[發明專利]用于探測目標物質的感測裝置有效
| 申請號: | 201080008124.4 | 申請日: | 2010-02-08 |
| 公開(公告)號: | CN102317758A | 公開(公告)日: | 2012-01-11 |
| 發明(設計)人: | D·M·布魯斯;T·H·埃弗斯;J·J·H·B·施萊彭 | 申請(專利權)人: | 皇家飛利浦電子股份有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/27 | 分類號: | G01N21/27;G01N21/55;G01N21/77;G01N33/543 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人: | 舒雄文;蹇煒 |
| 地址: | 荷蘭艾*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 探測 目標 物質 裝置 | ||
1.一種用于探測研究區域(113)中的目標物質(2)的感測裝置(100),包括:
-光源(11),生成入射光束L1,
-感測表面(112),具有研究區域(113)和參考區域(120),
-參考元件(121),位于所述參考區域(120)并配置為將所述參考區域(120)從所述目標物質(2)遮蔽,使得在全內反射條件下在所述參考區域(120)反射的光保持不受到所述目標物質(2)的存在或不存在的影響,
-校準器(20),比較所述參考區域(120)和所述研究區域(113)的輸出光L2。
-其中,所述參考元件(121)具有的折射率和尺寸使得在所述參考區域(120)引起的消逝場保持不受到所述目標物質(2)的存在或不存在的影響。
2.根據權利要求1所述的感測裝置(100),其中,所述研究區域(113)包括用于結合所述目標物質(2)的結合物(114)。
3.根據權利要求2所述的感測裝置(100),其中,所述感測裝置(100)被配置為分析介質(4)中的濃度小于或等于1nM的物質(2,2’)的存在。
4.根據權利要求1所述的感測裝置(100),其中,在所述參考區域(120)的所述感測表面(112)相對于所述研究區域(113)的所述感測表面(112)傾斜,以容許所述參考區域(120)的入射光束(L1)以比所述研究區域(113)的平行入射光束的角度淺的角度入射。
5.根據權利要求1所述的感測裝置(100),其中,所述參考區域(120)鄰近所述研究區域(113)。
6.根據權利要求1所述的感測裝置(100),其中,所述參考區域(120)包括反射入射光的鏡子(121)。
7.根據權利要求1所述的感測裝置(100),其中,所述感測裝置(100)為具有載體(110)的管頭(100),所述載體(110)上包括所述感測表面(112)。
8.根據權利要求1所述的感測裝置(100),還包括
-光源(11),將入射光(L1)引導至所述感測表面(112)的所述研究區域(113)和所述參考區域(120),以使得所述入射光(L1)在全內反射條件下在所述研究區域(113)和所述參考區域(120)被反射并由此生成反射光(L2),
-探測器(18),用于探測所述反射光(L2),以產生取決于所述研究區域(113)的反射的第一特征信號(213),和取決于所述參考區域(120)的反射的第二特征信號(220),以及
-校準器(20),用于考慮所述第二特征信號(220)來校準所述第一特征信號(213)。
9.根據權利要求8所述的感測裝置(100),其中,所述校準器(20)被配置為考慮所述第二特征信號(220)來校正或改善所述第一特征信號(213)的漂移。
10.根據權利要求1所述的感測裝置(100),被配置為與用于探測所述目標物質(2)的分析裝置協同操作,其中,所述分析裝置包括:
-用于容納所述感測裝置(100)的分析區域,
-光源(11),在所述感測裝置(100)容納于所述分析區域中時,將入射光(L1)引導至所述分析區域,使得所述入射光(L1)被引導至所述感測表面(112)的所述研究區域(113)和所述參考區域(120),并使得所述入射光(L1)在全內反射條件下在所述研究區域(113)和所述參考區域(120)被反射,由此生成反射光(L2),
-探測器(18),用于探測所述反射光(L2),以產生取決于所述研究區域(113)的反射的第一特征信號(213),和取決于所述參考區域(120)的反射的第二特征信號(220),以及
-校準器(20),用于考慮所述第二特征信號(220)來校準所述第一特征信號(213)。
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