光學系統，其特征在于與所述曲線(46；27)相對的所述縱向線(45；28)具有最多300mm的半徑。

15.根據權利要求1至6中的任一項所述的光學系統，其特征在于所述物場或照明場(9)具有楔形。