[發明專利]成像光學系統和具有此類型的成像光學系統的用于微光刻的投射曝光設備

有效

• 申請號: 201080007424.0
• 申請日: 2010-02-02
• 公開（公告）號: CN102317866A
• 公開（公告）日: 2012-01-11
• 發明（設計）人: 漢斯-于爾根.曼;威廉.烏爾里克;埃里克.洛普斯特拉;戴維.莎弗
• 申請（專利權）人: 卡爾蔡司SMT有限責任公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B17/06
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 邱軍

1.具有多個反射鏡(M1至M6)的成像光學系統(7)，所述多個反射鏡將物平面(5)中的物場(4)成像為像平面(9)中的像場(8)，

所述物場(4)和所述像場(8)之間的成像光(3)的光束路徑中的最后一個反射鏡(M6)具有用于所述成像光(3)通過的通孔(18)，

其特征在于，

-在所述物場(4)和所述像場(8)之間的成像光(3)的光束路徑中，在所述像場(8)的前方的成像光束(22)之外布置了所述成像光學系統(7)的倒數第二個反射鏡(M5)，

-所述倒數第二個反射鏡(M5)的、在所述倒數第二個反射鏡(M5)的光學使用的區域內的反射面沒有用于所述成像光(3)穿過的通孔。

2.具有多個反射鏡(M1至M6)的成像光學系統(7)，所述多個反射鏡將物平面(5)中的物場(4)成像為像平面(9)中的像場(8)，

其特征在于所述成像光學系統(7)的光學組件被布置為使得產生小于20％的光瞳遮擋。

3.如權利要求1或2所述的成像光學系統，其特征在于；所述成像光學系統(7)在所述成像光(3)的光束路徑中的倒數第二個反射鏡(M5)距所述像場(8)的工作間距(dw)至少為20mm。

4.如權利要求1至3中的任一項所述的成像光學系統，其特征在于所述成像光(3)在所述光束路徑中的倒數第二個反射鏡(M5)上的入射角最大為35°。

5.如權利要求1至4中的任一項所述的成像光學系統，

-在所述物場(4)和所述像場(8)之間的所述成像光(3)的光束路徑中的倒數第三個反射鏡(M4)與所述光束路徑中的倒數第二個反射鏡(M5)之間具有成像光束路徑部分(21)，

-其中所述成像光束路徑部分(21)的前方的成像光束路徑的至少一部分與所述像場(8)的區域中的成像光束(22)被引導在所述成像光束路徑部分(21)的相反側上。

6.如權利要求1至4中的任一項所述的成像光學系統，

-在所述物場(4)和所述像場(8)之間的所述成像光(3)的光束路徑中的倒數第三個反射鏡(M4)與所述光束路徑中的倒數第二個反射鏡(M5)之間具有成像光束路徑部分(21)，

-其中所述成像光束路徑部分(21)的前方的成像光束路徑的至少一部分與所述像場(8)的區域中的成像光束(22)被引導在所述成像光束路徑部分(21)的相同側上。

7.如權利要求1至6中的任一項所述的成像光學系統，其特征在于所述物場(4)和所述像場(8)之間的所述成像光(3)的光束路徑中的倒數第三個反射鏡(M4)與所述光束路徑中的倒數第六個反射鏡(M1)被布置為背對背。

8.如權利要求1至7中的任一項所述的成像光學系統，其特征在于在所述物場(4)和所述像場(8)之間的所述成像光(3)的光束路徑中存在至少一個中間像(19、26)。

9.如權利要求1至8中的任一項所述的成像光學系統，其特征在于成像光束路徑部分(24、28；24、21；28、24；28、25)之間的至少一個相交區域(29、30、31、32)。

10.如權利要求1至9中的任一項所述的成像光學系統，其特征在于至少0.3的數值孔徑。

11.如權利要求1至10中的任一項所述的成像光學系統，其特征在于所述像場(8)被配置為矩形場。

12.如權利要求1至11中的任一項所述的成像光學系統，其特征在于所述成像光學系統(7)被配置為用于微光刻的投射光學系統。

13.用于微光刻的投射曝光設備，

-具有根據權利要求12的投射光學系統(7)，

-具有用于照明和成像光(3)的光源(2)，

-具有用于將所述照明光(3)引導到所述成像光學系統(7)的物場(4)的照明光學系統(6)。

14.如權利要求13所述的投射曝光設備，其特征在于所述光源(2)被配置為產生具有5nm至30nm的波長的照明光(3)。