[發明專利]疏水單體、疏水衍生載體及其制備和使用方法有效
| 申請號： | 201080014204.0 | 申請日： | 2010-03-19 |
| 公開（公告）號： | CN102365262A | 公開（公告）日： | 2012-02-29 |
| 發明（設計）人： | 杰拉爾德·K·拉斯穆森;卡里·A·基普克;詹姆斯·I·亨布里;彼得·D·維克特 | 申請（專利權）人： | 3M創新有限公司 |
| 主分類號： | C07C233/09 | 分類號： | C07C233/09;C08F20/54;C08J9/08;B01J20/285;B01D71/56 |
| 代理公司： | 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112 | 代理人： | 丁業平;金小芳 |
| 地址： | 美國明*** | 國省代碼： | 美國;US |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 疏水 單體 衍生 載體 及其 制備 使用方法 | ||
1.一種組合物，所述組合物包含具有如下結構的疏水單體：
CH2＝CR4C(O)NHC(R1R1)(C(R1R1))nC(O)XR3
其中n為0或1的整數；R1獨立地選自以下至少一者：氫原子、烷 基、芳基和烷基芳基，其中所述烷基、所述芳基和所述烷基芳基具 有總共為10個或更少的碳原子；R3為疏水基團，其選自烷基、芳 基、烷基芳基和醚中的至少一者，其中所述烷基、所述芳基、所述 烷基芳基和所述醚的碳原子總數在4至30的范圍內；R4為H或 CH3；并且X為O或NH；其中所述疏水單體衍生自具有25或更小 親水指數的胺或醇(HXR3)。
2.根據權利要求1所述的組合物，其中R1獨立地選自以下至少一者： 甲基、乙基、苯基，或它們的組合。
3.根據權利要求1-2中任一項所述的組合物，其中R3選自以下至少一 者：芐基、苯乙基、苯氧乙基、苯丙基、丁基、戊基、己基、辛 基、十二烷基、十八烷基、苯基丁基，或它們的組合。
4.根據權利要求1-3中任一項所述的組合物，其中所述疏水單體具有 選自以下至少一者的結構：
CH2＝CHC(O)NHC(CH3)(CH3)C(O)NH(CH2)4C6H5；
CH2＝CHC(O)NHC(CH3)(CH3)C(O)O(CH2)4C6H5；
CH2＝CHC(O)NHC(CH3)(CH3)C(O)NHCH2C6H5；
CH2＝CHC(O)NHC(CH3)(CH3)C(O)NH(CH2)2C6H5；
CH2＝CHC(O)NHC(CH3)(CH3)C(O)NH(CH2)2OC6H5；
CH2＝CHC(O)NHC(CH3)(CH3)C(O)NH(CH2)3C6H5；
CH2＝CHC(O)NHC(CH3)(CH3)C(O)NH(CH2)3CH3；
CH2＝CHC(O)NHC(CH3)(CH3)C(O)NH(CH2)5CH3；
CH2＝CHC(O)NHC(CH3)(CH3)C(O)NH(CH2)7CH3；
CH2＝CHC(O)NHC(CH3)(CH3)C(O)NH(CH2)11CH3；
CH2＝CHC(O)NHC(CH3)(CH3)C(O)NH(CH2)17CH3；或它們的組合。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于3M創新有限公司，未經3M創新有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201080014204.0/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
