[發明專利]一種廢棄有機溶劑的處理方法

有效

• 申請號: 201080016013.8
• 申請日: 2010-04-15
• 公開（公告）號: CN102388345A
• 公開（公告）日: 2012-03-21
• 發明（設計）人: 丁鎮培;文載雄;李明鎬;鄭玄鐵;姜度順
• 申請（專利權）人: 易安愛富科技有限公司
• 主分類號: G03F7/26
• 分類號: G03F7/26
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 謝順星

技術領域

本發明涉及一種廢棄有機溶劑的處理方法，該方法通過從諸如TFT-LCD等顯示裝置制造過程等中所產生的廢棄有機溶劑中去除各種雜質，從而使有機溶劑能夠在顯示器制造過程中再利用，是使有機溶劑再生(recycle)的過程。該方法能夠防止工序故障，在降低設備運營成本的同時，還能夠以高回收率回收有機溶劑。

背景技術

在諸如TFT-LCD等顯示裝置制造過程中，為了在電子電路、像素等基板上形成微細圖案，一般使用平板印刷法(lithography)。

平板印刷法為：在基板上涂布作為感光性物質的光刻膠后，進行軟烤(soft?baking)，去除感光劑溶劑，從而形成均勻、干燥的光刻膠(photoresist)被膜，然后使特定波長的光通過印刷有預期的電路圖案的掩膜，照射到形成有被膜的基板上，從而將掩膜電路圖案轉移到基板上的工藝。此時，如果使特定波長的光通過掩膜照射到基板上的光刻膠被膜上，則根據掩膜電路圖案形態，光刻膠被膜可分為受光部分和非受光部分，受光部分根據光刻膠的感光作用發生化學變形，因而具有與非受光部分不同的性質，從而在顯影工序中形成圖案。

通常在諸如TFT-LCD顯示器制造過程中使用負性(negative)光刻膠和正性(positive)光刻膠。負性(negative)光刻膠由于受光部分發生交聯反應不溶于顯影液；而正性(positive)光刻膠受光部分變化為溶于顯影液。負性光刻膠一般用于制造濾色鏡(color?filter)，正性光刻膠一般用于制造薄膜晶體管(thin?film?transistor)。

上述負性光刻膠是由作為粘結劑成分的交聯性樹脂類、交聯劑、交聯聚合引發劑(以下稱為引發劑)、顯示顏色的各種顏料、分散劑、其他添加劑及有機溶劑組成。上述交聯性樹脂類、交聯劑、引發劑及其他添加劑等溶解于有機溶劑中，顏料通過分散劑分散于溶劑中。將此類負性光刻膠涂布于基板上后，如果通過旋轉、真空干燥、烘烤等工序蒸發溶劑，則作為主要成分的交聯性樹脂類與其他成分一起在玻璃基板上形成被膜，即形成薄膜。作為光刻膠主要成分的上述交聯性樹脂類，因在其分子結構內具有羧酸基團，所以能夠溶于在顯影工序中使用的堿性顯影液。但是，如果經過曝光工序(exposure)，則受光部分通過引發劑進行交聯，其結果交聯性樹脂類同交聯劑一起形成分子量極大的巨型交聯結構，從而具有不溶于堿性顯影液的性質。通過利用這種溶解度對于顯影液的變化，從而能夠使預期形態的彩色像素呈現在基板上。

利用光刻膠進行平板印刷工序時，在光刻膠涂布過程中，不希望沾附光刻膠的部分，例如光刻膠涂布噴嘴、涂布周圍設備或基板邊緣等部分也會沾附光刻膠。這些在之后進行的基板光刻膠涂布工序中會引發不良現象，必須去除。此時，為了去除不期望的光刻膠，通常使用有機溶劑。用于這種目的的有機溶劑通常包含光刻膠成分，此外在收集廢液的過程中還可以進一步包含源自周邊環境的顆粒(particle)、金屬成分，水分或其他有機溶劑。像這樣被雜質污染的有機溶劑，其自身利用價值降低，此外，在進行焚燒處理時會有生成有害化學物質的問題。

因此，最近采用將平板印刷過程中產生的廢棄有機溶劑再生處理為高純的有機溶劑的工序，以使其能夠在顯示器制造中再利用。此類廢棄有機溶劑的再生工序與一般有機溶劑的純化方法相同，采用利用各成分沸點差異而進行分餾工藝，上述分餾工藝一定伴隨利用熱對廢棄有機溶劑進行加熱與蒸發的工序。但是在制備濾色鏡時，由于所使用的洗滌用有機溶劑用于洗滌曝光前、即發生交聯反應前狀態下的光刻膠，因此在制造工序中產生的廢棄有機溶劑中包含沒有發生交聯的交聯性光刻膠成分。