[發明專利]在施膠壓榨施涂中用于遮蔽的酸性染料水溶液無效
| 申請號: | 201080028011.0 | 申請日: | 2010-07-23 |
| 公開(公告)號: | CN102471603A | 公開(公告)日: | 2012-05-23 |
| 發明(設計)人: | H·舍內 | 申請(專利權)人: | 科萊恩金融(BVI)有限公司 |
| 主分類號: | C09B67/00 | 分類號: | C09B67/00;D21H21/16 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人: | 鄧毅 |
| 地址: | 英屬維爾京*** | 國省代碼: | 維爾京群島;VG |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 壓榨 施涂中 用于 遮蔽 酸性染料 水溶液 | ||
1.施膠組合物,其包含
(a)0.0001-0.005重量%的式(1)的酸性染料:
其中
R1表示H,甲基或乙基,
R2表示對-甲氧基苯基,甲基或乙基,
M表示堿金屬陽離子,
(b)介于0.000002和0.00225重量%之間的至少一種保護性聚合物,其選自:
(i)聚乙烯醇或含有羧酸的聚乙烯醇;
(ii)丙烯酰胺、丙烯酸或甲基丙烯酸的均聚物;
(iii)丙烯酸或甲基丙烯酸與丙烯酰胺或甲基丙烯酰胺的共聚物,
(iv)聚乙二醇;
(c)介于0.01和2重量%之間的至少一種式(2)的光學增白劑:
其中
在增白劑上的陰離子電荷通過由選自下組的一種或多種相同或不同的陽離子組成的陽離子電荷來平衡:氫,堿金屬陽離子,堿土金屬,銨,被C1-C4線性或支鏈烷基單-、二-或三-取代的銨,被C1-C4線性或支化的羥烷基單-、二-或三-取代的銨,或所述化合物的混合物,
R3和R3′可以是相同或不同的,并且各自是氫,C1-C4線性或支鏈烷基,C2-C4線性或支化的羥烷基,CH2CO2-,CH2CH2CONH2或CH2CH2CN,
R4和R4′可以是相同或不同的,并且各自是C1-C4線性或支鏈烷基,C2-C4線性或支化的羥烷基,CH2CO2-,CH(CO2-)CH2CO2-,CH(CO2-)CH2CH2CO2-,CH2CH2SO3-,芐基,或
R3和R4和/或R3’和R4′,與相鄰氮原子一起表示嗎啉環,以及
p是0,1或2,
(d)介于1和30重量%之間的至少一種粘結劑;
(e)任選地,介于0.1和10重量%之間的至少一種二價金屬鹽;
(f)任選地殺生物劑和
(g)補足至100重量%的余量的水。
2.根據權利要求1的組合物,其中二價金屬鹽是氯化鈣或氯化鎂或所述化合物的混合物。
3.根據權利要求1和/或權利要求2的組合物,其中使用式(3)的光學增白劑:
4.根據權利要求2的組合物,其中在施膠組合物中二價金屬鹽的濃度在1-100g/l范圍內。
5.根據前述權利要求中一項或多項的組合物,其中施膠組合物的pH值在5-10范圍內。
6.根據權利要求1-5中一項或多項的組合物的用途,其特征在于包含組分(a)和(b)和(c)和(d)和(e)和(f)和(g)的根據權利要求1的組合物用于在施膠壓榨中為紙張施膠。
7.生產施膠紙的方法,其中根據權利要求1的施膠組合物用來在施膠壓榨中為紙施膠。
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