[發(fā)明專利]布線結(jié)構(gòu)以及具備布線結(jié)構(gòu)的顯示裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201080033080.0
• 申請(qǐng)日: 2010-07-27
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102473732A
• 公開(kāi)（公告）日: 2012-05-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 后藤裕史;前田剛彰;巖成裕美;平野貴之
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社神戶制鋼所
• 主分類號(hào): H01L29/786
• 分類號(hào): H01L29/786;G02F1/1343;G02F1/1368;H01L21/28;H01L29/417
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 雒運(yùn)樸

1.一種布線結(jié)構(gòu)，其在基板上從基板側(cè)起依次具備布線膜、和薄膜晶體管的半導(dǎo)體層，該布線結(jié)構(gòu)的特征在于，

上述半導(dǎo)體層由氧化物半導(dǎo)體構(gòu)成。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的布線結(jié)構(gòu)，其特征在于，

上述布線膜，在與上述半導(dǎo)體層直接連接的同一平面上、且與構(gòu)成像素電極的透明導(dǎo)電膜直接連接。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的布線結(jié)構(gòu)，其特征在于，

上述布線膜是包含Ni及Co中的至少一種的Al合金膜，且與上述半導(dǎo)體層直接連接。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的布線結(jié)構(gòu)，其特征在于，

上述Al合金膜含有0.10～2原子％的Ni及Co中的至少一種。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的布線結(jié)構(gòu)，其特征在于，

Ni及Co中的至少一種的一部分在上述Al合金膜與上述半導(dǎo)體層之間的界面，發(fā)生了析出以及/或者濃化。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的布線結(jié)構(gòu)，其特征在于，

上述Al合金膜進(jìn)一步包含0.05～2原子％的Cu及Ge中的至少一種。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的布線結(jié)構(gòu)，其特征在于，

上述Al合金膜進(jìn)一步包含0.05～1原子％的稀土類元素。

8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的布線結(jié)構(gòu)，其特征在于，

在與上述半導(dǎo)體層直接連接的上述Al合金膜的表面，形成有最大高度粗度Rz為5nm以上的凹凸。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的布線結(jié)構(gòu)，其特征在于，

在上述布線膜與基板之間具備絕緣膜。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的布線結(jié)構(gòu)，其特征在于，

上述布線膜是Cu合金膜，

上述布線結(jié)構(gòu)具有包含第一層(Y)和第二層(X)的疊層結(jié)構(gòu)，其中上述第一層(Y)，由包含總計(jì)2～20原子％的從由Zn、Ni、Ti、Al、Mg、Ca、W、Nb、以及Mn組成的群中選擇的至少1種元素的Cu合金構(gòu)成；

上述第二層由純Cu或者以Cu為主要成分的Cu合金、即電阻率比上述第一層(Y)更低的純Cu或者Cu合金構(gòu)成，

上述第一層(Y)與上述基板及上述絕緣膜中的至少一個(gè)直接連接，

上述第二層(X)與上述半導(dǎo)體層直接連接。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的布線結(jié)構(gòu)，其特征在于，

上述第一層(Y)的膜厚為10nm以上、100nm以下，且相對(duì)于Cu合金膜整體膜厚為60％以下。

12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的布線結(jié)構(gòu)，其特征在于，

一部分Mn在上述基板及上述絕緣膜中的至少一個(gè)與上述Cu合金膜之間的界面，發(fā)生了析出以及/或者濃化。

13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的布線結(jié)構(gòu)，其特征在于，

上述布線膜是含有從由Mn、Ni、Zn、Al、Ti、Mg、Ca、W、以及Nb組成的群中選擇的至少1種元素的Cu合金膜，且與上述基板及上述絕緣膜中的至少一個(gè)、以及上述半導(dǎo)體層直接連接。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的布線結(jié)構(gòu)，其特征在于，

上述C?u合金膜含有0.5～10原子％的從由Mn、Ni、Zn、Al、Ti、Mg、Ca、W、以及Nb組成的群中選擇的至少1種元素。

15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的布線結(jié)構(gòu)，其特征在于，

上述Cu合金膜至少含有0.5原子％以上的Mn，且含有0.3原子％以上的從由B、Ag、C、W、Ca、以及Mg組成的群中選擇的至少1種元素。

16.根據(jù)權(quán)利要求13所述的布線結(jié)構(gòu)，其特征在于，

一部分Mn在上述基板及上述絕緣膜中的至少一個(gè)與上述Cu合金膜之間的界面，發(fā)生了析出以及/或者濃化。

17.根據(jù)權(quán)利要求9所述的布線結(jié)構(gòu)，其特征在于，

上述布線膜是Cu膜。

18.根據(jù)權(quán)利要求1所述的布線結(jié)構(gòu)，其特征在于，

上述氧化物半導(dǎo)體由含有從由In、Ga、Zn、Ti、以及Sn組成的群中選擇的至少1種元素的氧化物構(gòu)成。

19.一種顯示裝置，其特征在于，具備權(quán)利要求1所述的布線結(jié)構(gòu)。