[發明專利]消炎的大環內酯

無效

• 申請號: 201080014996.1
• 申請日: 2010-01-28
• 公開（公告）號: CN102378763A
• 公開（公告）日: 2012-03-14
• 發明（設計）人: C.J.戴;J.B.杜伊利特;D.菲力克;L.J.金頓;G.克拉戈爾;Z.馬魯西希斯塔克
• 申請（專利權）人: 葛蘭素集團有限公司
• 主分類號: C07H17/08
• 分類號: C07H17/08;A61K31/7048;A61P29/00
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 孔憲靜

1.式(I)化合物，3’-N-脫甲基-4″-O-(2-二乙基氨基乙酰基)-6-O-甲基-9a-氮雜-9a-同型紅霉素A或其鹽：

2.權利要求1的式(I)化合物或其藥學上可接受的鹽。

3.權利要求1的化合物，其為3’-N-脫甲基-4″-O-(2-二乙基氨基乙酰基)-6-O-甲基-9a-氮雜-9a-同型紅霉素A，具有式(I)：

4.權利要求1的式(I)化合物，其為3’-N-脫甲基-4″-O-(2-二乙基氨基乙酰基)-6-O-甲基-9a-氮雜-9a-同型紅霉素A的晶型。

5.權利要求4的式(I)的晶型，其為晶型1，其特征在于用衍射儀使用CuKα輻射獲得的2θ角表示的XRPD圖，其中所述XRPD圖包括至少五個選自以下位置的2θ角(2θ/°)：4.6、5.6、7.7、9.6、10.6、11.0、11.6、11.8、12.2、14.1、15.9、18.4、19.0、20.5、21.1和22.0度，其分別對應于以下的d-間距：19.1、15.9、11.5、9.2、8.4、8.0、7.7、7.5、7.2、6.3、5.6、4.8、4.7、4.3、4.2和4.0埃

6.權利要求4的式(I)的晶型，其為晶型2，其特征在于用衍射儀使用CuKα輻射獲得的2θ角表示的XRPD圖，其中所述XRPD圖包括至少五個選自以下位置的2θ角(2θ/°)：9.1、9.4、10.4、10.9、11.5、12.0、13.0、13.4、14.7、15.4、15.7、16.5、16.8、18.7、19.2、19.5、19.8和20.8，其分別對應于以下的d-間距：9.7、9.5、8.5、8.1、7.7、7.4、6.8、6.6、6.0、5.8、5.6、5.4、5.3、4.7、4.6、4.6、4.5和4.3埃

7.權利要求4的式(I)的晶型，其為晶型3，其特征在于用衍射儀使用CuKα輻射獲得的2θ角表示的XRPD圖，其中所述XRPD圖包括至少五個選自以下位置的2θ角(2θ/°)：5.5、7.3、7.9、9.1、9.5、10.0、10.5、11.0、11.5、12.0、12.6、14.8、15.5、15.8、16.6、16.9、18.2、18.9和19.5度，其分別對應于以下的d-間距：16.0、12.1、11.3、9.7、9.4、8.9、8.4、8.1、7.7、7.4、7.0、6.0、5.7、5.6、5.3、5.2、4.9、4.7和4.6埃

8.制備權利要求1的化合物的方法，其包括：

a)將式II化合物，其中R¹為羥基保護基且R²為氨基保護基，

HOC(O)CH₂NR³R⁴????????(III)

與式(III)的羧酸或羧酸的合適的活化的衍生物反應，其中R³和R⁴各自為乙基或獨立地為可轉化為乙基的基團，然后脫除羥基保護基R¹，氨基保護基R²，且需要時，將-NR³R⁴基團轉化為-N(CH₂CH₃)₂；或

b)通過將式(IV)化合物，其中L為合適的離去基團，R¹為羥基保護基，且R²為氨基保護基，

NR³R⁴????(V)

與式(V)胺反應，其中R³和R⁴各自為乙基或獨立地為可轉化為乙基的基團，然后脫除羥基保護基R¹，氨基保護基R²，且需要時，將-NR³R⁴基團轉化為-N(CH₂CH₃)₂。