[發(fā)明專利]包括靜電偏轉(zhuǎn)器的帶電粒子光學(xué)系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201080029268.8 | 申請(qǐng)日: | 2010-04-28 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102460630A | 公開(kāi)(公告)日: | 2012-05-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | N.H.R.巴爾斯;S.W.H.斯廷布林克;G.F.坦恩伯格 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 邁普爾平版印刷IP有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01J37/317 | 分類號(hào): | H01J37/317 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 陳曉帆;沙捷 |
| 地址: | 荷蘭*** | 國(guó)省代碼: | 荷蘭;NL |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 包括 靜電 偏轉(zhuǎn) 帶電 粒子 光學(xué)系統(tǒng) | ||
1.一種包括靜電偏轉(zhuǎn)器以用于偏轉(zhuǎn)多個(gè)帶電粒子小射束的帶電粒子光學(xué)系統(tǒng),該靜電偏轉(zhuǎn)器包括至少部分獨(dú)立的第一和第二電極,該偏轉(zhuǎn)器通過(guò)操作位于所述多個(gè)小射束從中通過(guò)的電極之間的電場(chǎng)偏轉(zhuǎn)所述多個(gè)小射束,所述多個(gè)小射束限定一通過(guò)窗口,該通過(guò)窗口在第一方向上延伸,其中所述多個(gè)小射束布置成在該第一方向上延伸的單一橫排,并且該通過(guò)窗口在一橫向于該第一方向的方向上的尺寸與所述小射束的直徑匹配,并且其中該靜電偏轉(zhuǎn)器的實(shí)質(zhì)部分在該第一方向上延伸超出該通過(guò)窗口。
2.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中該實(shí)質(zhì)部分在該第一方向上延伸數(shù)倍于該通過(guò)窗口內(nèi)所述小射束的間距。
3.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中該偏轉(zhuǎn)器在目標(biāo)的所述表面內(nèi)的一子分區(qū)上橫向于該第一方向偏轉(zhuǎn)所述小射束,該子分區(qū)例如是晶片上的一場(chǎng)域。
4.如權(quán)利要求3所述的系統(tǒng),其中該偏轉(zhuǎn)器是用以執(zhí)行該系統(tǒng)的最終寫(xiě)入投射的掃描偏轉(zhuǎn)器。
5.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中該通過(guò)窗口在法向于條帶的方向上具有一寬度,而當(dāng)在所述電極之間設(shè)定電位差時(shí)在該方向上產(chǎn)生一電場(chǎng),所述條帶在三個(gè)相互垂直的方向上具有高度、寬度及橫向方向,該條帶的高度大于該通過(guò)窗口的寬度。
6.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中第一電極包括第一和第三條帶,第二電極包括第二和第四條帶,其中通過(guò)窗口出現(xiàn)在第一和第二條帶之間以及第三和第四條帶之間,而位于第二和第三條帶之間的區(qū)域沒(méi)有通過(guò)窗口。
7.如權(quán)利要求6所述的系統(tǒng),其中該區(qū)域作為自由空間被納入。
8.如權(quán)利要求7所述的系統(tǒng),其中各電極包括平行延伸的多個(gè)條帶,第一和第二電極的條帶組成交錯(cuò)電極對(duì)。
9.如權(quán)利要求8所述的系統(tǒng),其中多個(gè)通過(guò)窗口出現(xiàn)在經(jīng)交錯(cuò)的電極之間,在各通過(guò)窗口中電場(chǎng)的指向相同。
10.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中所述電極之間的電場(chǎng)小于100V。
11.如權(quán)利要求10所述的系統(tǒng),其中所述電極之間的電場(chǎng)小于20V。
12.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中靜電偏轉(zhuǎn)器在與該第一方向垂直的第二方向上包括一邊緣區(qū),該邊緣區(qū)包括所述電極的條帶以限定一電場(chǎng),此電場(chǎng)與所述電場(chǎng)的指向相同,但缺少具有小射束的通過(guò)窗口。
13.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),進(jìn)一步包括納入在所述第一靜電偏轉(zhuǎn)器的上游或下游處的第二靜電偏轉(zhuǎn)器,該第二靜電偏轉(zhuǎn)器在異于第一偏轉(zhuǎn)器的方向或指向上偏轉(zhuǎn)所述小射束。
14.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中該獨(dú)立電極系覆蓋有鍍層,藉此提供大體上電性均質(zhì)的表面。
15.如權(quán)利要求14所述的系統(tǒng),其中該鍍層為金屬鍍層。
16.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中具有一終端電阻。
17.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中在孔徑內(nèi)部,或在該孔徑上覆蓋有機(jī)械支柱,藉以機(jī)械地支撐其至少一個(gè)電極或條帶。
18.一種如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)的用途,其用于偏轉(zhuǎn)至少一個(gè)帶電粒子小射束。
19.如權(quán)利要求18所述的用途,其包括將相反極性的電壓提供給所述第一和第二電極的步驟。
20.如權(quán)利要求18所述的用途,其中所述相反極性的電壓大小相等且小于10V。
21.如權(quán)利要求19或20所述的用途,其中所述電壓以0至10MHz的范圍內(nèi)的頻率被提供。
22.如權(quán)利要求18所述的用途,其中小射束在定位周期中定位于一起始位置,并在寫(xiě)入周期中從所述起始位置偏轉(zhuǎn)。
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