[發明專利]由含碳水化合物的物質生產戊二酸和衍生物有效
| 申請號: | 201080026095.4 | 申請日: | 2010-06-11 |
| 公開(公告)號: | CN102803194A | 公開(公告)日: | 2012-11-28 |
| 發明(設計)人: | T·R·布西爾;E·L·迪亞斯;Z·M·費雷斯科;V·J·墨菲 | 申請(專利權)人: | 萊諾維亞公司 |
| 主分類號: | C07C51/235 | 分類號: | C07C51/235;C07C51/377;C07C59/285;C07C55/12;C08G63/16;C08G69/26;C07C211/09;C07C29/147 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務所 11247 | 代理人: | 彭立兵;林柏楠 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 碳水化合物 物質生產 戊二酸 衍生物 | ||
1.一種用于制備戊二酸產物的工藝,所述工藝包括:
在加氫脫氧催化劑和鹵素源的存在下使C5-主鏈基質和氫氣反應以將所述C5-主鏈基質的至少一部分轉化為戊二酸產物,其中所述C5-主鏈基質包括式I的化合物
其中X獨立地是羥基、氧代、鹵代、酰氧基或氫,條件是至少一個X不是氫且R1獨立地是成鹽離子、氫、烴基、取代的烴基或其內酯。
2.如權利要求1所述的工藝,其中所述C5-主鏈基質包括式I的化合物,其中X是羥基且R1獨立地是成鹽離子、氫、烴基或取代的烴基。
3.如權利要求1或2所述的工藝,其中所述C5-主鏈基質包括戊酸。
4.如權利要求1至3中任一項所述的工藝,其中所述C5-主鏈基質包括選自由木糖二酸、阿拉伯酸、這些酸的衍生物及其混合物組成的組的化學品。
5.如權利要求3所述的工藝,其中所述戊酸包括選自由木糖二酸和阿拉伯酸組成的組的酸。
6.如權利要求1至5中任一項所述的工藝,其中所述C5-主鏈基質的至少一部分用弱羧酸來溶解。
7.如權利要求6所述的工藝,其中所述弱羧酸是乙酸。
8.如權利要求1至7中任一項所述的工藝,其中所述加氫脫氧催化劑包括非均相催化劑。
9.如權利要求1至8中任一項所述的工藝,其中所述加氫脫氧催化劑包括在載體的表面處的至少一種d-區金屬。
10.如權利要求9所述的工藝,其中所述d-區金屬選自由Ru、Rh、Pd、Pt及其組合組成的組。
11.如權利要求8至10中任一項所述的工藝,其中所述催化劑包括第一金屬和第二金屬,其中所述第一金屬選自由Ru、Rh、Pd、Pt及其組合組成的組,且所述第二金屬選自由Mo、Ru、Rh、Pd、Ir、Pt和Au組成的組,且其中所述第二金屬與所述第一金屬不同。
12.如權利要求9至11中任一項所述的工藝,其中所述加氫脫氧催化劑載體選自由炭、二氧化硅和氧化鋯組成的組。
13.如權利要求1至12中任一項所述的工藝,其中所述鹵素源包括溴或碘的離子形式、原子形式和/或分子形式。
14.如權利要求13所述的工藝,其中所述鹵素源包括溴化氫。
15.如權利要求1至14中任一項所述的工藝,其中所述鹵素源與所述C5-主鏈基質的摩爾比等于或小于約1。
16.如權利要求1至15中任一項所述的工藝,其中所述反應被維持在至少約80℃的溫度下。
17.如權利要求1至16中任一項所述的工藝,其中所述反應的溫度是約100℃至約200℃。
18.如權利要求1至17中任一項所述的工藝,其中所述反應在約25psia(172kPa)至約2500psia(17237kPa)范圍內的氫氣分壓下進行。
19.如權利要求1至18中任一項所述的工藝,其中所述C5-主鏈基質的至少一部分源自戊糖。
20.一種用于制備C5-主鏈基質的工藝,所述工藝包括:
在氧化催化劑的存在下,基本上在實質沒有加入的堿下和基本上沒有作為活性反應成分的氮氣下使戊糖與氧氣反應,其中所述戊糖的至少一部分被轉化為C5-主鏈基質。
21.如權利要求20所述的工藝,其中反應混合物的初始pH不大于約7。
22.如權利要求20所述的工藝,其中所述反應混合物的pH不大于7。
23.如權利要求20至22中任一項所述的工藝,其中所述戊糖的至少一部分被轉化為木糖二酸。
24.如權利要求20至23中任一項所述的工藝,其中所述氧化催化劑包括非均相催化劑。
25.如權利要求24所述的工藝,其中所述氧化催化劑包括選自由Pd、Pt及其組合組成的組的金屬。
26.如權利要求20至25中任一項所述的工藝,其中所述戊糖的至少一部分用弱羧酸來溶解。
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