[發明專利]功率穩定的激光二極管陣列

無效

• 申請號: 201080006552.3
• 申請日: 2010-02-26
• 公開（公告）號: CN102308446A
• 公開（公告）日: 2012-01-04
• 發明（設計）人: A·法伊比什;T·塞格夫
• 申請（專利權）人: 伊斯曼柯達公司
• 主分類號: H01S5/00
• 分類號: H01S5/00;H01S5/068;H01S5/40;B41J2/455;H04N1/40;H01S5/06
• 代理公司: 北京戈程知識產權代理有限公司 11314
• 代理人: 程偉;王錦陽

1.一種光學功率穩定的激光二極管陣列，包括：

多個激光二極管；

圖像數據流，所述圖像數據流為所述激光二極管的每一個提供圖像數據；

數據流分析器，用于對每個激光二極管的所述圖像數據流進行分析以確定每個激光二極管的工作周期，并且用于基于所述工作周期對每個激光二極管的預計溫度改變進行計算；以及

光學功率穩定器，用于根據所述預計溫度改變而對應用至每個激光二極管的電流進行控制。

2.一種用于對發射激光二極管的光學功率穩定性進行控制的系統，所述激光二極管在激光二極管結點處顯現出溫度改變，其中所述溫度改變是根據激光二極管工作周期進行預測的，所述系統包括：

激光二極管，布置為在目標上發射光；

數據流分析器，配置為接收引入圖像數據流，其中所述引入圖像數據流被分析從而在所述數據流中產生大于零值的圖像數據發生因子；以及

光學功率穩定器，配置為根據所述圖像數據發生因子而對應用在激光二極管上的電流強度進行控制。

3.一種用于對發射激光二極管的陣列的光學功率輸出進行控制的系統，其中所述激光二極管的溫度改變影響所述激光二極管的輸出功率，所述系統包括：

數據流，應用于每個激光二極管；

數據流分析器，配置為產生每個激光二極管的圖像數據發生因子；以及

光學功率穩定器，配置為根據所述圖像數據發生因子而對應用于每個激光二極管的電流進行控制。

4.根據權利要求2所述的系統，其中所述目標是計算機直接制版(CTP)板系統。

5.根據權利要求1所述的系統，其中所述圖像數據流代表用于在目標上成像的圖像。

6.根據權利要求1所述的系統，其中所述圖像數據流代表半色調數據。

7.根據權利要求1所述的系統，其中所述溫度改變是根據用于激活每個所述激光二極管的所述圖像數據流對所述激光二極管的每一個進行預測的，所述圖像數據流用于至少一個相鄰激光二極管。

8.根據權利要求1所述的系統，其中所述激光二極管是垂直腔表面發射激光器(VCSEL)。

9.根據權利要求2所述的系統，其中在成像過程之前，所述數據流分析器對代表待成像的圖像數據的多個所述圖像數據發生因子進行計算。

10.根據權利要求1所述的系統，其中所述數據流分析器在成像過程中對所述引入數據流上的所述圖像數據發生因子進行計算。

11.根據權利要求2所述的系統，其中所述數據流分析器在成像過程中對所述引入數據流上的所述圖像數據發生因子進行計算。

12.一種用于對激光二極管的功率輸出進行控制的方法，其中所述激光二極管顯現出與激光二極管結點處的溫度改變相關的功率改變，其中所述溫度改變是根據激光二極管工作周期進行預測的，所述方法包括：

分析引入圖像數據流，其中所述引入圖像數據流被分析從而對于每個時間單位在所述數據流中產生大于零值的圖像數據發生因子；以及

對光學功率穩定器裝置進行調節，從而根據所述圖像數據發生因子對應用于每個激光二極管的電流進行控制。

13.一種計算機直接制版(CTP)成像設備，包括用于對發射激光二極管的功率進行控制的系統，所述激光二極管顯現出與激光二極管結點處的溫度改變相關的功率改變，其中所述溫度改變是根據激光二極管工作周期進行預測的，所述系統包括：

激光二極管，布置為在目標上發射光；

數據流分析器，配置為接收引入數據流，其中所述引入數據流被分析從而對于每個時間單位在所述數據流中產生大于零值的圖像數據發生因子；以及

光學功率穩定器，配置為根據所述圖像數據發生因子而對應用在激光二極管上的電流進行控制。