[發明專利]搪瓷涂層、帶涂層的物品和涂覆物品的方法

無效

• 申請號: 201080009358.0
• 申請日: 2010-03-01
• 公開（公告）號: CN102333734A
• 公開（公告）日: 2012-01-25
• 發明（設計）人: T·費施·佩德森;R·維辛格
• 申請（專利權）人: 伊萊克斯家用產品股份有限公司
• 主分類號: C03C8/00
• 分類號: C03C8/00;C23D5/00;F24C15/00
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 秦振

1.一種用于涂覆物品(3)的金屬表面(5)的搪瓷涂層(7)，所述搪瓷涂層(7)包括普通搪瓷和熱解搪瓷中的至少一種與催化用搪瓷的混合物。

2.根據權利要求1所述的搪瓷涂層(7)，普通搪瓷和熱解搪瓷中的至少一種與催化用搪瓷的百分比被選擇成使得所述搪瓷涂層(7)的表面粗糙度在2至8μm、優選2至5μm、更優選2至3μm的范圍內。

3.根據權利要求1和2中的至少一項所述的搪瓷涂層(7)，所述混合物包括下述對象中的至少其一：

體積百分比在5％至50％之間的催化用搪瓷；

體積百分比在50％至95％之間的普通搪瓷和熱解搪瓷中的至少一種。

4.根據權利要求1至3中的至少一項所述的搪瓷涂層(7)，其具有10至50μm之間的層厚度。

5.一種包括金屬表面(5)的物品(3)，所述金屬表面(5)至少部分地涂覆有根據權利要求1至4中的至少一項所述的搪瓷涂層(7)。

6.根據權利要求5所述的物品(3)，所述金屬表面(5)是所述物品(3)的片材或片材狀部分(6)的一部分，所述金屬片材和所述金屬片材狀部分(6)分別優選地具有2mm的最大厚度。

7.根據權利要求5和6中的至少一項所述的物品(3)，所述搪瓷涂層(7)的外表面涂覆有另外的涂層，優選陶瓷涂層(8)，更優選納米結構陶瓷涂層。

8.根據權利要求5至7中的至少一項所述的物品(3)，所述物品(3)選自包括如下對象的群組：烹飪和/或烘焙器具，優選家用烹飪和/或烘焙器具；烘盤；烘箱的馬弗爐，優選家用烘箱的馬弗爐。

9.一種至少部分地涂覆物品(3)的金屬表面(5)的方法，所述方法包括以下步驟：

通過將普通搪瓷和熱解搪瓷中的至少一種與催化用搪瓷混合而制備搪瓷涂層材料；以及

通過將所述搪瓷涂層材料施加到所述金屬表面(5)的至少預定部分(6)而產生搪瓷涂層(7)。

10.根據權利要求9所述的方法，制備所述搪瓷涂層材料的步驟包括加入下列對象中的至少其一的步驟：

體積百分比在5％至50％的催化用搪瓷；以及

體積百分比在50％至95％的普通搪瓷和熱解搪瓷中的至少一種。

11.根據權利要求9和10中的至少一項所述的方法，其中對普通搪瓷和熱解搪瓷中的至少一種與催化用搪瓷的百分比進行選擇，使得所述搪瓷涂層(7)的表面粗糙度在2至8μm、優選2至5μm、更優選2至3μm的范圍內。

12.根據權利要求9至11中的至少一項所述的方法，所述搪瓷涂層材料被施加成使得所述搪瓷涂層(7)的最終厚度在10至50μm的范圍內。

13.根據權利要求9至12中的至少一項所述的方法，所述搪瓷涂層(7)在高達850℃的溫度下、優選在800至850℃的范圍內的溫度下被燒制。

14.根據權利要求9至13中的至少一項所述的方法，其包括將陶瓷涂層(8)優選納米結構陶瓷涂層施加到所述搪瓷涂層(7)的另外的步驟，所述陶瓷涂層(8)優選地在200至300℃的范圍內的溫度下被燒制，施加所述陶瓷涂層(8)的步驟優選地選自包括如下工藝的群組：熱噴涂，特別是等離子體噴涂；以及高速氧燃料噴涂。

15.根據權利要求9至13中的至少一項所述的方法，其包括將陶瓷涂層(8)優選納米結構陶瓷涂層施加到所述搪瓷涂層(7)的另外的步驟，所述陶瓷涂層(8)優選地在180至340℃的范圍內的溫度下被燒制，所述陶瓷涂層(8)通過泥漿噴涂技術被施加。