[發明專利]濕法還原對催化劑穩定性的影響和保持催化劑穩定性的方法

有效

• 申請號: 201080037141.0
• 申請日: 2010-04-14
• 公開（公告）號: CN102481538A
• 公開（公告）日: 2012-05-30
• 發明（設計）人: J·L·皮珀;潘偉;D·E·倫德;G·S·馬洛特
• 申請（專利權）人: 環球油品公司
• 主分類號: B01J8/00
• 分類號: B01J8/00;B01J38/10;C07C4/06;B01J23/66
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 唐秀玲;林柏楠

1.一種烴脫氫系統反應器段，其包括：

保存新鮮催化劑的還原區；

位于還原區下游的反應器；

用于將氫氣引入反應器中的氫氣再循環氣體管線；

用于將烴引入反應器中的烴管線；

用于將氫氣輸送至還原區的氫氣還原氣體管線；和

位于還原區上游，用于將氫氣還原氣體管線的含濕量保持在4000ppmv或以下的干燥器。

2.根據權利要求1的烴脫氫系統反應器段，其中干燥器將氫氣還原氣體管線的含濕量保持在620ppmv或以下。

3.根據權利要求1的烴脫氫系統反應器段，其中將氫氣還原氣體管線保持在290℃或更低的溫度下。

4.根據權利要求1的烴脫氫系統反應器段，其中催化劑為鉑/錫基催化劑。

5.一種用于將烴脫氫的系統，方法包括：

用于儲存新鮮催化劑的還原區；

經過還原區的含濕量為4000ppmv或小于4000ppmv的惰性氣流；

烴料流；

氫氣流；和

用于使烴料流與氫氣流反應的反應器。

6.根據權利要求5的系統，其中惰性氣流具有620ppmv或小于620ppmv的含濕量。

7.根據權利要求5的系統，其進一步包括將惰性氣流保持在100-290℃的溫度。

8.一種提高用于脫氫方法中的催化劑的穩定性的方法，所述方法包括：

將新鮮催化劑儲存在還原區中；

使氣體經過還原區，其中氣體具有4000ppmv或小于4000ppmv的含濕量；

將烴和氫氣引入位于還原區下游的反應器中以促進脫氫反應，其中反應器包含用于提高脫氫反應速率的催化劑；和

用來自還原區的新鮮催化劑補充反應器中的廢催化劑。

9.根據權利要求8的方法，其中氣體的含濕量通過使氣體經過位于還原區上游的干燥器或通過使惰性氣體經過還原區而保持在小于4000ppmv。

10.根據權利要求8的方法，其進一步包括將氣體保持在290℃或更低的溫度下。