[發(fā)明專利]盤狀記錄介質(zhì)、光斑位置控制裝置、光斑位置控制方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201080011429.0 | 申請日: | 2010-03-09 |
| 公開(公告)號: | CN102349105A | 公開(公告)日: | 2012-02-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 堀米順一 | 申請(專利權(quán))人: | 索尼光領(lǐng)公司 |
| 主分類號: | G11B7/09 | 分類號: | G11B7/09;G11B7/0065;G11B7/007;G11B7/24 |
| 代理公司: | 北京東方億思知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11258 | 代理人: | 李曉冬 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 記錄 介質(zhì) 光斑 位置 控制 裝置 方法 | ||
1.一種盤狀記錄介質(zhì),包括:
多個凹坑列相位,其中,以螺旋狀或同心狀形成凹坑列,這些凹坑列的一圈凹坑可形成位置之間的間隔受限于預(yù)定的第一間隔,在半徑方向上排列的凹坑列中,凹坑可形成位置在凹坑列形成方向上的間隔被設(shè)定到偏移了預(yù)定的第二間隔的位置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的盤狀記錄介質(zhì),其中,地址信息的記錄是利用在所述凹坑可形成位置處凹坑存在與否的樣式來執(zhí)行的。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的盤狀記錄介質(zhì),其中,對于凹坑列形成方向上的每一圈,凹坑列相位偏移了所述第二間隔的量。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的盤狀記錄介質(zhì),所述盤狀記錄介質(zhì)是全息圖記錄介質(zhì),該全息圖記錄介質(zhì)具有位置控制信息記錄層和全息圖記錄層,該位置控制信息記錄層上通過所述凹坑列來執(zhí)行所述地址信息的記錄,該全息圖記錄層處執(zhí)行全息圖記錄/再現(xiàn)。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的盤狀記錄介質(zhì),所述盤狀記錄介質(zhì)是體型記錄介質(zhì),該體型記錄介質(zhì)具有位置控制信息記錄層和體層,該位置控制信息記錄層上通過所述凹坑列來執(zhí)行所述地址信息的記錄,該體層上根據(jù)激光的照射而在深度方向上的所需層位置處選擇性地執(zhí)行標(biāo)記記錄。
6.一種光斑位置控制裝置,包括:
第一光源,用于對本發(fā)明的盤狀記錄介質(zhì)照射第一光,該盤狀記錄介質(zhì)具有多個凹坑列相位,其中,以螺旋狀或同心狀形成凹坑列,這些凹坑列的一圈凹坑可形成位置之間的間隔受限于預(yù)定的第一間隔,在半徑方向上排列的凹坑列中,凹坑可形成位置在凹坑列形成方向上的間隔被設(shè)定到偏移了預(yù)定的第二間隔的位置;
第二光源,用于對所述盤狀記錄介質(zhì)照射第二光;
物鏡,所述第一光和所述第二光被輸入到該物鏡,該物鏡用作所述第一光和所述第二光對所述盤狀記錄介質(zhì)的輸出端;
循軌控制機構(gòu),被構(gòu)造成使經(jīng)由所述物鏡照射的第一光和第二光的光軸與所述盤狀記錄介質(zhì)之間在半徑方向上的相對位置關(guān)系改變,從而對所述第一光和第二光執(zhí)行循軌控制;
光接收單元,用于接收所述第二光從所述盤狀記錄介質(zhì)反射的反射光;
第一循軌誤差信號生成單元,用于基于從所述光接收單元獲得的接收信號來生成第一循軌誤差信號,該第一循軌誤差信號表示所述第二光的光斑相對于在所述盤狀記錄介質(zhì)上形成的凹坑而在所述半徑方向上的位置誤差;
時鐘生成單元,用于基于從所述光接收單元獲得的光接收信號,來生成與所述凹坑可形成位置的間隔相應(yīng)的時鐘;
定時選擇信號生成單元,用于基于由所述時鐘生成單元生成的時鐘來生成多個定時選擇信號,每個定時選擇信號表示在所述盤狀記錄介質(zhì)上形成的各自具有不同的凹坑列相位的多個凹坑列中每個凹坑列處的所述凹坑可形成位置的定時;
第一定時選擇信號選擇單元,用于從所述多個定時選擇信號中選擇第一定時選擇信號;以及
第一循軌伺服控制單元,用于基于根據(jù)由所述第一定時選擇信號選擇單元選擇的所述定時選擇信號所表示的定時而提取的、由所述第一循軌誤差信號生成單元生成的所述第一循軌誤差信號的部分區(qū)間的信號,來控制所述循軌控制機構(gòu)以執(zhí)行對所述第二光的光斑的循軌伺服。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光斑位置控制裝置,還包括:
偏置提供單元,用于對循軌伺服環(huán)提供基于所設(shè)定的校正量信息的偏置。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光斑位置控制裝置,其中,地址信息的記錄是利用在所述盤狀記錄介質(zhì)上的所述凹坑可形成位置處凹坑形成與否的樣式來執(zhí)行的,所述光斑位置控制裝置還包括:
凹坑存在與否反映信號生成單元,用于基于由所述光接收單元獲得的光接收信號來生成反映所述凹坑的存在與否的凹坑存在與否反映信號;以及
地址檢測單元,用于基于根據(jù)由所述第一定時選擇信號選擇單元所選擇的所述定時選擇信號所表示的定時對所述凹坑存在與否反映信號的檢測結(jié)果,來檢測所述地址信息。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光斑位置控制裝置,其中,在所述盤狀記錄介質(zhì)上,所述凹坑列被形成為使得凹坑列相位在凹坑列形成方向上偏移了所述第二間隔的量,所述光斑位置控制裝置還包括:
相位調(diào)整單元,用于基于由所述地址檢測單元檢測到的地址信息,對于所述凹坑列的每一圈,調(diào)整所述定時選擇信號的相位。
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