[發(fā)明專利]多用途光學(xué)傳感器有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201080028707.3 | 申請日： | 2010-05-20 |
| 公開（公告）號： | CN102802509B | 公開（公告）日： | 2017-06-09 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | S·德里韋拉 | 申請（專利權(quán)）人： | 美國亞德諾半導(dǎo)體公司 |
| 主分類號： | A61B5/00 | 分類號： | A61B5/00 |
| 代理公司： | 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會專利商標(biāo)事務(wù)所11038 | 代理人： | 陳華成 |
| 地址： | 美國馬*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 多用途 光學(xué) 傳感器 | ||
1.一種檢測裝置，包括：
向一空間體積中發(fā)射電磁輻射的源；
位置敏感檢測器，其測量從所述空間體積中的物體反射的電磁輻射的位置，所述源和所述位置敏感檢測器都被調(diào)制以減小環(huán)境輻射對測量的影響；以及
電子器件，其基于測得的反射輻射的位置計(jì)算所述空間體積中的物體的位置，
其中所述源在至少兩個(gè)不同的波長上發(fā)射所述電磁輻射，并且所述電子器件計(jì)算所述不同的波長中的每一個(gè)的光電容積描記，
其中所述位置敏感檢測器通過分別在所述位置敏感檢測器的第一端和第二端生成第一電流和第二電流來測量反射的電磁輻射的位置，所述第一電流和所述第二電流依賴于在所述位置敏感檢測器面向屏障的第一側(cè)的表面上反射的電磁輻射的光分布而變化，
其中所述源和所述位置敏感檢測器的調(diào)制被同步，并且
其中在所述電子器件計(jì)算光電容積描記的同時(shí)，物體的運(yùn)動被跟蹤，與被跟蹤的運(yùn)動有關(guān)的信息被用于減少在所測量的反射輻射中的光強(qiáng)測量結(jié)果中的錯(cuò)誤。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測裝置，其中當(dāng)所述物體移動時(shí)，更新所計(jì)算出的所述物體的位置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測裝置，其中所述電子器件還計(jì)算反射輻射的強(qiáng)度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測裝置，其中所述源和所述位置敏感檢測器共同定位在二維平面上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測裝置，其中所述源和所述位置敏感檢測器共同定位在一個(gè)裝置中。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測裝置，還包括在所述物體和所述位置敏感檢測器之間的透明屏障，其中所述反射輻射穿過所述透明屏障傳播。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測裝置，其中在時(shí)域中調(diào)制所述源和所述位置敏感檢測器。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測裝置，其中在頻域中調(diào)制所述源。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的檢測裝置，其中所述源與所述位置敏感檢測器共同定位在所述透明屏障的同一側(cè)上。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的檢測裝置，其中所述源被配置成發(fā)射輻射穿過所述透明屏障。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的檢測裝置，其中當(dāng)物體接觸所述透明屏障的表面時(shí)，所述位置敏感檢測器測量從所述物體反射的電磁輻射的位置，并且所述電子器件計(jì)算所述物體在所述透明屏障的表面上的移動。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的檢測裝置，其中當(dāng)所述物體在所述空間體積和所述透明屏障的表面之間移動時(shí)，所述電子器件能夠連續(xù)地計(jì)算移動。
13.一種檢測裝置，包括：
多個(gè)源，在多個(gè)方向上發(fā)射電磁輻射穿過透明屏障，一些輻射進(jìn)入所述透明屏障的第一側(cè)后面的空間體積中；
所述透明屏障的第二側(cè)后面的位置敏感檢測器，其測量從至少一個(gè)物體反射的電磁輻射的位置和強(qiáng)度，所述源和所述位置敏感檢測器都被調(diào)制以減小環(huán)境輻射對測量的影響，并且在所述位置敏感檢測器處識別來自不同源的輻射；以及
電子器件，其基于測得的反射輻射的位置計(jì)算所述至少一個(gè)物體的位置，并且基于來自所述多個(gè)源的反射輻射的強(qiáng)度比較，辨別所述至少一個(gè)物體位于所述空間體積中，還是位于所述透明屏障的第一側(cè)的表面上，
其中所述多個(gè)源在至少兩個(gè)不同的波長上發(fā)射所述電磁輻射，并且所述電子器件計(jì)算所述不同的波長中的每一個(gè)的光電容積描記，
其中所述位置敏感檢測器通過分別在所述位置敏感檢測器的第一端和第二端生成第一電流和第二電流來測量反射的電磁輻射的位置，所述第一電流和所述第二電流依賴于在所述位置敏感檢測器面向屏障的第一側(cè)的表面上反射的電磁輻射的光分布而變化，
其中所述源和所述位置敏感檢測器的調(diào)制被同步，并且
其中在所述電子器件計(jì)算光電容積描記的同時(shí)，物體的運(yùn)動被跟蹤，與被跟蹤的運(yùn)動有關(guān)的信息被用于減少在所測量的反射輻射中的光強(qiáng)測量結(jié)果中的錯(cuò)誤。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的檢測裝置，其中當(dāng)所述至少一個(gè)物體移動時(shí)，更新所計(jì)算出的所述至少一個(gè)物體的位置。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的檢測裝置，其中所述電子器件還基于反射的電磁輻射的強(qiáng)度的變化計(jì)算所述至少一個(gè)物體對所述透明屏障施加的壓力。
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