[發明專利]加氫轉化多金屬催化劑及其制備方法

有效

• 申請號: 201080018711.1
• 申請日: 2010-04-29
• 公開（公告）號: CN102413926A
• 公開（公告）日: 2012-04-11
• 發明（設計）人: T·梅森;A·E·庫珀曼;D·戴克斯特拉
• 申請（專利權）人: 雪佛龍美國公司
• 主分類號: B01J23/888
• 分類號: B01J23/888;B01J23/85;B01J35/10;B01J37/20;C07F19/00
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 任永利

1.一種催化劑前體，其經過硫化形成用于在加氫加工條件下對烴進料進行加氫處理的本體多金屬催化劑，所述催化劑前體包含：至少一種VIB族金屬化合物；

選自VIII族、IIB族、IIA族、IVA族及其組合中的至少一種助催化劑金屬化合物；

任選地至少一種配位劑L；

任選地至少一種稀釋劑；

其中所述催化劑前體的特征在于具有差的結晶結構，該差的晶體機構帶有雜亂的堆疊層，帶有IV型氮吸附-脫附等溫線，且滯后起點值P/P₀為約0.35。

2.權利要求1的催化劑前體，其中所述前體具有H3型滯后圈。

3.權利要求1的催化劑前體，其中所述滯后圈具有高于約0.55的P/P₀的充分發展的平臺。

4.權利要求1的催化劑前體，其中所述催化劑前體的特征在于具有BET表面積為25～400m²/g的中孔結構。

5.權利要求1～4中任一項的催化劑前體，其中所述BET表面積為40～200m²/g。

6.權利要求1～4中任一項的催化劑前體，其中所述BET表面積為60～150m²/g。

7.權利要求1～4中任一項的催化劑前體，其中所述催化劑前體的特征在于具有平均孔徑為2nm～200nm的中孔結構。

8.權利要求1～4中任一項的催化劑前體，其中所述平均孔徑為5～150nm。

9.權利要求1～4中任一項的催化劑前體，其中所述平均孔徑為10～125nm。

10.權利要求1～4中任一項的催化劑前體，其中所述催化劑前體的特征在于具有孔體積大于0.01cm³/g的中孔結構。

11.權利要求1～4中任一項的催化劑前體，其中所述孔體積為0.01～0.50cm³/g。

12.權利要求1～4中任一項的催化劑前體，其中所述孔體積為0.02～0.20cm³/g。

13.權利要求1～4中任一項的催化劑前體，其中所述孔體積為0.05～0.15cm³/g。

14.權利要求1～4中任一項的催化劑前體，其中所述催化劑前體經過在至少100℃的溫度下硫化至少30分鐘，剩余幾何體積收縮為小于10％。

15.權利要求1～4中任一項的催化劑前體，其中所述催化劑前體具有至多1.6g/cc的緊密堆積密度。

16.權利要求1～4中任一項的催化劑前體，其中所述催化劑前體具有至多1.4g/cc的緊密堆積密度。

17.權利要求1～4中任一項的催化劑前體，其中所述催化劑前體經過在至少100℃的溫度下硫化至少30分鐘，剩余幾何體積收縮為小于10％。

18.權利要求1～4中任一項的催化劑前體，其中所述催化劑前體經過在至少100℃的溫度下硫化至少30分鐘，剩余幾何體積收縮為小于8％。