[發(fā)明專利]用于高數(shù)值孔徑光刻系統(tǒng)的偏振監(jiān)視調(diào)制盤設計有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201080008167.2 | 申請日： | 2010-02-19 |
| 公開（公告）號： | CN102326059A | 公開（公告）日： | 2012-01-18 |
| 發(fā)明（設計）人： | T·A·布倫納;G·R·麥金太爾 | 申請（專利權）人： | 國際商業(yè)機器公司 |
| 主分類號： | G01J4/00 | 分類號： | G01J4/00 |
| 代理公司： | 北京市中咨律師事務所 11247 | 代理人： | 于靜;楊曉光 |
| 地址： | 美國*** | 國省代碼： | 美國;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 數(shù)值孔徑 光刻 系統(tǒng) 偏振 監(jiān)視 調(diào)制 設計 | ||
1.一種用于光刻掃描裝置的偏振監(jiān)視調(diào)制盤(10)，包括：
透明平面基板，其具有正面(14)和背面(12)，在所述背面(12)和正面(14)上都具有不透明層；以及
在所述基板上的針孔(16)-簇(20)組合的X-Y行和列陣列；
其中每個簇(20)包括位于所述基板的所述正面(14)上的所述不透明層中的多個偏振計組(18)的X-Y陣列，其中每個簇(20)鄰近在所述基板的所述背面(12)上的所述不透明層中的對應的針孔(16)；
每組偏振計(18)包括在每組內(nèi)的多個偏振圖監(jiān)視器的X-Y陣列，每個偏振計組內(nèi)的每個監(jiān)視器與所述偏振計組的中心相距限定的距離，并且每組偏振計具有記號，所述記號標識簇行、簇列、所述偏振計組的中心相對于簇中心的X位置以及所述偏振計組的中心相對于簇中心的Y位置；并且
當來自光源的照射穿過所述調(diào)制盤(10)時，所述監(jiān)視器依賴于照射的偏振而在圖像平面處產(chǎn)生可測量的輸出信號。
2.根據(jù)權利要求1的調(diào)制盤(10)，其中所述偏振計組(18)中的一個或多個包括X或Y偏振監(jiān)視器(24或22)，當來自光源的照射穿過所述調(diào)制盤(10)時，所述X或Y偏振監(jiān)視器(24或22)依賴于照射的X或Y偏振而在圖像平面處產(chǎn)生可測量的輸出信號。
3.根據(jù)權利要求1的調(diào)制盤(10)，其中所述調(diào)制盤(10)在所述偏振計組(18)中的一個或多個中包括一個或多個SEM對準標記(38)。
4.根據(jù)權利要求1的調(diào)制盤(10)，其中所述調(diào)制盤(10)在所述偏振計組(18)中的一個或多個中包括低劑量對準標記(40)，所述低劑量對準標記(40)包括在所述照射的低曝光劑量下可被SEM識別的圖形。
5.根據(jù)權利要求1的調(diào)制盤(10)，其中所述調(diào)制盤(10)在所述偏振計組(18)中的一個或多個中包括低劑量對準標記(40)，所述低劑量對準標記(40)包括用于所述照射的軸上和離軸光線的在所述照射的低曝光劑量下可被SEM識別的圖形。
6.根據(jù)權利要求1的調(diào)制盤(10)，其中所述調(diào)制盤(10)在所述偏振計組(18)中的一個或多個中包括透光區(qū)(42)以測量穿過其的所述照射的總強度。
7.根據(jù)權利要求1的調(diào)制盤(10)，其中所述偏振計組(18)中的所述監(jiān)視器具有不同的半徑以向穿過其的所述照射的偏振提供不同程度的靈敏度。
8.根據(jù)權利要求1的調(diào)制盤(10)，其中所述背面層(12)上的所述針孔(16)的尺寸依賴于對應的簇(20)被設計監(jiān)視的數(shù)值孔徑而變化。
9.一種在光刻掃描期間監(jiān)視偏振的方法，包括：
提供具有光源和至少0.85的數(shù)值孔徑的光刻掃描系統(tǒng)；
提供調(diào)制盤(10)，所述調(diào)制盤(10)包括透明平面基板和在所述基板上的針孔(16)-簇(20)組合的X-Y行和列陣列，所述透明平面基板具有正面(14)和背面(12)，在所述正面(14)和所述背面(12)上都具有不透明層，每個簇(20)包括位于所述基板的所述正面(14)上的所述不透明層中的多個偏振計組(18)的X-Y陣列，其中每個簇(20)鄰近在所述基板的所述背面(12)上的所述不透明層中的對應的針孔(16)，每組偏振計(18)包括在每組內(nèi)的多個偏振圖監(jiān)視器的X-Y陣列，每個偏振計組(18)內(nèi)的每個監(jiān)視器與所述偏振計組(18)的中心相距限定的距離，并且每組偏振計(18)具有記號，所述記號標識簇行、簇列、所述偏振計組的中心相對于簇中心的X位置以及所述偏振計組的中心相對于簇中心的Y位置；
使來自所述光源的照射穿過所述調(diào)制盤(10)并曝光光致抗蝕劑層，從而所述監(jiān)視器依賴于照射的偏振產(chǎn)生可測量的輸出信號；以及
測量所述光致抗蝕劑層中的所產(chǎn)生的圖像，以確定穿過所述調(diào)制盤的所述照射的偏振度。
10.根據(jù)權利要求9的方法，其中所述偏振計組(18)包括X或Y偏振監(jiān)視器(24或22)并在所述光致抗蝕劑層處測量穿過所述調(diào)制盤的所述照射的X或Y偏振度。
11.根據(jù)權利要求9的方法，其中所述偏振計組(18)中的一個或多個包括X或Y偏振監(jiān)視器(24或22)，當來自光源的照射穿過所述調(diào)制盤(10)時，所述X或Y偏振監(jiān)視器(24或22)依賴于照射的X或Y偏振而在圖像平面處產(chǎn)生可測量的輸出信號。
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