[發明專利]高分子化合物及其制造方法有效
| 申請號: | 201080035803.0 | 申請日: | 2010-08-11 |
| 公開(公告)號: | CN102471465A | 公開(公告)日: | 2012-05-23 |
| 發明(設計)人: | 福島大介;石井佑典;瀨戶麻里;大內一榮 | 申請(專利權)人: | 住友化學株式會社 |
| 主分類號: | C08G61/00 | 分類號: | C08G61/00;C08L65/00;H01B1/20;H01L21/338;H01L29/786;H01L29/812;H01L51/05;H01L51/30;H01L51/50 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 蔣亭 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 高分子化合物 及其 制造 方法 | ||
1.一種高分子化合物,其含有
下述通式(1)所示的第1構成單元、
下述通式(2)所示的第2構成單元、以及
選自下述通式(3)所示的第3構成單元和下述通式(4)所示的第4構成單元中的至少一種構成單元,
【化1】
通式(1)中,
R1、R2、R3、R4、R5、R6和R7分別獨立地表示氫原子、烷基、芳基、1價的芳香族雜環基或-O-RA所示的基團,
X1表示與構成所述高分子化合物的構成單元的鍵合部位,
X2、X3、X4和X5中的任一個表示與構成所述高分子化合物的構成單元的鍵合部位,其余3個分別獨立地表示氫原子、烷基、芳基、1價的芳香族雜環基或-O-RA所示的基團,
此外,RA為烷基、芳基或1價的芳香族雜環基,R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、X2、X3、X4、X5和RA可以具有取代基,RA存在多個時,RA互相之間可以相同也可以相異,
【化2】
通式(2)中,R8和R9分別獨立地表示烷基、芳基或1價的芳香族雜環基,這些基團可以具有取代基,
【化3】
通式(3)中,
Ar1表示亞芳基、2價的芳香族雜環基、或由選自亞芳基和2價的芳香族雜環基組成的組中的2個以上相同或不同的基團連結而成的2價的基團,
此外,Ar1可以具有一個或多個選自由烷基、芳基、1價的芳香族雜環基、-O-RA所示的基團、-S-RA所示的基團、-C(=O)-RA所示的基團、-C(=O)-O-RA所示的基團、-N(RA)2所示的基團、氰基和氟原子組成的組中的取代基,
這里RA與上述同義,RA存在多個時,RA互相之間可以相同也可以相異,
【化4】
通式(4)中,
x和y分別獨立地表示0或1,
Ar2、Ar3、Ar4和Ar5分別獨立地表示亞芳基、2價的芳香族雜環基、或由選自亞芳基和2價的芳香族雜環基組成的組中的2個以上相同或不同的基團連結而成的2價的基團,
Ar6、Ar7和Ar8分別獨立地表示芳基或1價的芳香族雜環基,
Ar2、Ar3、Ar4、Ar5、Ar6、Ar7和Ar8可以具有一個或多個選自烷基、芳基、1價的芳香族雜環基、-O-RA所示的基團、-S-RA所示的基團、-C(=O)-RA所示的基團、-C(=O)-O-RA所示的基團、-N(RA)2所示的基團、氰基和氟原子中的取代基,
另外,Ar2、Ar3、Ar4、Ar5、Ar6、Ar7和Ar8所表示的取代基中,結合于同一個氮原子的基團彼此可以經由單鍵或-O-、-S-、-C(=O)-、-C(=O)-O-、-N(RA)-、-C(=O)-N(RA)-或者-C(RA)(RA)-所示的基團進行鍵合,
這里RA與上述同義,RA存在多個時,RA互相之間可以相同也可以相異。
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