[發明專利]干涂層厚度測量方法和儀器

有效

• 申請號: 201080023246.0
• 申請日: 2010-05-25
• 公開（公告）號: CN102449430A
• 公開（公告）日: 2012-05-09
• 發明（設計）人: 烏多·W·布赫
• 申請（專利權）人: 烏多·W·布赫
• 主分類號: G01B11/06
• 分類號: G01B11/06;C23C2/14;G01B15/02
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286
• 代理人: 郭鴻禧

1.一種施加到基底表面的涂層的干燥厚度的測量儀器，包括：

涂層去除裝置，去除一些涂層，部分暴露基底表面；

傳感器裝置，用于發射信號并檢測從涂層表面和基底的暴露表面反射的信號，以生成一個或多個數據組，數據組包括表明涂層表面的位置和基底表面的位置的數據，傳感器裝置設置成，遠離涂層與基底，適于在基底和傳感器裝置之間相對運動時檢測從基底表面反射的信號；和

處理由所述傳感器裝置生成的數據組的處理裝置，以確定在所述基底上的涂層的厚度。

2.根據權利要求1所述的測量儀器，其中，所述測量儀器適于在涂層和/或基底的多個不同的地點上測量涂層表面和基底表面中的至少一個表面的位置，以生成所述數據組。

3.根據權利要求1或2所述的測量儀器，其中，所述涂層去除裝置適于在涂層中形成至少一個腔，傳感器裝置設置成檢測所述腔內暴露的基底表面反射的信號，以生成所述數據組。

4.根據權利要求3所述的測量儀器，其中，所述涂層去除裝置包括用于在涂層中形成所述至少一個腔的消融激光器。

5.根據權利要求4所述的測量儀器，其中，消融激光器適于在涂層中形成多個腔，所述腔形成為涂層內對齊的一系列孔或坑的形式。

6.根據權利要求1-5中任一項所述的測量儀器，其中，所述數據組包括表明涂層表面位置和/或基底表面的位置的平均值。

7.根據權利要求1-6中任一項所述的測量儀器，其中，所述傳感器裝置包括位移傳感器，該位移傳感器具有調整裝置，用于調整位移傳感器相對于涂層和/或基底表面的高度，以便優化位移傳感器的高度，以測量各所述表面的位置。

8.根據權利要求1-7中任一項所述的測量儀器，其中，所述傳感器裝置包括至少一個發射和檢測信號的位移傳感器。

9.根據權利要求1-8中任一項所述的測量儀器，其中，所述位移傳感器設置成相對于水平面的角度在5°～20°的范圍內，以發射和檢測信號。

10.根據權利要求1-9中任一項所述的測量儀器，其中，所述位移傳感器是激光位移傳感器。

11.根據權利要求1-10中任一項所述的測量儀器，其中，所述傳感器裝置適于在基底以10米每分鐘或更大的速度運行時檢測從基底表面反射的信號，以生成所述數據組。

12.根據權利要求11所述的測量儀器，其中，所述傳感器裝置適于在基底以15米每分鐘到220米每分鐘范圍內的速度運行時檢測從基底表面反射的信號。

13.根據權利要求1-12中任一項所述的測量儀器，其中，所述基底是金屬帶。

14.測量儀器，其中，所述金屬帶是鋼帶和鋁帶。

15.根據權利要求1-14中任一項所述的測量儀器，其中，所述涂層是油漆涂層。

16.一種施加到基底表面的涂層的厚度的測量的方法，包括：

提供用于發射信號和檢測從涂層的外表面和基底的表面反射的信號的傳感器裝置，以生成一個或多個數據組，所述數據組包括表明涂層表面的位置的數據和表明基底的表面的位置的另外的數據；

去除一些涂層，部分暴露基底表面；

在基底和傳感器裝置之間相對運動時，使用傳感器裝置來測量涂層表面和基底的暴露的表面的位置，從而生成所述數據組，傳感器裝置遠離涂層與基底；以及

處理由傳感器裝置產生的數據組，以確定涂層的干厚度。

17.本發明的方法，還包括：

確定從涂層和/或基底表面到傳感器裝置的優化距離，以產生表明涂層表面位置與基底表面的位置的數據組；

如果傳感器裝置的位置與確定的優化距離不同，移動傳感器裝置到距離涂層表面和/或基底表面的該優化距離；

在傳感器裝置位于到涂層表面和/或基底表面的優化距離時，生成所述數據組。

18.根據權利要求16或17所述的方法，其中，至少有一個腔通過部分切除涂層而在涂層中形成，所述基底表面被暴露在腔內，腔內的基底表面的位置被測量。