[發(fā)明專利]在像場中成像物場的成像光學(xué)系統(tǒng)和照明物場的照明光學(xué)系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201080037247.0
• 申請日: 2010-06-08
• 公開（公告）號: CN102483516A
• 公開（公告）日: 2012-05-30
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 漢斯-于爾根.曼;約翰尼斯.澤爾納;奧雷利安.多多克;馬科.普雷托里厄斯;克里斯托夫.門克;威廉.烏爾里克;馬丁.恩德雷斯
• 申請（專利權(quán)）人: 卡爾蔡司SMT有限責(zé)任公司
• 主分類號: G02B17/06
• 分類號: G02B17/06;G03F7/20;G02B27/09
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105
• 代理人: 邱軍

1.一種具有多個反射鏡(M1到M6；M1到M8)的成像光學(xué)系統(tǒng)(12；32；38；44；69；70)，所述多個反射鏡(M1到M6；M1到M8)將物平面(11)中的物場(9)成像到像平面(14)中的像場(13)中，

-其中至少一個所述反射鏡(M1到M6；M1到M8)的反射面被構(gòu)造為不能通過旋轉(zhuǎn)對稱函數(shù)描述的自由形狀面，

-其中所述物場(9)的縱橫比(x/y)大于1，并且縱向維度(x)沿著長邊延伸，橫向維度(y)沿著窄邊延伸，

其特征在于：所述物場(9)的最小橫向尺寸YS_min與最大橫向尺寸YS_max的比小于0.9。

2.一種具有多個反射鏡(M1到M6)的成像光學(xué)系統(tǒng)(69)，所述多個反射鏡(M1到M6)將物平面(11)中的物場(9)成像到像平面(14)中的像場(13)中，

-其中所述物場(9)和/或所述像場(13)偏離鏡面對稱場形狀。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的成像光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于至少一個所述反射鏡(M1到M6)的反射面被構(gòu)造為不能通過旋轉(zhuǎn)對稱函數(shù)描述的自由形狀面。

4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的成像光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于所述物場(9)具有縱橫比，

-其中所述物場(9)的縱橫比大于1，并且縱向維度(x)沿著長邊延伸，橫向維度(y)沿著窄邊延伸，

-其中所述反射鏡(M1到M6)的反射面能夠通過面函數(shù)描述，所述面函數(shù)在所述物場(9)的縱向維度(x)上具有奇數(shù)冪的項。

5.一種用于照明物平面(11)中的照明場(9)的照明光學(xué)系統(tǒng)(10)，

-引導(dǎo)照明光(3)的所述照明光學(xué)系統(tǒng)(10)的組件被構(gòu)造為使得所述照明場(9)的縱橫比大于1，并且縱向維度(x)沿著長邊延伸，橫向維度(y)沿著窄邊延伸，

其特征在于：所述物場(9)的最小橫向尺寸YS_min與最大橫向尺寸YS_max的比小于0.9。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的照明光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于：引導(dǎo)所述照明光(3)的所述照明光學(xué)系統(tǒng)(10)的至少一個所述組件的反射面被構(gòu)造為不能通過旋轉(zhuǎn)對稱函數(shù)描述的自由形狀面。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中的任一項所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于所述物場或照明場(9)通過以下限制：

-曲線(41；46；63)，

-與所述曲線(41；46；63)相對的縱向線(40；45；64)，

-兩個邊界線(29，30)，所述兩個邊界線(29，30)各自連接所述曲線(41；46；63)和所述縱向線(40；45；64)的兩端。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于所述曲線(41；46；63；27；43；45)具有部分圓形狀。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于所述曲線(27，28；45，46，53，54)具有最多300mm的半徑。

10.根據(jù)權(quán)利要求7至9中的任一項所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于與所述曲線(41；43)相對的所述縱向線(40；42)直線延伸。

11.根據(jù)權(quán)利要求7至9中的任一項所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于與所述曲線(27；45；53；63)相對的所述縱向線(28；46；54；64)以彎曲方式延伸。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于以彎曲方式延伸的縱向線(28；45；53；63)以拱形方式延伸。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于與所述曲線(46；27)相對的長線(45；28)以部分圓形狀延伸。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于與所述曲線(46；27)相對的所述縱向線(45；28)具有最多300mm的半徑。

15.根據(jù)權(quán)利要求1至6中的任一項所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于所述物場或照明場(9)具有楔形。