[發(fā)明專利]氣體處理設備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201080019844.0 | 申請日： | 2010-09-09 |
| 公開（公告）號： | CN102421516A | 公開（公告）日： | 2012-04-18 |
| 發(fā)明（設計）人： | 武多一浩;中川陽介;武田知晃;毛利靖 | 申請（專利權(quán)）人： | 三菱重工壓縮機有限公司 |
| 主分類號： | B01J19/00 | 分類號： | B01J19/00;F04B49/06 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人： | 楊娟奕 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 氣體 處理 設備 | ||
1.一種氣體處理設備，包括：
壓縮機，所述壓縮機壓縮過程氣體；
第一處理模塊，所述第一處理模塊設置在所述壓縮機的下游并處理所述過程氣體；
膨脹器，所述膨脹器設置在所述第一處理模塊的下游并膨脹所述過程氣體以獲得動力；
第二處理模塊，所述第二處理模塊設置在所述膨脹器的下游并處理所述過程氣體；
驅(qū)動裝置，所述驅(qū)動裝置驅(qū)動所述壓縮機；
第一壓力指示器，所述第一壓力指示器設置在用于所述過程氣體的所述壓縮機的入口處并測量所述過程氣體的壓力；
第二壓力指示器，所述第二壓力指示器設置在用于所述過程氣體的第二處理模塊的出口處并測量所述過程氣體的壓力；
再循環(huán)流路，所述再循環(huán)流路連接到用于所述過程氣體的第二處理模塊的出口和用于所述過程氣體的壓縮機的入口并且使所述過程氣體再循環(huán)；
第一壓力控制閥，所述第一壓力控制閥設置在所述再循環(huán)流路中并調(diào)節(jié)將被再循環(huán)的所述過程氣體的壓力；
第二壓力控制閥，所述第二壓力控制閥設置在所述第二壓力指示器的下游并調(diào)節(jié)所述過程氣體的壓力；
速度指示器，所述速度指示器測量所述驅(qū)動裝置的轉(zhuǎn)速；和
控制裝置，所述控制裝置根據(jù)所述第一壓力指示器和所述第二壓力指示器測量的壓力以及所述速度指示器測量的轉(zhuǎn)速控制所述驅(qū)動裝置的轉(zhuǎn)速和所述第一壓力控制閥以及所述第二壓力控制閥中的至少一個。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體處理設備，還包括：
過程氣體出口流路，所述過程氣體出口流路連接在用于所述過程氣體的第二處理模塊的出口與所述第二壓力控制閥之間；
第三壓力指示器，所述第三壓力指示器設置在所述過程氣體出口流路中并測量所述過程氣體的壓力；和
第三壓力控制閥，所述第三壓力控制閥在所述過程氣體出口流路中設置在所述第三壓力指示器的上游并調(diào)節(jié)所述過程氣體的壓力，
其中所述控制裝置根據(jù)所述第三壓力指示器測量的壓力控制所述第三壓力控制閥。
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