[發明專利]水分發生用反應爐

無效

• 申請號: 201080018059.3
• 申請日: 2010-04-22
• 公開（公告）號: CN102421698A
• 公開（公告）日: 2012-04-18
• 發明（設計）人: 大見忠弘;川田幸司;池田信一;森本明弘;皆見幸男;平尾圭志;坂本信治;北野真史
• 申請（專利權）人: 國立大學法人東北大學;株式會社富士金
• 主分類號: C01B5/00
• 分類號: C01B5/00;B01J23/42;B01J33/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 龐立志;高旭軼

1.水分發生用反應爐，其特征在于，具有：設有氣體入口和水分出口的反應爐主體、成膜于所述反應爐主體的內壁面的至少一部分上的Y₂O₃阻擋層、成膜于該Y₂O₃阻擋層上的至少一部分上的鉑催化劑層。

2.如權利要求1所述的水分發生用反應爐，其特征在于，所述Y₂O₃阻擋層的膜厚為50nm～5μm。

3.如權利要求1所述的水分發生用反應爐，其特征在于，所述反應爐主體是由對氫和氧無催化活性的材料所形成的。

4.如權利要求1所述的水分發生用反應爐，其特征在于，所述反應爐主體內進一步具有至少1片反射體，該反射體是由對氫和氧無催化活性的材料所形成的。

5.如權利要求4所述的水分發生用反應爐，其特征在于，所述反射體以隔著規定間隔遮擋所述氣體入口和所述水分出口中的至少一者的方式，隔著間隔件被固定螺釘固定在所述反應爐主體上，所述間隔件和所述固定螺釘是由對氫和氧無催化活性的材質所形成的。

6.如權利要求1所述的水分發生用反應爐，其特征在于，使如反應爐主體構件或反射體這樣的具有與反應爐內的氣體相接觸的面的構件使用對氫和氧無催化活性的材質。

7.如權利要求3～6中任一項所述的水分發生用反應爐，其特征在于，所述無催化活性的材料是鐵-鉻-鋁合金、鋁合金、或銅合金。

8.如權利要求1所述的水分發生用反應爐，其特征在于，所述反應爐主體的內部空間內的除設置了所述鉑催化劑層的部分以外的部位，被由對氫和氧無催化活性的材質所構成的阻擋層所被覆。

9.如權利要求1所述的水分發生用反應爐，其特征在于，所述反應爐主體內進一步具有至少1片反射體，該反射體被由對氫和氧無催化活性的材料所構成的阻擋層所被覆。

10.如權利要求9所述的水分發生用反應爐，其特征在于，所述反射體以隔著規定間隔遮擋所述氣體入口和所述水分出口中的至少一者的方式，隔著間隔件被固定螺釘固定在所述反應爐主體上，所述間隔件和所述固定螺釘被由對氫和氧無催化活性的材質構成的阻擋層所被覆。

11.如權利要求8～10中任一項所述的水分發生用反應爐，其特征在于，由不具有催化活性的材料所構成的阻擋層是由選自TiN、TiC、TiCN、TiAlN、Al₂O₃、Cr₂O₃、SiO₂、CrN和Y₂O₃中的至少一種材料所形成的。