[發明專利]具有易分散性的親油化表面處理粉體及摻入了該粉體的化妝品無效
| 申請號： | 201080015789.8 | 申請日： | 2010-03-31 |
| 公開（公告）號： | CN102368993A | 公開（公告）日： | 2012-03-07 |
| 發明（設計）人： | 佐藤和男;井尻博文;齋藤三也;鈴木正晴;桑鶴伸也 | 申請（專利權）人： | 三好化成株式會社 |
| 主分類號： | A61K8/19 | 分類號： | A61K8/19;A61K8/27;A61Q1/02;A61Q17/04;C09C3/12 |
| 代理公司： | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人： | 胡燁 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 具有 分散性 親油化 表面 處理 摻入 化妝品 | ||
1.表面處理粉體，其特征在于，用混合物形成的表面處理劑對粉體進行了表面處理，該混合物是(A)以下通式(1)表示的烷基烷氧基硅烷和(B)選自以下通式(2)表示的反應性有機硅氧烷和碳數12～22的飽和或不飽和支鏈脂肪酸(也包括鹽的形態)的1種化合物或2種以上的化合物的混合物，
(CnH2n+1)aSi(OCmH2m+1)b????????(1)
式中，n表示1～18的整數，m表示1～3的整數，a、b表示1～3的整數，a+b＝4，
(R13SiO)(R12SiO)p(SiR23)????????(2)
式中，R1完全互相獨立地分別表示碳數1～4的低級烷基或氫原子，R2表示氨基、氫原子、羥基及碳數1～4的低級烷氧基的任一種，p為1～300的整數。
2.如權利要求1所述的表面處理粉體，其特征在于，所述表面處理劑由所述烷基烷氧基硅烷和所述反應性有機硅氧烷形成。
3.如權利要求1所述的表面處理粉體，其特征在于，所述表面處理劑由烷基烷氧基硅烷和所述支鏈脂肪酸形成。
4.如權利要求1～3中任一項所述的表面處理粉體，其特征在于，所述通式(1)中，n為1～8。
5.如權利要求1～4中任一項所述的表面處理粉體，其特征在于，所述通式(2)中，p為2～50。
6.如權利要求1～5中任一項所述的表面處理粉體，其特征在于，所述(A)∶(B)的重量配比為1.0～29.0份∶29.0～1.0份。
7.如權利要求1～6中任一項所述的表面處理粉體，其特征在于，被表面處理的所述粉體和所述表面處理劑的配比是相對于粉體100重量份，表面處理劑為1～30重量份。
8.如權利要求1～7中任一項所述的表面處理粉體，其特征在于，所述表面處理粉體是進一步經噴射式磨機實施了粉碎處理的表面處理粉體。
9.如權利要求1～8中任一項所述的表面處理粉體，其特征在于，所述表面處理粉體是可用于化妝品的表面處理粉體。
10.化妝品，其特征在于，摻入了權利要求1～9中任一項所述的表面處理粉體。
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