[發(fā)明專利]光學(xué)成像設(shè)備及制造該光學(xué)成像設(shè)備的方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201080006564.6
• 申請日: 2010-02-03
• 公開（公告）號: CN102356463A
• 公開（公告）日: 2012-02-15
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 摩西·克里曼;威廉·哈德森·韋爾奇;賈爾斯·漢普斯通;奧舍·阿夫斯安;費利克斯·哈扎諾維奇;葉卡捷琳娜·阿克塞爾羅德
• 申請（專利權(quán)）人: 數(shù)字光學(xué)(東部)公司
• 主分類號: H01L27/146
• 分類號: H01L27/146
• 代理公司: 中原信達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11219
• 代理人: 陸弋;王偉

1.一種光學(xué)成像設(shè)備，包括：

第一光學(xué)組件，所述第一光學(xué)組件包括輻射透射襯底和隔離物，

所述輻射透射襯底包括至少一個光學(xué)表面；以及，

傳感器組件，所述傳感器組件包括隔離物和至少一個感測元件，其中，所述第一光學(xué)組件的隔離物聯(lián)接到所述傳感器組件的隔離物。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像設(shè)備，其中，所述輻射透射襯底包括多個光學(xué)表面。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像設(shè)備，其中，所述第一光學(xué)組件的隔離物是光學(xué)組件隔離物晶片的單分部分。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學(xué)成像設(shè)備，其中，所述傳感器組件的隔離物是傳感器組件隔離物晶片的單分部分。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像設(shè)備，其中，所述第一光學(xué)組件的隔離物包括凹陷，包括所述至少一個光學(xué)表面的所述輻射透射襯底安置在所述凹陷中。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光學(xué)成像設(shè)備，其中，在所述凹陷的凸緣與包括所述至少一個光學(xué)表面的所述輻射透射襯底之間布置有聚焦隔離物。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光學(xué)成像設(shè)備，其中，所述第一光學(xué)組件的隔離物部分地限制通過所述光學(xué)組件的電磁輻射量。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像設(shè)備，其中，所述第一光學(xué)組件的隔離物由可用于吸收通過所述第一光學(xué)組件的一種或多種波長的電磁輻射的材料構(gòu)成。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像設(shè)備，其中，所述傳感器組件的隔離物包括彼此聯(lián)接的兩種或更多種材料的復(fù)合構(gòu)造。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光學(xué)成像設(shè)備，其中，所述兩種或更多種材料選自由焊接掩模、絕緣材料和硅材料構(gòu)成的組。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像設(shè)備，其中，所述至少一個感測元件是感測元件晶片的單分部分。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像設(shè)備，進一步包括聯(lián)接到所述傳感器組件的所述至少一個感測元件的電路。

13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像設(shè)備，其中，與傳感器組件隔離物的高度相結(jié)合的第一光學(xué)組件隔離物的高度將所述至少一個光學(xué)表面的焦點設(shè)定在所述感測元件的平面處或所述平面附近。

14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像設(shè)備，進一步包括至少一個另外的光學(xué)組件，所述至少一個另外的光學(xué)組件包括另外的輻射透射襯底和另外的隔離物，所述另外的輻射透射襯底包括至少一個另外的光學(xué)表面。

15.一種光學(xué)成像設(shè)備，包括：

光學(xué)組件，所述光學(xué)組件包括聯(lián)接到隔離物的多個光學(xué)元件；以及

傳感器組件，所述傳感器組件包括隔離物和至少一個感測元件，其中，所述光學(xué)組件的隔離物聯(lián)接到所述傳感器組件的隔離物。

16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光學(xué)成像設(shè)備，其中，所述光學(xué)組件的隔離物包括至少一個凹陷，所述光學(xué)元件中的一個至少部分地布置在所述至少一個凹陷中。

17.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光學(xué)成像設(shè)備，其中，所述光學(xué)組件的隔離物包括多個凹陷，所述光學(xué)元件至少部分地布置在所述多個凹陷中。

18.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光學(xué)成像設(shè)備，其中，所述多個光學(xué)元件以堆疊的構(gòu)造布置。

19.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光學(xué)成像設(shè)備，其中，所述光學(xué)組件的隔離物是光學(xué)組件隔離物晶片的單分部分。

20.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光學(xué)成像設(shè)備，其中，所述傳感器組件的隔離物是傳感器組件隔離物晶片的單分部分。

21.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光學(xué)成像設(shè)備，其中，所述至少一個感測元件是感測元件晶片的單分部分。

22.一種制造多個單獨的光學(xué)成像設(shè)備的方法，包括：

提供包括多個光學(xué)組件的晶片，所述光學(xué)組件包括隔離物和輻射透射襯底，所述輻射透射襯底具有至少一個光學(xué)表面；

提供傳感器晶片，所述傳感器晶片包括多個傳感器組件，所述傳感器組件包括感測元件和隔離物；

將所述光學(xué)組件的隔離物聯(lián)接到所述傳感器組件的隔離物，以提供多個結(jié)合的光學(xué)成像設(shè)備；以及

對所述結(jié)合的光學(xué)成像設(shè)備進行單分。