[發明專利]離子鹵化物的中等溫度再利用的方法

無效

• 申請號: 201080033467.6
• 申請日: 2010-07-06
• 公開（公告）號: CN102471058A
• 公開（公告）日: 2012-05-23
• 發明（設計）人: 安杰爾·桑賈喬;洛倫茨·莫羅;霍爾迪·佩雷斯·馬里亞諾;羅凱洪;謝曉兵;阿努普·內格;馬爾科·霍恩博斯特爾;戈帕拉·N·克里希南
• 申請（專利權）人: SRI國際公司
• 主分類號: C01B7/00
• 分類號: C01B7/00;C01B9/00
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國;鐘強

1.一種用于在生產元素材料中再利用離子鹵化物的方法，所述方法包含：

將離子鹵化物、待生成元素的氧化物、低氧化物或鹵氧化物中的至少一種和含水酸溶液的混合物在中等溫度下反應以形成復合前體鹽和鹽；

從所述復合前體鹽形成前體鹵化物；

將所述前體鹵化物還原成所述待生成元素和所述離子鹵化物；以及

使所述離子鹵化物返回至所述反應步驟的所述混合物中。

2.如權利要求1所述的方法，其中所述離子鹵化物包含以下中的至少一種：堿金屬鹵化物、堿土金屬鹵化物、鋁(Al)的鹵化物或鋅(Zn)的鹵化物。

3.如權利要求2所述的方法，其中所述離子鹵化物包含氟化鈉(NaF)。

4.如權利要求1所述的方法，其中所述氧化物包括以下中的至少一種：硼(B)、鋁(Al)、硅(Si)、鈦(Ti)、釩(V)、鋯(Zr)、鈮(Nb)、鉬(Mo)、鉭(Ta)、鎢(W)、鈾(U)或钚(Pu)。

5.如權利要求4所述的方法，其中所述待生成元素的所述鹵氧化物包含Ti、V、Zr、Nb、Mo、Ta、W、U或Pu的鹵氧化物。

6.如權利要求1所述的方法，其中所述含水酸溶液包含以下中的至少一種：鹵化物的酸、硫酸(H₂SO₄)、硝酸(HNO₃)或有機酸。

7.如權利要求6所述的方法，其中所述含水酸溶液包含鹽酸(HCl)。

8.如權利要求1所述的方法，其中所述復合前體鹽包含熒光金屬化合物。

9.如權利要求1所述的方法，其中所述前體鹵化物包括以下中的至少一種：硼(B)、鋁(Al)、硅(Si)、鈦(Ti)、釩(V)、鋯(Zr)、鈮(Nb)、鉬(Mo)、鉭(Ta)、鎢(W)、鈾(U)或钚(Pu)。

10.如權利要求9所述的方法，其中所述前體鹵化物包含以下中的至少一種：四氟化硅(SiF₄)、四氟化鈦(TiF₄)或四氟化鈾(UF₄)。

11.如權利要求1所述的方法，其中所述鹽包含來自所述離子鹵化物的至少一種元素和來自所述酸的至少一種元素。

12.如權利要求1所述的方法，其中所述中等溫度包含20攝氏度(℃)到250℃的溫度。

13.如權利要求1所述的方法，其中從所述復合前體鹽形成所述前體鹵化物包含：

在中等溫度下將所述復合前體鹽與強酸混合。

14.如權利要求13所述的方法，其中所述強酸包含硫酸(H₂SO₄)。

15.如權利要求13所述的方法，其中所述中等溫度包含20攝氏度(℃)到250℃的溫度。

16.如權利要求1所述的方法，其中所述復合前體鹽在原位形成且所述前體鹵化物在原位由所述復合前體鹽制成。

17.一種用于在生產復合前體鹽中再利用離子鹵化物的方法，所述方法包含：

在將前體鹵化物還原以生成元素期間形成離子鹵化物；

將具有所述元素的氧化物、低氧化物或鹵氧化物中的至少一種和含水酸溶液的混合物的所述離子鹵化物在中等溫度下再循環；以及

形成所述復合前體鹽。

18.如權利要求17所述的方法，其中所述離子鹵化物包含以下中的至少一種：堿金屬鹵化物、堿土金屬鹵化物、鋁(Al)的鹵化物或鋅(Zn)的鹵化物。

19.如權利要求18所述的方法，其中所述金屬鹵化物包含氟化鈉(NaF)。

20.如權利要求17所述的方法，其中所述前體鹵化物包括以下中的至少一種：硼(B)、鋁(Al)、硅(Si)、鈦(Ti)、釩(V)、鋯(Zr)、鈮(Nb)、鉬(Mo)、鉭(Ta)、鎢(W)、鈾(U)或钚(Pu)。