[發(fā)明專利]至微流體基底的電噴霧接口

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201080010752.6
• 申請日: 2010-03-05
• 公開（公告）號: CN102341153A
• 公開（公告）日: 2012-02-01
• 發(fā)明（設計）人: D.P.普倫泰斯;R.L.基恩;S.科奇奧爾;J.D.米基恩奇;P.E.林德森
• 申請（專利權）人: 沃特世科技公司
• 主分類號: B01D15/08
• 分類號: B01D15/08
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 趙華偉;傅永霄

1.一種用于化學分離的裝置，包括：

微流體基底，其具有用于輸出樣品的洗脫液的出口孔；

噴霧單元，其具有用于接收洗脫液的進口以及用于噴出所述洗脫液的噴霧的出口，并且包括可變形部分，其限定所述進口，其中所述可變形部分的彈性模量小于所述微流體基底的彈性模量；以及

施力單元，其被設置成推動所述可變形部分與所述基底接觸，從而形成基本上流密的密封。

2.如權利要求1所述的裝置，其中所述施力單元包括彈簧。

3.如權利要求1所述的裝置，還包括設置成相鄰于所述孔的對準配件，用于接收和設置與所述基底的出口孔對準的噴霧單元的可變形部分。

4.如權利要求3所述的裝置，其中所述出口孔設置在所述基底的邊緣面中。

5.如權利要求4所述的裝置，其中所述出口孔進一步設置在所述邊緣面的凹陷部分中。

6.如權利要求5所述的裝置，還包括設置在所述對準配件與所述基底之間的間隙中的間隔件膠粘劑。

7.如權利要求3所述的裝置，還包括附接到所述對準配件的連接件配件，其中所述連接件配件與所述施力單元配合地將所述噴霧單元固定在相對于所述基底的位置。

8.如權利要求1所述的裝置，其中所述噴霧單元還包括用于接收自所述施力單元的力的配件。

9.如權利要求1所述的裝置，其中所述噴霧單元的內腔的直徑小于所述出口孔的最大尺寸。

10.如權利要求1所述的裝置，還包括以自由浮動的方式支撐所述基底的主外殼。

11.如權利要求10所述的裝置，還包括可拆卸的外殼，所述外殼支撐所述噴霧單元和所述施力單元，并且可拆卸地附接到用于設置與所述微流體基底接觸的可變形部分的所述主外殼。

12.如權利要求10所述的裝置，其中所述外殼限定具有具有用于經由所述外殼的孔接受氣體的進口、和用于將氣體輸送至所述噴霧單元的出口的氣體通道。

13.如權利要求1所述的裝置，其中所述微流體基底包括燒結的無機顆粒，所述噴霧單元的可變形部分包含聚合物。

14.如權利要求12所述的裝置，其中所述無機顆粒包含氧化釔穩(wěn)定氧化鋯，限定于微流體基底中的分離柱具有由燒結的氧化釔穩(wěn)定氧化鋯形成的未涂層的壁。

15.如權利要求1所述的裝置，其中所述基底還包括具有設置成相鄰于所述基底的表面的接觸墊的、用于將電噴霧電壓輸送至所述噴霧單元的遠端的導電軌。