[發明專利]用于磁感應斷層成像的方法和裝置無效
| 申請號: | 201080007443.3 | 申請日: | 2010-02-01 |
| 公開(公告)號: | CN102316796A | 公開(公告)日: | 2012-01-11 |
| 發明(設計)人: | C·H·伊格尼;M·哈姆施;P·馬祖爾凱維特茲;K-M·呂德克 | 申請(專利權)人: | 皇家飛利浦電子股份有限公司 |
| 主分類號: | A61B5/05 | 分類號: | A61B5/05 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人: | 王英;劉炳勝 |
| 地址: | 荷蘭艾*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 感應 斷層 成像 方法 裝置 | ||
1.一種用于重建感興趣對象的圖像的裝置,其包括:
多個發射線圈(102、103、115、116),用于產生初級磁場;
多個測量線圈(121、122、129、136);以及
用于選擇并激勵所述多個發射線圈之中的第一對發射線圈(102、116)的模塊(150),
其中,以這樣的方式來選擇并激勵所述第一對發射線圈(102、116):即,使得由所述第一對發射線圈所產生的初級磁場在所述多個測量線圈之中的至少一個測量線圈(121、129)的位置處最小。
2.如權利要求1所述的裝置,其中,所述模塊(150)進一步被布置為選擇并激勵所述多個發射線圈之中的第二對發射線圈(103、115),并且以這樣的方式來選擇并激勵所述第二對發射線圈:即,使得由所述第二對發射線圈所產生的初級磁場在所述至少一個第一測量線圈(121、129)的位置處最小。
3.如權利要求2所述的裝置,其中,通過同時為所述第一對發射線圈或所述第二對發射線圈中的每個線圈提供具有相等幅度和相反方向的交變電流,來激勵所述第一對發射線圈或所述第二對發射線圈。
4.如權利要求1所述的裝置,其中,將所述多個發射線圈和所述多個測量線圈布置成環形陣列。
5.如權利要求4所述的裝置,其中,所述多個發射線圈和所述多個測量線圈成對布置,且設置為圍繞管狀容器(100)的內壁。
6.一種用于重建感興趣對象的圖像的方法,其包括以下步驟:
選擇并激勵(310)多個發射線圈之中的第一對發射線圈;
用所述第一對發射線圈產生(320)要施加到所述感興趣對象上的初級磁場;以及
用至少一個測量線圈測量(330)由次級磁場所感生的電信號,以便進行圖像重建,所述次級磁場由所述感興趣對象響應于所述初級磁場而產生,
其中,以這樣的方式來選擇并激勵所述第一對發射線圈:即,使得由所述第一對發射線圈所產生的初級磁場在所述至少一個測量線圈的位置處最小。
7.如權利要求6所述的方法,還包括步驟(340):選擇并激勵所述多個發射線圈之中的第二對發射線圈,其中,以這樣的方式來選擇并激勵所述第二對發射線圈:即,使得由所述第二對發射線圈所產生的初級磁場在所述至少一個第一測量線圈的位置處最小。
8.如權利要求7所述的方法,其中,通過同時為所述第一對發射線圈或所述第二對發射線圈中的每個線圈提供具有相等幅度和相反方向的交變電流,來激勵所述第一對發射線圈或所述第二對發射線圈。
9.如權利要求6所述的方法,還包括步驟:將所述多個發射線圈和所述多個測量線圈布置成環形陣列。
10.如權利要求9所述的方法,還包括步驟:將所述多個發射線圈和所述多個測量線圈成對布置且圍繞管狀容器的內壁。
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