[發(fā)明專利]至微流體基底的電噴霧接口

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201080010752.6
• 申請(qǐng)日: 2010-03-05
• 公開（公告）號(hào): CN102341153A
• 公開（公告）日: 2012-02-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: D.P.普倫泰斯;R.L.基恩;S.科奇奧爾;J.D.米基恩奇;P.E.林德森
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 沃特世科技公司
• 主分類號(hào): B01D15/08
• 分類號(hào): B01D15/08
• 代理公司: 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 趙華偉;傅永霄

1.一種用于化學(xué)分離的裝置，包括：

微流體基底，其具有用于輸出樣品的洗脫液的出口孔；

噴霧單元，其具有用于接收洗脫液的進(jìn)口以及用于噴出所述洗脫液的噴霧的出口，并且包括可變形部分，其限定所述進(jìn)口，其中所述可變形部分的彈性模量小于所述微流體基底的彈性模量；以及

施力單元，其被設(shè)置成推動(dòng)所述可變形部分與所述基底接觸，從而形成基本上流密的密封。

2.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中所述施力單元包括彈簧。

3.如權(quán)利要求1所述的裝置，還包括設(shè)置成相鄰于所述孔的對(duì)準(zhǔn)配件，用于接收和設(shè)置與所述基底的出口孔對(duì)準(zhǔn)的噴霧單元的可變形部分。

4.如權(quán)利要求3所述的裝置，其中所述出口孔設(shè)置在所述基底的邊緣面中。

5.如權(quán)利要求4所述的裝置，其中所述出口孔進(jìn)一步設(shè)置在所述邊緣面的凹陷部分中。

6.如權(quán)利要求5所述的裝置，還包括設(shè)置在所述對(duì)準(zhǔn)配件與所述基底之間的間隙中的間隔件膠粘劑。

7.如權(quán)利要求3所述的裝置，還包括附接到所述對(duì)準(zhǔn)配件的連接件配件，其中所述連接件配件與所述施力單元配合地將所述噴霧單元固定在相對(duì)于所述基底的位置。

8.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中所述噴霧單元還包括用于接收自所述施力單元的力的配件。

9.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中所述噴霧單元的內(nèi)腔的直徑小于所述出口孔的最大尺寸。

10.如權(quán)利要求1所述的裝置，還包括以自由浮動(dòng)的方式支撐所述基底的主外殼。

11.如權(quán)利要求10所述的裝置，還包括可拆卸的外殼，所述外殼支撐所述噴霧單元和所述施力單元，并且可拆卸地附接到用于設(shè)置與所述微流體基底接觸的可變形部分的所述主外殼。

12.如權(quán)利要求10所述的裝置，其中所述外殼限定具有具有用于經(jīng)由所述外殼的孔接受氣體的進(jìn)口、和用于將氣體輸送至所述噴霧單元的出口的氣體通道。

13.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中所述微流體基底包括燒結(jié)的無(wú)機(jī)顆粒，所述噴霧單元的可變形部分包含聚合物。

14.如權(quán)利要求12所述的裝置，其中所述無(wú)機(jī)顆粒包含氧化釔穩(wěn)定氧化鋯，限定于微流體基底中的分離柱具有由燒結(jié)的氧化釔穩(wěn)定氧化鋯形成的未涂層的壁。

15.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中所述基底還包括具有設(shè)置成相鄰于所述基底的表面的接觸墊的、用于將電噴霧電壓輸送至所述噴霧單元的遠(yuǎn)端的導(dǎo)電軌。