[發明專利]熱處理裝置無效
| 申請號: | 201080017903.0 | 申請日: | 2010-08-11 |
| 公開(公告)號: | CN102414800A | 公開(公告)日: | 2012-04-11 |
| 發明(設計)人: | 小松智仁;釜石貴之;山崎良二 | 申請(專利權)人: | 東京毅力科創株式會社 |
| 主分類號: | H01L21/26 | 分類號: | H01L21/26;H01L21/205;H01L21/31 |
| 代理公司: | 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322 | 代理人: | 龍淳 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 熱處理 裝置 | ||
1.一種熱處理裝置,其特征在于,包括:
收容被處理基板的處理容器;
在所述處理容器內將被處理基板水平支承的基板支承部;
經由形成于所述處理容器的開口,對被所述基板支承部支承的被處理基板照射光的燈組件;和
支承所述燈組件的燈組件支承部,
所述燈組件具有:
多個燈,其被設置成前端朝向被所述基板支承部支承的被處理基板一側;
支承所述多個燈的底座部件;
多個環狀反射器,其按照以與被處理基板的中心對應的部分為中心同心狀地、且向被處理基板一側突出的方式設置于所述底座部件,將從所述燈照射的光反射并導向被處理基板一側;和
將冷卻介質供給至所述反射器的內部的冷卻介質供給單元,
所述多個燈的至少一部分沿著所述反射器設置,在所述反射器的內部形成有沿著其配置方向且由環狀空間形成的冷卻介質流路。
2.如權利要求1所述的熱處理裝置,其特征在于:
還包括使所述基板支承部旋轉的旋轉機構,由此一邊使被所述基板支承部支承的被處理基板旋轉一邊通過所述燈加熱被處理基板。
3.如權利要求1所述的熱處理裝置,其特征在于:
所述反射器具有:規定冷卻介質流路并且表面成為反射面的側壁,所述側壁的厚度為1.2~5mm。
4.如權利要求1所述的熱處理裝置,其特征在于:
所述反射器,在對應于被處理基板的中心的位置具有旋轉對稱的形狀。
5.如權利要求4所述的熱處理裝置,其特征在于:
所述多個反射器的內側和外側的反射面的至少一部分,構成相對于被所述基板支承部支承的被處理基板的面的法線傾斜的圓錐面。
6.如權利要求1所述的熱處理裝置,其特征在于:
所述多個反射器的內側和外側的反射面,相對于被所述基板支承部支承的被處理基板的面的法線為0~60°的角度。
7.如權利要求1所述的熱處理裝置,其特征在于:
所述燈,相對于被所述基板支承部支承的被處理基板的面的法線向內側傾斜。
8.如權利要求7所述的熱處理裝置,其特征在于:
所述燈的傾斜角度的范圍為5~47°。
9.如權利要求1所述的熱處理裝置,其特征在于:
具有多個燈模塊,其構成為將所述燈按多個一組安裝于安裝部件,并且,這些燈模塊以能夠拆裝的方式設置于所述底座部件。
10.如權利要求1所述的熱處理裝置,其特征在于:
所述燈,具有透明的石英管和設置于其內部的中央的燈絲,多個所述燈中相鄰的燈的所述石英管的中心之間的距離為22mm以上40mm以下。
11.如權利要求1所述的熱處理裝置,其特征在于:
所述燈,具有透明的石英管、設置于其內部的燈絲和用于向所述燈絲供電的供電端子,所述燈組件還具有與所述供電端子接觸并用于對其進行冷卻的冷卻塊,所述冷卻塊具有散熱面,所述散熱面以接觸由冷卻介質冷卻的冷卻壁的方式設置。
12.如權利要求11所述的熱處理裝置,其特征在于:
所述冷卻壁被在所述反射器流通的冷卻介質所冷卻。
13.如權利要求11所述的熱處理裝置,其特征在于:
所述燈組件還具有:按照將所述冷卻塊向所述冷卻壁推壓的方式進行施力的施力部件。
14.如權利要求1所述的熱處理裝置,其特征在于:
所述燈組件還具有防止從所述燈發出的光到達所述供電端子的遮光壁。
15.如權利要求14所述的熱處理裝置,其特征在于:
所述遮光壁設置于所述反射器。
16.如權利要求1所述的熱處理裝置,其特征在于:
所述燈組件還具有:以堵塞所述處理容器的所述開口的方式設置的、使從所述燈發射的光透過的光透過部件,所述光透過部件被所述燈組件支承部支承。
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