[發(fā)明專利]微流道器件以及微流道器件的制造方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201080014356.0
• 申請日: 2010-03-29
• 公開（公告）號: CN102369444A
• 公開（公告）日: 2012-03-07
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 和田啟男;田村浩;小林宏資;清元智文;洪錫亨
• 申請（專利權(quán)）人: 信和化工株式會社;東京毅力科創(chuàng)株式會社
• 主分類號: G01N35/08
• 分類號: G01N35/08;B01J19/00;B81B1/00;G01N30/26;G01N37/00
• 代理公司: 北京東方億思知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11258
• 代理人: 柳春雷

1.一種微流道器件，其設(shè)置在利用了壓力輸液的溶液分析系統(tǒng)內(nèi)，并在基板上形成有微流道，所述微流道包括：多個直線流道；以及連接相鄰的所述直線流道的端部的彎曲流道，其中，

所述彎曲流道的寬度小于所述直線流道的寬度，并且

所述彎曲流道的曲率半徑r被設(shè)定成：使得由下式(1)表示的a的值小于或等于由下式(2)表示的基于所述彎曲流道的形狀的理論臺階高度H的極大點處的a的值，

a＝w/r??····(1)

H=ucw264γDm×a2(a+2)a+1....(2)]]>

其中，w：彎曲流道的寬度，u_c：彎曲流道中的溶液的流道通過速度，γ：基于彎曲流道內(nèi)存在的基材的分子擴(kuò)散阻礙因子，D_m：溶液的分子擴(kuò)散系數(shù)。

2.如權(quán)利要求1所述的微流道器件，其中，

在所述直線流道與所述彎曲流道之間設(shè)置有連接部，

所述連接部被形成為寬度從所述直線流道朝向所述彎曲流道變小的錐狀，

所述連接部的內(nèi)側(cè)的錐形角度大于所述連接部的外側(cè)的錐形角度。

3.如權(quán)利要求1所述的微流道器件，其中，

所述彎曲流道的曲率半徑r基于由上式(2)表示的基于所述彎曲流道的形狀的理論臺階高度H達(dá)到極大點的a的值而設(shè)定。

4.如權(quán)利要求1所述的微流道器件，其中，

所述分析系統(tǒng)是高速液體色層分離法或微反應(yīng)器。

5.如權(quán)利要求1所述的微流道器件，其中，

構(gòu)成所述微流道的材料是硅、石英、有機(jī)聚合物或碳化硅。

6.如權(quán)利要求1所述的微流道器件，其中，

基于所述彎曲流道的形狀的理論臺階高度H為0.1μm～100μm。

7.如權(quán)利要求6所述的微流道器件，其中，

基于所述彎曲流道的形狀的理論臺階高度H為1μm～10μm。

8.如權(quán)利要求6所述的微流道器件，其中，

所述彎曲流道的曲率半徑r為100μm～5000μm，所述彎曲流道的寬度w為10μm～800μm。

9.如權(quán)利要求1所述的微流道器件，其中，

所述微流道通過所述直線流道和所述彎曲流道在俯視下具有蜿蜒形狀。