[發明專利]耐腐蝕構件及其制備方法有效
| 申請號： | 201080015108.8 | 申請日： | 2010-03-26 |
| 公開（公告）號： | CN102378829A | 公開（公告）日： | 2012-03-14 |
| 發明（設計）人： | 岡村雅人;柴崎理;山本誠二;宮崎豊明 | 申請（專利權）人： | 株式會社東芝 |
| 主分類號： | C23C26/00 | 分類號： | C23C26/00;G21D1/00 |
| 代理公司： | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人： | 于輝 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 腐蝕 構件 及其 制備 方法 | ||
1.一種耐腐蝕構件，其具有復合鈦氧化物膜，所述復合鈦氧化物膜減少腐蝕并且由分子式MTiO3表示，其中M是過渡金屬元素，所述復合鈦氧化物膜形成于用于與高溫水接觸的構造材料的表面。
2.如權利要求1所述的耐腐蝕構件，其中所述高溫水不低于80℃且不高于800℃。
3.如權利要求1所述的耐腐蝕構件，其中所述構造材料是選自鋼、非鋼材料、有色金屬和焊接金屬中的一種材料。
4.如權利要求1所述的耐腐蝕構件，其中所述復合鈦氧化物是鈦鐵礦類的復合鈦氧化物。
5.如權利要求1所述的耐腐蝕構件，其中所述過渡金屬M是選自Fe、Ni、V、Cr、Mn、Co、Cu、Zn、Mo、Ru、Pd和Rh中的一種材料。
6.如權利要求1所述的耐腐蝕構件，其中所述復合鈦氧化物膜的厚度為0.1-50μm。
7.一種制備耐腐蝕構件的方法，所述構件具有沉積于構造材料表面的用于降低腐蝕的復合鈦氧化物膜，所述復合鈦氧化物膜由分子式MTiO3表示，其中M是過渡元素，鈦氧化物首先沉積于所述構造材料的表面，隨后或同時，在所述過渡金屬離子的存在下，將所述鈦氧化物進行高溫處理。
8.如權利要求7所述的制備耐腐蝕構件的方法，其中所述高溫處理在水溶液中進行，所述水溶液的溫度不低于80℃且不高于500℃，pH不低于8且不高于12，所述過渡金屬離子的濃度不小于1ppb且不大于10％，并且包含小于10ppb的溶解氧。
9.如權利要求7所述的制備耐腐蝕構件的方法，其中所述鈦氧化物的厚度為0.01-50μm。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于株式會社東芝，未經株式會社東芝許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201080015108.8/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
