[發明專利]借助傅里葉濾光和圖像比較的掩模檢查有效
| 申請號: | 201080016447.8 | 申請日: | 2010-03-18 |
| 公開(公告)號: | CN102395923A | 公開(公告)日: | 2012-03-28 |
| 發明(設計)人: | 邁克爾·納爾遜;哈里·休厄爾;埃里克·凱蒂 | 申請(專利權)人: | ASML控股股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/84 | 分類號: | G03F1/84;G03F7/20 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 吳敬蓮 |
| 地址: | 荷蘭維*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 借助 傅里葉 濾光 圖像 比較 檢查 | ||
1.一種系統,包括:
第一檢測器,定位在傅里葉平面處且配置成檢測由掩模的一部分產生的圖案化的光的第一部分;
動態傅里葉濾光片;
控制器,配置成基于所述圖案化的光的第一部分控制所述動態傅里葉濾光片;
第二檢測器,配置成在由所述掩模的所述部分產生的圖案化的光的第二部分透射穿過所述動態傅里葉濾光片之后檢測所述第二部分;和
數據分析裝置,配置成將所述圖案化的光的第二部分與另一圖案化的光進行比較。
2.根據權利要求1所述的系統,還包括:
分束器,配置成對所述圖案化的光進行分光且朝向所述第一檢測器引導所述圖案化的光的第一部分、朝向所述第二檢測器引導所述圖案化的光的第二部分。
3.根據權利要求2所述的系統,還包括:
在所述分束器和所述第一檢測器之間的第一隔板;和
在所述分束器和所述第二檢測器之間的第二隔板。
4.根據權利要求1所述的系統,其中所述動態傅里葉濾光片是數字反射鏡陣列。
5.根據權利要求1所述的系統,其中所述動態傅里葉濾光片是光閥陣列。
6.根據權利要求1所述的系統,其中所述第一檢測器是CCD照相機。
7.根據權利要求1所述的系統,還包括:
第三檢測器,定位在第二傅里葉平面處且配置成檢測由第二掩模的一部分所產生的第二圖案化的光的第一部分;
第二動態傅里葉濾光片;
第二控制器,配置成基于由所述第二掩模的所述部分所產生的第二圖案化的光的第一部分控制所述第二動態傅里葉濾光片;和
第四檢測器,配置成在所述第二圖案化的光的第二部分透射穿過所述第二動態傅里葉濾光片之后檢測所述第二部分。
8.根據權利要求7所述的系統,其中所述掩模和所述第二掩模具有基本上相同的掩模圖案。
9.根據權利要求8所述的系統,其中所述數據分析裝置配置成將所述圖案化的光的第二部分與所述第二圖案化的光的第二部分進行比較。
10.根據權利要求9所述的系統,其中所述數據分析裝置配置成連續地將所述圖案化的光的第二部分與所述第二圖案化的光的第二部分進行比較。
11.根據權利要求1所述的系統,其中:
表示由第二掩模的一部分所產生的所述另一圖案化的光的信息被存儲在存儲裝置中;和
所述掩模和所述第二掩模具有基本上相同的掩模圖案。
12.根據權利要求1所述的系統,其中:
表示所述掩模的第二部分所產生的所述另一圖案化的光的信息被存儲在存儲裝置中;和
所述掩模的所述部分和第二部分具有基本上相同的掩模圖案。
13.根據權利要求1所述的系統,還包括:
第三檢測器,定位在第二傅里葉平面處且配置成檢測由所述掩模的第二部分所產生的第二圖案化的光的第一部分;
第二動態傅里葉濾光片;
第二控制器,配置成基于所述第二圖案化的光的第一部分控制所述第二動態傅里葉濾光片;和
第四檢測器,配置成在所述第二圖案化的光的第二部分透射穿過所述第二動態傅里葉濾光片之后檢測所述第二圖案化的光的所述第二部分;
其中所述數據分析裝置配置成將所述圖案化的光的第二部分與所述第二圖案化的光的第二部分進行比較,和
其中所述掩模的所述部分和所述掩模的第二部分具有基本上相同的掩模圖案。
14.一種方法,包括步驟:
檢測由掩模所產生的圖案化的光的第一部分的傅里葉圖像;
基于所檢測的傅里葉圖像控制傅里葉濾光片;
使用所述傅里葉濾光片來對所述圖案化的光的第二部分進行濾光;
檢測經過濾光的所述第二部分;和
將經過濾光的所述第二部分與另一圖案化的光進行比較。
15.根據權利要求14所述的方法,還包括步驟:
在所述比較步驟之前對經過濾光的所述第二部分進行歸一化。
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G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
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