[發(fā)明專利]六邊形型立方角回射物品有效

申請?zhí)枺?/td>	201080020740.1	申請日：	2010-05-10
公開（公告）號：	CN102422186A	公開（公告）日：	2012-04-18
發(fā)明（設計）人：	三村育夫;雨宮圭司;小善貢	申請（專利權）人：	日本電石工業(yè)株式會社
主分類號：	G02B5/124	分類號：	G02B5/124;E01F9/015
代理公司：	北京尚誠知識產權代理有限公司 11322	代理人：	龍淳
地址：	日本***	國省代碼：	日本;JP
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摘要：
搜索關鍵詞：	六邊形立方角回射物品
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【權利要求書】：

1.一種回射物品，其特征在于，

由多個六邊形型立方角回射元件集合而形成，

所述六邊形型立方角回射元件中，3個四邊形形狀的反射側面(a面、b面以及c面)互相共有3根棱線(HD、HE以及HF)以及1個頂點(H)，并由6個外周邊(AE、EC、CD、DB、BF以及FA)區(qū)劃而成，并且具有通過該頂點(H)且與該3個反射側面(a面、b面以及c面)距離相等的光學軸，

至少一個反射側面(a面、b面以及/或者c面)被分割成一對上部副反射側面(a1面、b1面以及/或者c1面)和下部副反射側面(a2面、b2面以及/或者c2面)，所述一對上部副反射側面和下部副反射側面被構成該反射側面的頂點(E、F以及/或者D)所連結的線段(EF、FD以及/或者DE)所區(qū)劃，并且，構成該副反射側面對的2個副反射側面不在同一個平面上。

2.如權利要求1所述的回射物品，其特征在于，

該六邊形型立方角回射元件的光學軸相對于從該反射元件的頂點(H)向該回射物品的共通平面引出的垂線傾斜3～15度。

3.如權利要求1或2所述的回射物品，其特征在于，

所述上部副反射側面(a1面、b1面以及/或者c1面)與下部副反射側面(a2面，b2面以及/或者c2面)所形成的副側面之間的角度為0.008～0.33度。

4.如權利要求1～3中任意一項所述的回射物品，其特征在于，

所述副反射側面的副側面角，與鄰接的回射元件的對應的副反射側面的副側面角相差0.008～0.33度。

5.如權利要求1～4中任意一項所述的回射物品，其特征在于，

所述副側面角與鄰接的回射元件的對應的副反射側面的副側面角相差0.008～0.33度，并以2個以上的副側面角的組合進行周期性的變化。

6.如權利要求1～5中任意一項所述的回射物品，其特征在于，

在所述上部副反射側面(a1面、b1面以及/或者c1面)與下部副反射側面(a2面、b2面以及/或者c2面)之間設置有不形成立方角的面(E1-E2-F2-F1、F1-F2-D2-D1以及/或者D1-D2-E2-E1)。

7.如權利要求1～6中任意一項所述的回射物品，其特征在于，

所述上部副反射側面(a1面、b1面以及/或者c1面)以及/或者下部副反射側面(a2面、b2面以及/或者c2面)進一步被分割成2個以上的平面。