[發(fā)明專利]稠合吡咯并吡啶衍生物無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201080016811.0 | 申請日: | 2010-04-13 |
| 公開(公告)號: | CN102395589A | 公開(公告)日: | 2012-03-28 |
| 發(fā)明(設計)人: | 白神升平;中島豐;前田純;富永博章;山岸尋亮;本渡猛;稻見真?zhèn)?/a>;森尾浩樹;井上隆幸;水谷剛;石岡裕貴 | 申請(專利權)人: | 安斯泰來制藥株式會社 |
| 主分類號: | C07D471/14 | 分類號: | C07D471/14;A61K31/437;A61K31/439;A61K31/4545;A61K31/497;A61K31/541;A61K31/55;A61P1/04;A61P1/16;A61P3/10;A61P7/00;A61P9/00;A61P9/10 |
| 代理公司: | 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112 | 代理人: | 丁業(yè)平;張?zhí)焓?/td> |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 吡咯 吡啶 衍生物 | ||
1.式(I)所示的化合物或其鹽,
式中,
A為可被取代的環(huán)烷基、可被取代的環(huán)烯基、或可被取代的含氮雜環(huán)基;
X為CRX或N,
RX為H、ORXY1、NRXY2RXY3、SRXY4、鹵素、氰基、或低級烷基、芳基或雜環(huán)基;
Y為H、ORXY1、NRXY2RXY3、SRXY4、鹵素、氰基、可被取代的低級烷基、可被取代的芳基、或可被取代的雜環(huán)基;
Z為H或低級烷基;
RXY1、RXY2、RXY3及RXY4彼此相同或不同,為H或低級烷基;
R1為H、OH、-(CR11R12)m-R13、-SO2-R14、或可被取代的雜環(huán)基,
R11和R12彼此相同或不同,為H、鹵素、OH、可被取代的低級烷基、可被取代的芳基、或可被取代的雜環(huán)基,
R11和R12可以成為一體而形成氧代(=O),或者
R11和R12可以與它們所結合的碳原子成為一體而形成可被取代的環(huán)烷基,
R13為H、鹵素、氰基、-NRN1RN2、或可被取代的芳基、可被取代的環(huán)烷基或可被取代的雜環(huán)基,
RN1和RN2彼此相同或不同,為H、可被取代的低級烷基、或可被取代的芳基,
R14為NRN3RN4、或可被取代的低級烷基、或可被取代的雜環(huán)基,
RN3和RN4彼此相同或不同,為H、可被取代的低級烷基或可被取代的芳基,
m為1、2、3或4。
2.權利要求1所述的化合物或其鹽,其中
A為可被取代的環(huán)烷基、或可被取代的含氮雜環(huán)基;
X為CRX或N,
RX為H、ORXY1、NRXY2RXY3、SRXY4、鹵素、氰基、或低級烷基、芳基或雜環(huán)基;
Y為H、ORXY1、NRXY2RXY3、SRXY4、鹵素、氰基、或低級烷基、芳基或雜環(huán)基;
RXY1、RXY2、RXY3及RXY4彼此相同或不同,為H或低級烷基;
R1為H、OH、-(CR11R12)m-R13、-SO2-(可被取代的低級烷基)、或可被取代的雜環(huán)基,
R11和R12彼此相同或不同,為H、鹵素、OH、可被取代的低級烷基、可被取代的芳基或可被取代的雜環(huán)基,
R11和R12可以成為一體而形成氧代(=O),
R11和R12可以與它們所結合的碳原子成為一體而形成環(huán)烷基,
R13為H、鹵素、氰基、-NRN1RN2、可被取代的芳基、可被取代的環(huán)烷基或可被取代的雜環(huán)基,
RN1和RN2彼此相同或不同,為H、可被取代的低級烷基或可被取代的芳基,
m為1、2、3或4。
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