[發明專利]磁編碼器標尺無效
| 申請號: | 201080005714.1 | 申請日: | 2010-01-19 |
| 公開(公告)號: | CN102301204A | 公開(公告)日: | 2011-12-28 |
| 發明(設計)人: | 霍華德·特雷弗·索爾特;若弗雷·麥克法蘭;哈內斯·諾瓦克;柳博·斯拉巴杰納 | 申請(專利權)人: | 瑞尼斯豪公司;RLS梅里那技術公司 |
| 主分類號: | G01D5/14 | 分類號: | G01D5/14;G01D5/244;F15B15/28 |
| 代理公司: | 北京金思港知識產權代理有限公司 11349 | 代理人: | 邵毓琴 |
| 地址: | 英國格*** | 國省代碼: | 英國;GB |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 編碼器 標尺 | ||
1.一種用來制造編碼器標尺的方法,包括如下步驟:
(a)提供掩模,該掩模在編碼器標尺部件上限定所需的凹槽圖案,該編碼器標尺部件由第一材料形成,
(b)穿過所述掩模,從所述編碼器標尺部件蝕刻材料,以在編碼器標尺部件的外表面中形成多個凹槽,
(c)將第二材料沉積到編碼器標尺部件上,以大體填充凹槽,第二材料具有與第一材料不同的導磁率,
(d)使用機加工過程除去任何過多的第二材料,并由此提供具有大體光滑外表面的編碼器標尺部件,以及
(e)用金屬涂敷編碼器標尺部件的外表面。
2.根據權利要求1所述的方法,其中,步驟(a)包括如下步驟:將抗蝕劑層沉積到編碼器標尺部件的外表面上。
3.根據權利要求2所述的方法,其中,步驟(a)包括:摹制沉積的抗蝕劑層,以提供限定所需凹槽圖案的掩模。
4.根據任一以上權利要求所述的方法,其中,步驟(c)包括:穿過掩模用第二材料填充蝕刻的凹槽。
5.根據任一以上權利要求所述的方法,包括在步驟(c)與(d)之間的如下步驟:從編碼器標尺部件除去掩模。
6.根據任一以上權利要求所述的方法,其中,第一材料是磁性的。
7.根據權利要求6所述的方法,其中,第一材料包括鋼。
8.根據任一以上權利要求所述的方法,其中,第二材料是大體非磁性的。
9.根據權利要求8所述的方法,其中,第二材料包括錫、鋅及銅中的至少一種。
10.根據任一以上權利要求所述的方法,其中,編碼器標尺部件為桿的形式,該桿具有大體圓形橫截面。
11.根據權利要求10所述的方法,其中,在步驟(b)中形成的凹槽的每一個圍繞桿周向地延伸。
12.根據任一以上權利要求所述的方法,其中,在步驟(b)中形成的凹槽編碼一種圖案,該圖案提供絕對位置的測量。
13.根據任一以上權利要求所述的方法,其中,步驟(e)包括沉積鉻層。
14.根據任一以上權利要求所述的方法,包括如下另外步驟:拋光在步驟(e)中沉積的金屬層。
15.一種編碼器標尺,包括:
由第一材料形成的部件,所述部件在其外表面中具有多個凹槽;
第二材料,其填充在部件中的凹槽,所述第二材料具有與第一材料不同的導磁率,其中,第二材料在凹槽之間的區域中不存在;及
金屬涂層,它覆蓋所述部件和被填充的凹槽,其中,金屬涂層為編碼器標尺提供大體光滑的外表面。
16.一種制造編碼器標尺部件的方法,包括如下步驟:
(i)取得由第一材料形成的編碼器標尺部件,所述編碼器標尺部件在其外表面中具有多個凹槽;
(ii)將第二材料沉積在編碼器標尺部件上,以大體填充所述凹槽,第二材料具有與第一材料不同的導磁率;
(iii)應用機加工過程除去任何過多的第二材料,并由此提供具有大體光滑外表面的編碼器標尺部件;以及
(iv)用金屬涂敷編碼器標尺部件的外表面,其中,步驟(ii)包括將第二材料僅沉積到所述凹槽中,而不沉積到編碼器標尺部件的凹槽之間的區域上。
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