[發(fā)明專利]用于半導(dǎo)體處理中的銅移除及平面化的濕蝕刻方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201080034653.1 | 申請日: | 2010-07-27 |
| 公開(公告)號: | CN102473628A | 公開(公告)日: | 2012-05-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 史蒂文·T·邁爾;埃里克·韋布;戴維·W·波特 | 申請(專利權(quán))人: | 諾發(fā)系統(tǒng)有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/306 | 分類號: | H01L21/306;H01L21/28 |
| 代理公司: | 北京律盟知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11287 | 代理人: | 沈錦華 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 半導(dǎo)體 處理 中的 平面化 蝕刻 方法 | ||
相關(guān)申請案交叉參考
本申請案為主張2007年7月30日提出申請、標(biāo)題為“用于制作半導(dǎo)體互連結(jié)構(gòu)的方法(Method?for?Fabrication?of?Semiconductor?Interconnect?Structure)”、將史蒂文·T.邁爾(Steven?T.Mayer)等人提名為發(fā)明人的第11/888,312號美國專利申請案的優(yōu)先權(quán)的部分接續(xù)案,第11/888,312號美國專利申請案為主張2006年10月24日提出申請(2009年5月12日作為第7,531,463號美國專利發(fā)布)、標(biāo)題為“用于制作半導(dǎo)體互連結(jié)構(gòu)的方法(Method?for?Fabrication?of?Semiconductor?Interconnect?Structure)”、將丹尼爾·A.庫斯(Daniel?A.Koos)等人提名為發(fā)明人的第11/586,394號美國專利申請案的優(yōu)先權(quán)的部分接續(xù)案,第11/586,394號美國專利申請案為主張2003年10月20日提出申請(2008年3月4日作為第7,338,908號美國專利發(fā)布)、標(biāo)題為“用于制作具有減小的電容、泄漏電流及經(jīng)改進(jìn)擊穿電壓的半導(dǎo)體互連結(jié)構(gòu)的方法(Method?for?Fabrication?of?Semiconductor?Interconnect?Structure?with?Reduced?Capacitance,Leakage?Current,and?Improved?Breakdown?Voltage)”、將丹尼爾·A.庫斯等人提名為發(fā)明人的第10/690,084號美國專利申請案的優(yōu)先權(quán)的部分接續(xù)案。本申請案也為主張由邁爾等人在2006年11月20日提出申請、具有標(biāo)題“通過選擇性加速劑移除進(jìn)行的形貌減少及控制(Topography?Reduction?and?Control?by?Selective?Accelerator?Removal)”的第11/602,128號美國專利申請案的優(yōu)先權(quán)的部分接續(xù)申請案,第11/602,128號美國專利申請依據(jù)35USC?119(e)主張由邁爾等人在2005年11月19日提出申請的第60/737,978號美國臨時(shí)申請案的權(quán)益。第11/602,128號美國專利申請案也為主張由邁爾等人在2006年10月5日提出申請的第11/544,957號美國專利申請案的優(yōu)先權(quán)的部分接續(xù)申請案,第11/544,957號美國專利申請案主張2005年10月5日提出申請、標(biāo)題為“選擇性電化學(xué)加速劑移除(Selective?Electrochemical?Accelerator?Removal)”的第60/724,209號美國臨時(shí)申請案的權(quán)益。第11/602,128號美國專利申請案也為主張由朱爾瑞(Drewery)等人在2004年4月13日提出申請(在2008年7月29日作為第7,405,163號美國專利公布)、具有標(biāo)題“金屬特征的選擇加速的電鍍(Selectively?Accelerated?Plating?of?Metal?Features)”的第10/824,069號美國專利申請案的優(yōu)先權(quán)的部分接續(xù)申請案。第11/602,128號美國專利申請案也為主張由邁爾等人在2003年12月17日提出申請(在2008年11月11日作為第7,449,098號美國專利公布)、具有標(biāo)題“用于平面電鍍的方法(Method?for?Planar?Electroplating)”的第10/739,822號美國專利申請案的優(yōu)先權(quán)的部分接續(xù)申請案。第11/602,128號美國專利申請案也為主張由庫斯等人在2003年10月20日提出申請(在2008年3月4日作為第7,338,908號美國專利公布)、標(biāo)題為“用于制作具有減小的電容、泄漏電流及經(jīng)改進(jìn)擊穿電壓的半導(dǎo)體互連結(jié)構(gòu)的方法(Method?For?Fabrication?Of?Semiconductor?Interconnect?Structure?With?Reduced?Capacitance,Leakage?Current,And?Improved?Breakdown?Voltage)”的第10/690,084號美國專利申請案的優(yōu)先權(quán)的部分接續(xù)申請案。第11/602,128號美國專利申請案也為主張由巴頓等人在2003年10月24日提出申請(在2007年3月13日作為第7,189,647號美國專利公布)、標(biāo)題為“用于半導(dǎo)體晶片的濕處理的序列工具(Sequential?Tool?for?Wet?Processing?of?Semiconductor?Wafers)”的第10/693,223號美國專利申請案的優(yōu)先權(quán)的部分接續(xù)申請案。這些文檔中的每一者以全文引用的方式且出于所有目的并入本文中。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





