[發(fā)明專利]微影機及基板處理的配置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201080017870.X | 申請日: | 2010-02-22 |
| 公開(公告)號: | CN102414776A | 公開(公告)日: | 2012-04-11 |
| 發(fā)明(設計)人: | G.德波爾;S.巴爾圖森;H.J.德瓊 | 申請(專利權)人: | 邁普爾平版印刷IP有限公司 |
| 主分類號: | H01J37/16 | 分類號: | H01J37/16;H01J37/18;H01L21/677;H01L21/00;H01J37/317 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人: | 陳堯劍 |
| 地址: | 荷蘭*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 微影機 處理 配置 | ||
1.一種包括多個帶電粒子微影設備的裝置,每個帶電粒子微影設備均具有真空腔室(400),所述裝置進一步包括:
共用自動機(305),用以將晶圓運送到所述多個微影設備;以及
用于每個帶電粒子微影設備的晶圓裝載單元(303),被布置在每個相應真空腔室(400)的正面;
其中所述多個微影設備被布置成行,且所述微影設備的正面面向過道(310),所述過道用以讓所述共用自動機(305)通過,以便將晶圓運送至每個設備;并且
其中每個微影設備的背面面向通道廊道(306),并且每個真空腔室的后壁均設置有通道門,用以通往相應的微影設備。
2.如權利要求1所述的裝置,其中所述多個微影設備被布置成具有中間共用過道的兩行。
3.如權利要求2所述的裝置,其中所述兩行微影設備被布置成彼此相對,所述中間共用過道在兩行微影設備之間。
4.如權利要求2所述的裝置,其中所述兩行微影設備被豎直堆迭,兩行均面向所述中間共用過道。
5.如權利要求1所述的裝置,其中所述多個微影設備被布置成具有中間共用過道的多行,其中多行所述微影設備中的至少兩行被布置成彼此相對,所述中間共用過道在所述至少兩行之間,并且多行所述微影設備中的至少兩行被豎直堆迭,該兩行均面向所述中間共用過道。
6.如前述權利要求中任一項所述的裝置,其中每個微影設備在其前壁處均設置有裝載鎖單元(303)。
7.如前述權利要求中任一項所述的裝置,其中用于每個帶電粒子微影設備的平臺致動器(304)被設置在每個相應微影設備的正面。
8.如前述權利要求中任一項所述的裝置,其中為每個帶電粒子微影設備提供包括致動部件或致動桿的平臺致動器(304),以在每個相應的腔室(400)中移動平臺。
9.如權利要求7或8所述的裝置,其中所述裝載鎖單元(303)被布置在每個相應微影設備的平臺致動器(304)的上方。
10.如前述權利要求中任一項所述的裝置,其中所述共用自動機包括至少兩個自動機單元。
11.如前述權利要求中任一項所述的裝置,其中所述裝置進一步包括自動機儲存單元(307)。
12.如權利要求11所述的裝置,其中所述儲存單元被布置在與所述過道相鄰的一行微影設備的末端處。
13.如前述權利要求中任一項所述的裝置,其中成行的微影設備中的一個或多個被豎直堆迭成二層或更多層。
14.如權利要求13所述的裝置,其中每個微影設備均設置有來自地板的單個支撐體。
15.如權利要求13所述的裝置,其中每層微影設備均設置有到地板的單獨支撐體。
16.一種包括多個微影處理單元的帶電粒子微影機,每個微影處理單元均被布置在真空腔室(400)中,所述微影機進一步包括:
共用自動機(305),用以將晶圓運送至所述多個處理單元;和
用于每個處理單元的晶圓裝載單元(303),其被布置在每個相應真空腔室(400)的正面;
其中所述多個處理單元被布置成行,所述處理單元的正面面向過道(310),所述過道用以讓所述共用自動機(305)通過,用于將晶圓運送至每個處理單元;并且
其中每個處理單元的背面面向通道廊道(306),并且每個真空腔室的后壁均設置有通道門,用以通往相應的所述處理單元。
17.如權利要求16所述的微影機,其中所述多個處理單元被布置成具有中間共用過道的兩行。
18.如權利要求17所述的微影機,其中所述兩行處理單元被布置成彼此相對,所述中間共用過道在所述兩行之間。
19.如權利要求17所述的微影機,其中所述兩行處理單元被豎直堆迭,兩行均面向所述中間共用過道。
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