[發(fā)明專利]使用近場微波的流測量

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201080014380.4
• 申請日: 2010-09-21
• 公開（公告）號: CN102369417A
• 公開（公告）日: 2012-03-07
• 發(fā)明（設計）人: 法比安·溫格
• 申請（專利權）人: 羅斯蒙德公司
• 主分類號: G01F1/66
• 分類號: G01F1/66;G01F1/74
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 潘劍穎

1.一種用于測量過程流體的流速的流量計，包括：

微波源，被配置為生成微波信號；

探頭針，耦合到所述微波源，并且在靠近過程流體的近場中，被配置為將微波信號施加到過程流體；

微波探測器，耦合到所述探頭針，被配置為探測來自過程流體的響應于所施加的微波信號的反射的近場微波信號；

流計算電路，根據(jù)探測到的微波信號來確定所述過程流體的流速和流構成中至少之一。

2.根據(jù)權利要求1所述的設備，其中，所述流計算電路確定所述反射的近場微波信號的統(tǒng)計參數(shù)。

3.根據(jù)權利要求1所述的設備，包括：耦合到所述探頭針的定向耦合器。

4.根據(jù)權利要求1所述的設備，包括反饋電路，被配置為基于所述反射的微波信號來提供輸出。

5.根據(jù)權利要求4所述的設備，包括模數(shù)變換器，被配置為基于來自反饋電路的與所述反射的微波信號有關的輸出來提供數(shù)字輸出。

6.根據(jù)權利要求1所述的設備，其中，所述流計算電路包括微處理器。

7.根據(jù)權利要求2所述的設備，其中，所述統(tǒng)計參數(shù)包括平均值。

8.根據(jù)權利要求1所述的設備，包括將所述微波源耦合到所述探頭針的同軸電纜。

9.根據(jù)權利要求1所述的設備，其中，所述過程流體包括多相過程流體。

10.一種測量過程流體的流速的方法，包括：

從微波源生成微波信號；

利用探頭針將所述微波信號施加到過程流體，所述探頭針在靠近過程流體的近場中；

從所述探頭針探測響應于所施加的微波信號生成的反射的近場微波信號；

根據(jù)探測到的微波信號來確定過程流體的流速。

11.根據(jù)權利要求10所述的方法，其中，確定流速包括確定所述反射的近場微波信號的統(tǒng)計參數(shù)。

12.根據(jù)權利要求10所述的方法，包括：提供耦合到探頭針的定向耦合器。

13.根據(jù)權利要求10所述的方法，包括：提供反饋電路，所述反饋電路被配置為基于所述反射的微波信號來提供輸出。

14.根據(jù)權利要求13所述的方法，包括：將來所述自反饋電路的與所述反射的微波信號有關的輸出轉換為數(shù)字信號。

15.根據(jù)權利要求11所述的方法，其中，所述統(tǒng)計參數(shù)包括平均值。

16.根據(jù)權利要求10所述的方法，包括：提供將所述微波源耦合到所述探頭針的同軸電纜。

17.根據(jù)權利要求10所述的方法，其中，所述過程流體包括多相過程流體。