[發(fā)明專利]具有垂直各向異性的ST-RAM單元無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201080017837.7 | 申請(qǐng)日: | 2010-03-04 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102396031A | 公開(公告)日: | 2012-03-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | D·王;習(xí)海文;Y·鄭;D·季米特洛夫 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 希捷科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G11C11/16 | 分類號(hào): | G11C11/16 |
| 代理公司: | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100 | 代理人: | 錢慰民 |
| 地址: | 美國(guó)加利*** | 國(guó)省代碼: | 美國(guó);US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 具有 垂直 各向異性 st ram 單元 | ||
1.一種在襯底上的磁性隧道結(jié)單元,所述磁性隧道結(jié)單元包括鐵磁性自由層、第一被釘扎基準(zhǔn)層和第二被釘扎基準(zhǔn)層,每個(gè)前述層具有垂直于所述襯底的磁各向異性,所述自由層在所述第一被釘扎基準(zhǔn)層和所述第二被釘扎基準(zhǔn)層之間,并具有垂直于所述襯底的磁化方向且所述磁化方向可通過(guò)自旋轉(zhuǎn)矩從第一方向切換至相反的第二方向,所述自由層的磁化耦合于所述第一被釘扎基準(zhǔn)層和所述第二被釘扎基準(zhǔn)層中的每一個(gè)。
2.如權(quán)利要求1所述的磁性隧道結(jié)單元,其特征在于,還包括:
位于所述自由層和第一被釘扎基準(zhǔn)層之間的第一非磁性阻擋層;以及
位于所述自由層和第二被釘扎基準(zhǔn)層之間的第二非磁性阻擋層。
3.如權(quán)利要求1或2所述的磁性隧道結(jié)單元,其特征在于,所述第一被釘扎基準(zhǔn)層是非平衡的合成反鐵磁性(SAF)耦合的結(jié)構(gòu)。
4.如權(quán)利要求1-3中任何一項(xiàng)所述的磁性隧道結(jié)單元,其特征在于,所述第二被釘扎基準(zhǔn)層是非平衡的合成反鐵磁性(SAF)耦合的結(jié)構(gòu)。
5.如權(quán)利要求1-4中任何一項(xiàng)所述的磁性隧道結(jié)單元,其特征在于,所述第一被釘扎基準(zhǔn)層和所述第二被釘扎基準(zhǔn)層中的每一個(gè)是非平衡的合成反鐵磁性(SAF)耦合的結(jié)構(gòu)。
6.一種在襯底上的磁存儲(chǔ)器單元,所述存儲(chǔ)器單元包括:
具有磁各向異性且磁化垂直于所述襯底的鐵磁性自由層,所述磁化可通過(guò)自旋轉(zhuǎn)矩來(lái)切換;
具有磁各向異性且磁化被釘扎垂直于所述襯底的第一被釘扎基準(zhǔn)層,所述第一被釘扎基準(zhǔn)層位于所述襯底和所述自由層之間;
位于所述自由層和第一被釘扎基準(zhǔn)層之間的第一非磁性阻擋層;
具有磁各向異性且磁化被釘扎垂直于所述襯底的第二被釘扎基準(zhǔn)層,所述自由層位于所述第一被釘扎基準(zhǔn)層和所述第二被釘扎基準(zhǔn)層之間;以及
位于所述自由層和所述第二被釘扎基準(zhǔn)層之間的第二非磁性阻擋層。
7.如權(quán)利要求6所述的存儲(chǔ)器單元,其特征在于,所述第一被釘扎基準(zhǔn)層是非平衡的合成反鐵磁性(SAF)耦合的結(jié)構(gòu)。
8.如權(quán)利要求6或7所述的存儲(chǔ)器單元,其特征在于,所述第二被釘扎基準(zhǔn)層是非平衡的合成反鐵磁性(SAF)耦合的結(jié)構(gòu)。
9.如權(quán)利要求6-8中任何一項(xiàng)所述的存儲(chǔ)器單元,其特征在于,所述第一被釘扎基準(zhǔn)層和所述第二被釘扎基準(zhǔn)層中的每一個(gè)是非平衡的合成反鐵磁性(SAF)耦合的結(jié)構(gòu)。
10.如權(quán)利要求9所述的存儲(chǔ)器單元,其特征在于,所述第一被釘扎基準(zhǔn)層和所述第二被釘扎基準(zhǔn)層是相同的。
11.如權(quán)利要求6-10中任何一項(xiàng)所述的存儲(chǔ)器單元,其特征在于,還包括位于所述第一被釘扎基準(zhǔn)層和所述襯底之間的第一反鐵磁性材料(AFM)層。
12.如權(quán)利要求6-11中任何一項(xiàng)所述的存儲(chǔ)器單元,其特征在于,還包括第二反鐵磁性材料(AFM)層,所述第二被釘扎基準(zhǔn)層位于所述第二AFM層和所述第二阻擋層之間。
13.如權(quán)利要求6-12中任何一項(xiàng)所述的存儲(chǔ)器單元,其特征在于,還包括位于所述第一被釘扎基準(zhǔn)層和所述襯底之間的第一反鐵磁性材料(AFM)層、以及第二反鐵磁性材料(AFM)層,所述第二被釘扎基準(zhǔn)層位于所述第二AFM層和所述第二阻擋層之間。
14.如權(quán)利要求6-13中任何一項(xiàng)所述的存儲(chǔ)器單元,其特征在于,所述第一被釘扎基準(zhǔn)層和所述第二被釘扎基準(zhǔn)層中的每一個(gè)是非平衡的合成反鐵磁性(SAF)耦合結(jié)構(gòu),并且所述存儲(chǔ)器單元還包括位于所述第一被釘扎基準(zhǔn)層和所述襯底之間的第一反鐵磁性材料(AFM)層、以及第二反鐵磁性材料(AFM)層,所述第二被釘扎基準(zhǔn)層位于所述第二AFM層和所述第二阻擋層之間。
15.如權(quán)利要求6-14中任何一項(xiàng)所述的存儲(chǔ)器單元,其特征在于,所述自由層、第一被釘扎基準(zhǔn)層和第二被釘扎基準(zhǔn)層中的每一個(gè)具有一面積,其中所述第二被釘扎基準(zhǔn)層的面積小于所述自由層的面積。
16.如權(quán)利要求15所述的存儲(chǔ)器單元,其特征在于,所述自由層的面積小于所述第一被釘扎基準(zhǔn)層的面積。
17.一種存儲(chǔ)器陣列,其包括形成交叉點(diǎn)陣列的多條字線和多條位線,并且根據(jù)權(quán)利要求6-16所述的存儲(chǔ)器單元位于所述陣列的交叉點(diǎn)上。
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