[發(fā)明專利]用于生產(chǎn)經(jīng)涂覆和降低反射的板的方法

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201080032241.4
• 申請(qǐng)日: 2010-07-08
• 公開（公告）號(hào): CN102471141A
• 公開（公告）日: 2012-05-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: M.內(nèi)安德;K.韋納;B.貝格斯;M.莫雷爾
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 法國(guó)圣戈班玻璃廠
• 主分類號(hào): C03C15/00
• 分類號(hào): C03C15/00;C03C17/23
• 代理公司: 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 石克虎;林森

本發(fā)明涉及一種用于生產(chǎn)經(jīng)涂覆和降低反射的板的方法，使用本發(fā)明的方法所生產(chǎn)的板和它的用途。

除了在許多情況中所期望的盡可能高的光學(xué)透明度，許多板還具有強(qiáng)的光反射性。當(dāng)光到達(dá)具有不同折射率的介質(zhì)的界面時(shí)，部分的入射光被反射。取決于光源、波長(zhǎng)和入射角，該反射可以是顯著的。例如，日光在建筑物或者在前面行駛的汽車上的反射會(huì)使其它的交通參與者目眩。光反射在光電學(xué)中也是不期望的，因?yàn)樗档土斯怆姵乇砻嫔系墓饬亢徒档土颂柲茈姵氐男省?/p>

原則上，許多方法用于降低板的反射。板反射率的降低在許多情況中基于在玻璃表面上產(chǎn)生多孔的結(jié)構(gòu)化層。這種多孔的結(jié)構(gòu)化層可以通過用適當(dāng)?shù)乃峄蛘邏A蝕刻來產(chǎn)生。多孔SiO₂層可以例如在溶膠-凝膠方法中將SiO₂沉積到玻璃表面上來產(chǎn)生。蝕刻和沉積兩種方法的組合也是可能的。

該降低反射的性能對(duì)于具有光學(xué)透明的導(dǎo)電涂層，例如透明的導(dǎo)電性氧化物(TCO，透明導(dǎo)電氧化物)的板也是重要的。通過減少散射的光，這些層的絕對(duì)透射率可以進(jìn)一步提高。但是，玻璃表面上的該多孔的結(jié)構(gòu)化層經(jīng)常需要另外的、經(jīng)適配的加工步驟。事先蝕刻的板的表面結(jié)構(gòu)在許多情況中改變了該光學(xué)透明的導(dǎo)電層的淀積。在該光學(xué)透明的導(dǎo)電涂層的淀積過程中的加工條件的這種適配和任選的改變使得該經(jīng)涂覆的板的生產(chǎn)更昂貴。

US2486431A公開了一種產(chǎn)生弱反射玻璃表面的方法。該玻璃表面是用H₂SiF₆溶液來蝕刻的。取決于蝕刻過程的持續(xù)時(shí)間，該玻璃表面以不同的程度被蝕刻，并且因此設(shè)定和改變表面的光學(xué)性能。

DE822714B公開了一種在玻璃物體表面上生產(chǎn)降低反射的膜的方法。為此，將該玻璃物體浸入到H₂SiF₆和膠體溶解的SiO₂溶液中。取決于F^-和SiO₂濃度，該板表面被蝕刻（侵蝕）和/或構(gòu)建。

EP1056136B1公開了一種用于太陽能電池的基材，其包括至少一個(gè)玻璃板，第一和第二底涂膜，和導(dǎo)電膜。該第一底涂膜至少包含金屬氧化物，例如氧化錫，氧化鈦，氧化銦或者氧化鋅。

US2008/0314442A1公開了一種透明的基材，具有由至少兩個(gè)層組成的光學(xué)透明電極。該第一透明的導(dǎo)電層包含未摻雜的金屬氧化物，例如氧化錫。相反，該第二透明的導(dǎo)電層包含摻雜的金屬氧化物。

US2008/0308146A1公開了一種光伏物體，具有在紋理化的玻璃基材上的前電極。該玻璃基材的紋理化是在施加前電極之前，通過在570℃-750℃的機(jī)械輥或者通過用酸蝕刻來進(jìn)行。該前電極然后使用熱解方法來施加。

本發(fā)明的目標(biāo)是提供一種生產(chǎn)經(jīng)涂覆和降低反射的板的方法，其使得不取決于板的現(xiàn)有或者隨后的紋理化，能夠用光學(xué)透明的導(dǎo)電涂層涂覆所述的板。

本發(fā)明的目標(biāo)是根據(jù)獨(dú)立權(quán)利要求1，13和15的本發(fā)明的光學(xué)透明的板，一種生產(chǎn)它的方法和它的用途來實(shí)現(xiàn)的。優(yōu)選的實(shí)施方案存在于從屬權(quán)利要求。

該生產(chǎn)經(jīng)涂覆的、降低反射的板的方法包括：在第一步驟中，將光學(xué)透明的導(dǎo)電層施加到玻璃基材表面的至少一個(gè)部分區(qū)域上。這種光學(xué)透明的導(dǎo)電層優(yōu)選具有對(duì)于300nm-1300nm波長(zhǎng)的光來說大于75%，優(yōu)選大于80%(根據(jù)DIN-EN410：1998的能量透射率)的平均透射率。

在第二步驟中，抗反射層是在玻璃基材的未涂覆的表面上，通過將酸和/或堿的溶液施加到玻璃基材表面上來產(chǎn)生。該酸和/或堿的溶液被施加到玻璃基材表面上，優(yōu)選還施加到具有光學(xué)透明的導(dǎo)電層的玻璃基材表面上。優(yōu)選對(duì)該酸和/或堿的溶液進(jìn)行選擇，以使得該玻璃表面被蝕刻，但是同時(shí)該光學(xué)透明的導(dǎo)電層不受該酸和/或堿的溶液的腐蝕。金屬氧化物特別取決于它們的氧化還原電勢(shì)，具有足夠的耐酸堿穩(wěn)定性。在形成相應(yīng)的鈍化表面的金屬層的情況下，也可以利用這一性能。

該抗反射層優(yōu)選是如下來產(chǎn)生的：將包含光學(xué)透明的導(dǎo)電層的玻璃基材完全浸入到酸和/或堿的溶液中。在本發(fā)明上下文中，“完全”還包括保持裝置在玻璃基材上任選的未處理的接觸點(diǎn)。

備選地，該抗反射層還可以通過將酸和/或堿的溶液噴涂到具有光學(xué)透明的導(dǎo)電層的玻璃基材上來產(chǎn)生。