[發(fā)明專利]用于通過低溫流體射流進行表面處理的設(shè)備和方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201080021751.1
• 申請日: 2010-05-07
• 公開（公告）號: CN102427915A
• 公開（公告）日: 2012-04-25
• 發(fā)明（設(shè)計）人: J·昆塔德;F·理查德;C·特呂紹
• 申請（專利權(quán)）人: 喬治洛德方法研究和開發(fā)液化空氣有限公司
• 主分類號: B24C1/00
• 分類號: B24C1/00;B24C3/06
• 代理公司: 北京市中咨律師事務(wù)所 11247
• 代理人: 牛曉玲;吳鵬

1.一種使用至少一股低溫高壓流體射流的工作設(shè)備，包括：

-與運動工具(4)流體連接的低溫流體源(1)，運動工具(4)包括一個或更多個用于分配一股或更多股所述低溫高壓流體射流的流體分配噴嘴(11)，和

-安裝在運動工具(4)周圍并與抽吸裝置(25)流體連接的第一保護包殼(20)，所述第一保護包殼(20)包括位于流體分配噴嘴(11)的旁邊的下部開口端，從而形成圍繞工具(4)的抽吸罩，

其特征在于，所述設(shè)備還包括氣態(tài)密封裝置(23)，所述氣態(tài)密封裝置適合于并設(shè)計成構(gòu)成至少在第一保護包殼(20)的下端處和在所述第一保護包殼(20)的周邊的至少一部分上的至少一個氣態(tài)保護屏障，所述氣態(tài)密封裝置(23)至少包括：

-第二保護包殼(23)，其圍繞第一保護包殼(20)的至少一部分布置并且在第一保護包殼(20)的下端開口，和

-與所述第二保護包殼(23)流體連接的干燥氣體供應(yīng)裝置(26、27)，從而將所述干燥氣體供應(yīng)到所述第二保護包殼(23)內(nèi)部。

2.根據(jù)權(quán)利要求1的設(shè)備，其特征在于，干燥氣體供應(yīng)裝置(28)包括干燥氮氣源。

3.根據(jù)權(quán)利要求1的設(shè)備，其特征在于，干燥氣體供應(yīng)裝置(28)包括干燥空氣源。

4.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項的設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備包括至少一個布置在低溫流體源(1)和轉(zhuǎn)動工具(4)之間的熱交換器(2、3)，所述熱交換器(2、3)包括排氣裝置，特別是排氣口，干燥氣體供應(yīng)裝置(26、27)與所述排氣裝置流體連接以便能夠回收通過所述排氣裝置逸出的氣體的至少一部分并且隨后將回收的氣體導(dǎo)入所述第二保護包殼(23)。

5.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項的設(shè)備，其特征在于，低溫流體源(1)是容納低溫液體且具有頂部氣體空間的罐，干燥氣體供應(yīng)裝置與低溫流體源(1)的頂部氣體空間流體連接。

6.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項的設(shè)備，其特征在于，將干燥氣體輸送給保護包殼(23)的干燥氣體供應(yīng)裝置包括至少一個氣體供應(yīng)管線(26)，優(yōu)選地，氣體供應(yīng)管線(26)配備有控制裝置和/或氣體流量控制裝置(27)。

7.一種用于避免或減少圍繞工作設(shè)備的運動工具(4)的第一保護包殼(20)的內(nèi)部被大氣雜質(zhì)污染的方法，工作設(shè)備使用由運動工具(4)的一個或更多個噴嘴(11)分配的至少一股低溫高壓流體射流，工作設(shè)備特別為如權(quán)利要求1-6中任一項的工作設(shè)備，所述第一保護包殼(20)的下端定位成面對待處理表面，其特征在于，供應(yīng)干燥氣體并且至少在第一保護包殼(20)的下端處和在所述第一保護包殼(20)的周邊的至少一部分上形成至少一個氣態(tài)保護屏障，氣態(tài)保護屏障借助于圍繞第一保護包殼(20)的至少一部分布置并且在第一保護包殼(20)的下端開口的至少第二保護包殼(23)形成，將干燥氣體供應(yīng)給所述第二保護包殼(23)，所述干燥氣體的壓力(P2)大于在第一保護包殼(20)內(nèi)的壓力且大于第二保護包殼(23)外部的大氣壓力。

8.根據(jù)權(quán)利要求7的方法，其特征在于，所述干燥氣體是空氣或氮氣。

9.根據(jù)權(quán)利要求7或8的方法，其特征在于，干燥氣體是來自于所述設(shè)備的熱交換器的排氣裝置的氮氣和/或來自于低溫流體源(1)的頂部氣體空間的氮氣。

10.根據(jù)權(quán)利要求7-9中任一項的方法，其特征在于，通過工具(4)的噴嘴分配的低溫流體的壓力至少為300bar，優(yōu)選地介于2000bar和5000bar之間，并且低溫流體的溫度低于-140℃，優(yōu)選地介于大約-140℃和-180℃之間。

11.根據(jù)權(quán)利要求7-10中任一項的方法，其特征在于，大氣雜質(zhì)是水蒸氣。

12.根據(jù)權(quán)利要求7-11中任一項的方法，其特征在于，供應(yīng)給第二保護包殼(23)內(nèi)部的干燥氣體的流率介于1000l/min和20000l/min之間，優(yōu)選地介于5000l/min和15000l/min之間。

13.一種使用高壓低溫流體對材料進行表面處理、清洗或剝離的方法，在該方法中使用如權(quán)利要求1-6中任一項的設(shè)備或者如權(quán)利要求7-12中任一項的方法。