[發(fā)明專利]用于制備異氰酸酯的方法和裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201080010251.8 | 申請日: | 2010-03-04 |
| 公開(公告)號: | CN102341369A | 公開(公告)日: | 2012-02-01 |
| 發(fā)明(設計)人: | C·科諾伊士奇;T·馬特科 | 申請(專利權)人: | 巴斯夫歐洲公司 |
| 主分類號: | C07C263/10 | 分類號: | C07C263/10;C07C265/00;B01F3/02 |
| 代理公司: | 北京北翔知識產(chǎn)權代理有限公司 11285 | 代理人: | 鐘守期;吳曉萍 |
| 地址: | 德國路*** | 國省代碼: | 德國;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 制備 氰酸 方法 裝置 | ||
1.一種用于制備異氰酸酯的方法,通過使相應的胺與光氣在氣相中任選地在惰性介質(zhì)的存在下反應而進行,其中使所述胺在蒸發(fā)器中蒸發(fā)以得到含有胺的氣流,將光氣混入該含有胺的氣流中,并使所述胺和光氣在反應器中轉(zhuǎn)化成異氰酸酯,其中使與氣態(tài)胺相接觸的表面的溫度保持在高于含有胺的氣流的露點限。
2.根據(jù)權利要求1所述的方法,其中通過實現(xiàn)至少一種以下特征使與氣態(tài)胺相接觸的表面的溫度保持在高于含有胺的氣流的露點限:
(a)過熱氣態(tài)胺物流以排除由熱損失引起的局部降至露點以下,
(b)使管道和裝置隔熱以使熱損失最小化,
(c)加熱管道和裝置以防止局部降至露點以下,
(d)通入控制溫度的惰性氣流以提高含有胺的氣體混合物的露點。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的方法,其中可能與所述胺發(fā)生接觸的表面所加熱到的溫度為高于含有胺的氣流的冷凝溫度至少5K。
4.根據(jù)權利要求2或3所述的方法,其中所述表面使用電加熱元件或夾套加熱器加熱。
5.根據(jù)權利要求2至4任一項所述的方法,其中通入控制溫度的惰性氣流產(chǎn)生至少5K的混合溫度與含有胺的氣流的冷凝限的溫度差。
6.根據(jù)權利要求2至5任一項所述的方法,其中使用的惰性氣體是氮氣、氦氣、氬氣、氯苯、鄰二氯苯、甲苯、二甲苯、氯萘、萘烷、二氧化碳、一氧化碳或其混合物。
7.根據(jù)權利要求1至6任一項所述的方法,其中將包括異氰酸酯和氯化氫并離開反應器的反應氣在驟冷器中通過添加液體驟冷介質(zhì)進行冷卻,形成反應氣和驟冷介質(zhì)的混合物作為產(chǎn)物流。
8.根據(jù)權利要求7所述的方法,其中所述驟冷介質(zhì)包括一種選自以下的溶劑:單氯苯、二氯苯、三氯苯、己烷、苯、1,3,5-三甲基苯、硝基苯、苯甲醚、氯甲苯、鄰二氯苯、間苯二甲酸二乙基酯、四氫呋喃、二甲基甲酰胺、二甲苯、氯萘、萘烷和甲苯。
9.根據(jù)權利要求6或7所述的方法,其中在所述驟冷之后進行其他步驟來后處理產(chǎn)物流。
10.一種用于制備異氰酸酯的裝置,制備過程通過使相應的胺與光氣在氣相中反應而進行,所述裝置包括一個用于蒸發(fā)胺的蒸發(fā)器和一個實施反應的反應器,以及蒸發(fā)器和反應器的連接裝置,其中對可能與氣態(tài)胺發(fā)生接觸的表面提供有不會被胺潤濕并且根據(jù)DIN?ISO?4287的平均粗糙度深度Rz不大于10μm的涂層,并且/或者所述裝置沒有死區(qū)或熱橋。
11.根據(jù)權利要求10所述的裝置,其中所述涂層中包括SiOx。
12.根據(jù)權利要求10或11所述的裝置,其中包括用于加熱可能與氣態(tài)胺發(fā)生接觸的表面的裝置。
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