[發明專利]薄層的沉積方法和獲得的產品

在審

• 申請號: 201080025936.X
• 申請日: 2010-06-11
• 公開（公告）號: CN102803174A
• 公開（公告）日: 2012-11-28
• 發明（設計）人: V.雷蒙;A.卡申科;N.納多
• 申請（專利權）人: 法國圣戈班玻璃廠
• 主分類號: C03C17/36
• 分類號: C03C17/36;C03C23/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 黃念;林森

1.用于獲得在至少一個面上用低發射率薄層堆疊體覆蓋的基材的方法，包括以下步驟：

-在所述基材的所述至少一個面上沉積薄層堆疊體，該堆疊體在至少兩個薄介質層之間包括至少一個薄銀層，

-使用至少一種在500-2000nm之間的至少一個波長發射的激光輻射來熱處理該至少一個被覆蓋的面使得該堆疊體的發射率和/或表面電阻減少至少5%，

所述方法使得所述堆疊體在處理之前包括至少一個至少部分吸收激光輻射的薄層，以便所述堆疊體在該至少一個激光輻射波長的吸收使得用所述堆疊體覆蓋的4mm厚的透明玻璃基材在所述至少一個激光輻射波長的吸收大于或等于10%。

2.根據權利要求1的方法，其中在與用該至少一種激光輻射處理的面相對的該基材面的溫度在熱處理期間不超過100℃，特別地50℃，甚至30℃。

3.根據前述權利要求之一的方法，其中該堆疊體的表面電阻和/或發射率通過該熱處理降低至少15%或20%。

4.根據前述權利要求之一的方法，其中該堆疊體包括至少兩個銀層，所述堆疊體在該至少一個激光輻射波長的吸收使得用所述堆疊體覆蓋的4mm厚的透明玻璃基材在所述至少一個激光輻射波長的吸收大于或等于11%，和熱處理使得該堆疊體的選擇性相對提高至少1%，特別地至少2%。

5.根據前述權利要求之一的方法，其中該基材是由玻璃或者聚合有機材料制成。

6.根據前述權利要求之一的方法，其中至少部分地吸收激光輻射的薄層是直接地沉積在該銀層上方或直接地沉積在銀層下方的金屬層，其厚度為2-5nm，特別地3-5nm，該金屬層尤其選自基于鎳、鉻、鈦、鈮的金屬或它們任一種合金的層。

7.根據前述權利要求之一的方法，其中至少部分地吸收激光輻射的薄層是氮化物層，特別地選自鈮、鈦的化學計量氮化物或其任一種混合物，或亞化學計量氮的硅、鋁、鈦或鈮氮化物，或它們的任一種混合物。

8.根據前述權利要求之一的方法，其中至少部分地吸收激光輻射的薄層是與空氣接觸的并且由金屬、亞化學計量氧的金屬氧化物或金屬氮化物組成的層。

9.根據前述權利要求之一的方法，其中至少部分地吸收激光輻射的薄層是亞化學計量氧的金屬氧化物的層，其位于在所述或每個銀層下方并且優選地與其接觸，或位于所述或每個銀層的上方并且優選地與其接觸。

10.根據前述權利要求之一的方法，其中至少部分地吸收激光輻射的薄層是與空氣接觸的基于碳，尤其石墨或無定形類型碳的層。

11.根據前述權利要求之一的方法，其中在堆疊體上的激光輻射面功率密度大于或等于20kW/cm²，尤其30kW/cm²。

12.根據前述權利要求之一的方法，其中該激光輻射從至少一個形成直線的激光束發出，其同時地照射該基材的整個或部分寬度。

13.根據前述權利要求之一的方法，其中使該用層覆蓋的基材和所述或每個激光線之間進行相對位移，使得在基材和激光的各自速度之間的差值大于或等于4米/分鐘，甚至6米/分鐘。

14.根據前述權利要求之一的方法，其中該激光輻射波長為530-1000nm。

15.根據前述權利要求之一的方法，其中所述堆疊體通過磁場增強的陰極濺射進行沉積。

16.根據前述權利要求之一的方法，其中該基材在熱處理步驟后經受淬火步驟。

17.在至少一個面上用低發射率薄層堆疊體覆蓋的未淬火玻璃基材，該低發射率薄層堆疊體在至少兩個薄介電層之間包含單個薄銀層，所述堆疊體具有小于或等于1.9Ω，甚至1.8Ω的表面電阻，并且該堆疊體使得用堆疊體覆蓋的4mm厚的透明玻璃基材具有大于或等于75%，甚至76%的光透射，和小于或等于5，甚至4的在該堆疊體側的反射色度值a*。